晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版及其對(duì)位結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版及其對(duì)位結(jié)構(gòu)，在菲林膠片的四周邊緣對(duì)應(yīng)網(wǎng)框和絲網(wǎng)的連接位置處設(shè)有遮光區(qū)域，從而在網(wǎng)版邊緣形成遮邊區(qū)域，克服了傳統(tǒng)菲林膠片沒有遮光區(qū)域，曬版過程中紫外線光對(duì)整個(gè)網(wǎng)版印刷面全方位曝光，而在網(wǎng)版和絲網(wǎng)的交界區(qū)域存在大量因涂布過程造成不可避免的感光乳劑殘留，經(jīng)過曬版、顯影環(huán)節(jié)不能完全徹底的把殘留感光乳劑沖洗干凈，導(dǎo)致成品網(wǎng)版依然存在部分殘留感光乳劑，從而導(dǎo)致網(wǎng)版印刷過程中，殘留乳劑出現(xiàn)顆粒狀脫落，混入印刷銀漿中，對(duì)漿料造成嚴(yán)重污染，隨之導(dǎo)致晶體硅印刷出現(xiàn)堵孔、EL增加、電性能降低、不良片增多、漿料浪費(fèi)等一系列嚴(yán)重問題，降低電池片等級(jí)，單價(jià)降低，成本嚴(yán)重提高。
【專利說明】
晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版及其對(duì)位結(jié)構(gòu)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及一種晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版及其對(duì)位結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)用于太陽能晶體硅印刷的正面柵線的網(wǎng)版，曬版工序會(huì)把網(wǎng)版邊緣多余的殘留感光膠通過強(qiáng)紫外線徹底固化，導(dǎo)致成品后邊緣多余感光膠無法擦拭干凈，大面積存在乳劑殘留，在網(wǎng)版使用過程中經(jīng)過刮膠高壓力(60-90N/cm2)多次數(shù)摩擦(目前市場(chǎng)上網(wǎng)版平均壽命為25000次)，殘留乳劑隨著印刷次數(shù)的增加，慢慢脫落，摻雜在漿料中，對(duì)漿料造成嚴(yán)重污染，從而造成印刷虛印、斷柵，直接影響晶體硅的光電轉(zhuǎn)換效率，對(duì)銀漿造成污染浪費(fèi)，致使印刷成本增加。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了克服上述缺陷，本發(fā)明提供了一種晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版及其對(duì)位結(jié)構(gòu)，解決太陽能晶體硅印刷網(wǎng)版邊緣殘留乳劑，對(duì)印刷效果的影響。
[0004]本發(fā)明為了解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版對(duì)位結(jié)構(gòu)，包括網(wǎng)框，該網(wǎng)框上張有絲網(wǎng)，該絲網(wǎng)的待形成圖案區(qū)域內(nèi)涂布有感光膠，該網(wǎng)框上對(duì)應(yīng)設(shè)有與該網(wǎng)框大小一致的菲林膠片，該菲林膠片對(duì)應(yīng)所述絲網(wǎng)的待形成圖案區(qū)域設(shè)置遮光區(qū)域和非遮光區(qū)域，該非遮光區(qū)域形成與待形成圖案區(qū)域一致的遮光圖案，所述菲林膠片的四周邊緣對(duì)應(yīng)所述網(wǎng)框和絲網(wǎng)的連接位置處設(shè)有遮光區(qū)域。
[0005]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述網(wǎng)框上還粘接有聚氨酯網(wǎng)布，所述絲網(wǎng)粘接于該聚氨酯網(wǎng)布上。
[0006]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述遮光區(qū)為所述聚氨酯網(wǎng)布和絲網(wǎng)重合部分并向內(nèi)側(cè)延伸4?6mm。
[0007]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述絲網(wǎng)為不銹鋼鋼絲網(wǎng)。
[0008]本發(fā)明還提供了一種根據(jù)所述的晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版對(duì)位結(jié)構(gòu)形成的晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版，包括網(wǎng)框，該網(wǎng)框上粘接有聚氨酯網(wǎng)布，該聚氨酯網(wǎng)布上粘接有絲網(wǎng)，該絲網(wǎng)中心區(qū)域形成圖案區(qū)域，所述網(wǎng)框內(nèi)側(cè)聚氨酯網(wǎng)布和絲網(wǎng)的重合部分并向內(nèi)側(cè)延伸4?6_形成遮邊區(qū)域。
