一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材ab膠膜的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及粘膠技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材AB膠膜。
【背景技術(shù)】
[0002]目前市場(chǎng)上提供的應(yīng)用于鋼化玻璃的AB膠，其主要是以PET為基材，基材的一面是硅膠，基材的另一面是其他粘膠材料。
[0003]該AB膠生產(chǎn)工藝主要是:先在PET基材的一面上涂布粘膠材料后覆上鋼化玻璃膜，然后在PET基材的另一面涂布硅膠并與手機(jī)等移動(dòng)終端貼合。手機(jī)等移動(dòng)終端在使用的過(guò)程中常常存在電磁波，但是現(xiàn)有的AB膠普遍存在抗電磁波性能差的缺陷；而手機(jī)產(chǎn)品在使用的過(guò)程中或多或少都會(huì)發(fā)出一些藍(lán)光，危害使用者的健康，因此具有良好的抗藍(lán)光性能的AB膠也是目前市場(chǎng)急需的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)和不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材AB膠膜，其抗藍(lán)光性能良好，且具有優(yōu)異的抗電磁波性能。
[0005]本實(shí)用新型的目的通過(guò)下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材AB膠膜，包括基材層、設(shè)于基材層上表面的抗藍(lán)光層、設(shè)于抗藍(lán)光層上表面的粘著劑層、設(shè)于粘著劑層的上表面的離型膜層、設(shè)于基材層的下表面的硅膠層以及設(shè)于硅膠層的下表面的剝離層，所述基材層的內(nèi)部包含有納米金屬顆粒。
[0006]其中，所述抗藍(lán)光層為抗藍(lán)光UV丙烯酸樹(shù)脂層。
[0007]其中，所述抗藍(lán)光層的內(nèi)部包含有納米稀土熒光顆粒。
[0008]其中，所述離型膜層為PET膜層，離型膜層的透光率大于87%。
[0009]其中，所述粘著劑層為丙烯酸類(lèi)、有機(jī)硅類(lèi)或聚氨酯類(lèi)材料層。
[0010]其中，所述基材層為PET聚酯薄膜層。
[0011]其中，所述剝離層為PET、PE或0ΡΡ膜層，剝離層的透光率大于87%。
[0012]其中，所述離型膜層的厚度為25_50μπι，所述粘著劑層的厚度為25_40μπι，抗藍(lán)光層的厚度為8_20μπι。
[0013]其中，所述基材層的厚度為30_70μπι。
[0014]其中，所述硅膠層的厚度為25_40μπι，所述剝離層的厚度為25_50μπι。
[0015]其中，所述離型膜層和剝離層的邊角處均設(shè)有手撕部。
[0016]其中，所述納米金屬顆粒的粒徑為15-100nm，所述納米稀土焚光顆粒的粒徑為15-lOOnm。
[0017]其中，所述剝離層的下表面設(shè)有菱形標(biāo)識(shí)體。
[0018]本實(shí)用新型的有益效果在于:本實(shí)用新型的基材層的上表面設(shè)有抗藍(lán)光層，抗藍(lán)光性能良好，基材層的內(nèi)部包含有納米金屬顆粒，抗電磁波干擾性能優(yōu)異;在本實(shí)用新型的使用過(guò)程中，先將離型膜層撕開(kāi)，在粘著劑層的表面貼合鋼化玻璃，利用粘著劑層的強(qiáng)粘接力，使粘著劑層與鋼化玻璃緊密貼合，然后將剝離層撕開(kāi)，將硅膠層貼合于手機(jī)等移動(dòng)終端產(chǎn)品上，硅膠層具有自動(dòng)排氣的功能，內(nèi)部不會(huì)產(chǎn)生氣泡，貼合效果好，從而使手機(jī)等移動(dòng)終端產(chǎn)品的表面可穩(wěn)定地覆蓋鋼化玻璃，保護(hù)移動(dòng)終端產(chǎn)品的屏幕不被刮花，提高移動(dòng)終端產(chǎn)品的表面抗沖擊性能。