[0009]本發(fā)明的有益效果是:該晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版及其對(duì)位結(jié)構(gòu)通過在菲林膠片上設(shè)置遮光區(qū)域，克服了傳統(tǒng)菲林膠片沒有遮光區(qū)域，曬版過程中紫外線光對(duì)整個(gè)網(wǎng)版S面(網(wǎng)版印刷面)全方位曝光，而在網(wǎng)版和絲網(wǎng)的交界區(qū)域存在大量因涂布過程造成不可避免的感光乳劑殘留，經(jīng)過曬版機(jī)機(jī)強(qiáng)紫外線照射以后，顯影環(huán)節(jié)不能完全徹底的把殘留感光乳劑沖洗干凈，導(dǎo)致成品網(wǎng)版依然存在部分殘留感光乳劑，從而導(dǎo)致網(wǎng)版印刷過程中，印刷刮條與網(wǎng)版經(jīng)過數(shù)以萬次的高壓力(60-100牛頓/平方厘米)反復(fù)摩擦，殘留乳劑出現(xiàn)顆粒狀脫落，混入印刷銀漿中，對(duì)漿料造成嚴(yán)重污染，隨之導(dǎo)致晶體硅印刷出現(xiàn)堵孔、EL增加、電性能降低、不良片增多、漿料浪費(fèi)等一系列嚴(yán)重問題，降低電池片等級(jí)，單價(jià)降低，成本嚴(yán)重提尚ο
[0010]本發(fā)明菲林膠片的遮光區(qū)域完全可以遮擋曬版過程中強(qiáng)紫外線對(duì)殘留乳劑的照射，使感光乳劑保持本身分子結(jié)構(gòu)不發(fā)生化學(xué)變化，保持曝光前本身自由的超強(qiáng)的水溶性，從而顯影過程中通過高壓水淋徹底沖洗掉殘留感光乳劑。
【附圖說明】
[0011]圖1為現(xiàn)有網(wǎng)版結(jié)構(gòu)不意圖；
[0012]圖2為本發(fā)明所述遮邊網(wǎng)版結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖3為現(xiàn)有的菲林膠片結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖4為本發(fā)明所述菲林膠片結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]結(jié)合附圖，作以下說明:
[0016]1--網(wǎng)框2--絲網(wǎng)
[0017]21一一圖案區(qū)域3—一菲林膠片
[0018]31——遮光圖案32——遮光區(qū)域
[0019]5——聚氨酯網(wǎng)布6——遮邊區(qū)域
【具體實(shí)施方式】
[0020]以下結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明的一個(gè)較佳實(shí)施例作詳細(xì)說明。但本發(fā)明的保護(hù)范圍不限于下述實(shí)施例，即但凡以本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍及說明書內(nèi)容所作的簡(jiǎn)單的等效變化與修飾，皆仍屬本發(fā)明專利涵蓋范圍之內(nèi)。
[0021 ] 參閱圖2、4，一種晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版對(duì)位結(jié)構(gòu)，包括網(wǎng)框I，該網(wǎng)框上張有絲網(wǎng)2，該絲網(wǎng)的待形成圖案區(qū)域21內(nèi)涂布有感光膠，該網(wǎng)框上對(duì)應(yīng)設(shè)有與該網(wǎng)框大小一致的菲林膠片3，該菲林膠片對(duì)應(yīng)所述絲網(wǎng)的待形成圖案區(qū)域21設(shè)置遮光區(qū)域和非遮光區(qū)域，該非遮光區(qū)域形成與待形成圖案區(qū)域21—致的遮光圖案31，所述菲林膠片的四周邊緣對(duì)應(yīng)所述網(wǎng)框和絲網(wǎng)的連接位置處設(shè)有遮光區(qū)域32。
[0022]優(yōu)選的，所述網(wǎng)框上還粘接有聚氨酯網(wǎng)布5，所述絲網(wǎng)粘接于該聚氨酯網(wǎng)布上；所述遮光區(qū)為所述聚氨酯網(wǎng)布和絲網(wǎng)重合部分并向內(nèi)側(cè)延伸4?6mm;所述絲網(wǎng)2為不銹鋼鋼絲網(wǎng)。
[0023]參閱圖2，為本發(fā)明所述的晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版對(duì)位結(jié)構(gòu)形成的晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版，包括網(wǎng)框I，該網(wǎng)框上粘接有聚氨酯網(wǎng)布5，該聚氨酯網(wǎng)布上粘接有絲網(wǎng)2，該絲網(wǎng)中心區(qū)域形成圖案區(qū)域21，所述網(wǎng)框內(nèi)側(cè)聚氨酯網(wǎng)布和絲網(wǎng)的重合部分并向內(nèi)側(cè)延伸4?6_形成遮邊區(qū)域6。
[0024]該晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版及其對(duì)位結(jié)構(gòu)通過在菲林膠片3上設(shè)置遮光區(qū)域32(參閱圖4)，克服了傳統(tǒng)菲林膠片沒有遮光區(qū)域(參閱圖3)，曬版過程中紫外線光對(duì)整個(gè)網(wǎng)版S面(網(wǎng)版印刷面)全方位曝光(參閱圖1)，而在網(wǎng)版和絲網(wǎng)的交界區(qū)域存在大量因涂布過程造成不可避免的感光乳劑殘留，經(jīng)過曬版機(jī)機(jī)強(qiáng)紫外線照射以后，顯影環(huán)節(jié)不能完全徹底的把殘留感光乳劑沖洗干凈，導(dǎo)致成品網(wǎng)版依然存在部分殘留感光乳劑，從而導(dǎo)致網(wǎng)版印刷過程中，印刷刮條與網(wǎng)版經(jīng)過數(shù)以萬次的高壓力(60-100牛頓/平方厘米)反復(fù)摩擦，殘留乳劑出現(xiàn)顆粒狀脫落，混入印刷銀漿中，對(duì)漿料造成嚴(yán)重污染，隨之導(dǎo)致晶體硅印刷出現(xiàn)堵孔、EL增加、電性能降低、不良片增多、楽料浪費(fèi)等一系列嚴(yán)重問題，降低電池片等級(jí)，單價(jià)降低，成本嚴(yán)重提高。
[0025]本發(fā)明菲林膠片3的遮光區(qū)域32完全可以遮擋曬版過程中強(qiáng)紫外線對(duì)殘留乳劑的照射，使感光乳劑保持本身分子結(jié)構(gòu)不發(fā)生化學(xué)變化，保持曝光前本身自由的超強(qiáng)的水溶性，從而顯影過程中通過高壓水淋徹底沖洗掉殘留感光乳劑。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版對(duì)位結(jié)構(gòu)，包括網(wǎng)框(I)，該網(wǎng)框上張有絲網(wǎng)(2)，該絲網(wǎng)的待形成圖案區(qū)域(21)內(nèi)涂布有感光膠，該網(wǎng)框上對(duì)應(yīng)設(shè)有與該網(wǎng)框大小一致的菲林膠片(3)，該菲林膠片對(duì)應(yīng)所述絲網(wǎng)的待形成圖案區(qū)域(21)設(shè)置遮光區(qū)域和非遮光區(qū)域，該非遮光區(qū)域形成與待形成圖案區(qū)域(21) —致的遮光圖案(31)，其特征在于:所述菲林膠片的四周邊緣對(duì)應(yīng)所述網(wǎng)框和絲網(wǎng)的連接位置處設(shè)有遮光區(qū)域(32)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版對(duì)位結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述網(wǎng)框上還粘接有聚氨酯網(wǎng)布(5)，所述絲網(wǎng)粘接于該聚氨酯網(wǎng)布上。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版對(duì)位結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述遮光區(qū)為所述聚氨酯網(wǎng)布和絲網(wǎng)重合部分并向內(nèi)側(cè)延伸4?6_。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版對(duì)位結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述絲網(wǎng)(2)為不銹鋼鋼絲網(wǎng)。5.—種根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版對(duì)位結(jié)構(gòu)形成的晶體硅印刷遮邊網(wǎng)版，包括網(wǎng)框(I)，該網(wǎng)框上粘接有聚氨酯網(wǎng)布(5)，該聚氨酯網(wǎng)布上粘接有絲網(wǎng)(2)，該絲網(wǎng)中心區(qū)域形成圖案區(qū)域(21)，其特征在于:所述網(wǎng)框內(nèi)側(cè)聚氨酯網(wǎng)布和絲網(wǎng)的重合部分并向內(nèi)側(cè)延伸4?6mm形成遮邊區(qū)域(6)。
【文檔編號(hào)】B41F15/14GK106079861SQ201610695036
【公開日】2016年11月9日
【申請(qǐng)日】2016年8月22日 公開號(hào)201610695036.5, CN 106079861 A, CN 106079861A, CN 201610695036, CN-A-106079861, CN106079861 A, CN106079861A, CN201610695036, CN201610695036.5
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