【附圖說(shuō)明】
[0019]圖1是本實(shí)用新型的示意圖。
[0020]圖2是本實(shí)用新型的仰視圖。
[0021]附圖標(biāo)記為:1一基材層、2—抗藍(lán)光層、3—粘著劑層、4一離型膜層、5—硅膠層、6—?jiǎng)兩袑印? 一手撕部、8 一菱形標(biāo)識(shí)體。
【具體實(shí)施方式】
[0022]為了便于本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解，下面結(jié)合實(shí)施例及附圖1對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明，實(shí)施方式提及的內(nèi)容并非對(duì)本實(shí)用新型的限定。
[0023]見(jiàn)圖1，一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材AB膠膜，包括基材層1、設(shè)于基材層1上表面的抗藍(lán)光層2、設(shè)于抗藍(lán)光層2上表面的粘著劑層3、設(shè)于粘著劑層3的上表面的離型膜層4、設(shè)于基材層1的下表面的硅膠層5以及設(shè)于硅膠層5的下表面的剝離層6，所述基材層1的內(nèi)部包含有納米金屬顆粒。
[0024]本實(shí)用新型的基材層1的上表面設(shè)有抗藍(lán)光層2，抗藍(lán)光性能良好，基材層1的內(nèi)部包含有納米金屬顆粒，抗電磁波干擾性能優(yōu)異;在本實(shí)用新型的使用過(guò)程中，先將離型膜層4撕開(kāi)，在粘著劑層3的表面貼合鋼化玻璃，利用粘著劑層3的強(qiáng)粘接力，使粘著劑層3與鋼化玻璃緊密貼合，然后將剝離層6撕開(kāi)，將硅膠層5貼合于手機(jī)等移動(dòng)終端產(chǎn)品上，硅膠層5具有自動(dòng)排氣的功能，內(nèi)部不會(huì)產(chǎn)生氣泡，貼合效果好，從而使手機(jī)等移動(dòng)終端產(chǎn)品的表面可穩(wěn)定地覆蓋鋼化玻璃，保護(hù)移動(dòng)終端產(chǎn)品的屏幕不被刮花，提高移動(dòng)終端產(chǎn)品的表面抗沖擊性能。
[0025]其中，所述抗藍(lán)光層2為抗藍(lán)光UV丙烯酸樹(shù)脂層。抗藍(lán)光UV丙烯酸樹(shù)脂層的抗藍(lán)光性能良好，抗藍(lán)光率可達(dá)45%以上。
[0026]其中，所述抗藍(lán)光層2的內(nèi)部包含有納米稀土熒光顆粒。通過(guò)在抗藍(lán)光層2的內(nèi)部添加納米級(jí)的納米稀土熒光顆粒進(jìn)一步增強(qiáng)抗藍(lán)光層2的抗藍(lán)光性能，進(jìn)一步提高了本實(shí)用新型的抗藍(lán)光率，抗藍(lán)光率可達(dá)到80%以上。
[0027]其中，所述離型膜層4為PET膜層，離型膜層4的透光率大于87%。離型膜層4的透光率高，有利于提高AB膠膜的整體透光率，PET膜的價(jià)格相對(duì)便宜，能夠有效降低本實(shí)用新型的生產(chǎn)成本。
[0028]其中，所述粘著劑層3為丙烯酸類(lèi)、有機(jī)硅類(lèi)或聚氨酯類(lèi)材料層。具體地，所述粘著劑層3為聚氨酯類(lèi)材料層，其粘接性能好，貼合效果好。
[0029]其中，所述基材層1為PET聚酯薄膜層。PET聚酯薄膜的價(jià)格相對(duì)便宜，能夠有效降低本實(shí)用新型的生產(chǎn)成本。
[0030]其中，所述剝離層6為PET、PE或0ΡΡ膜層，剝離層6的透光率大于87%。具體地，所述剝離層6為0ΡΡ膜層。[0031 ]其中，所述離型膜層4的厚度為25-50μπι，所述粘著劑層3的厚度為25-40μπι，抗藍(lán)光層2的厚度為8-20μπι。具體地，所述離型膜層4的厚度為25μπι，所述粘著劑層3的厚度為40μπι，抗藍(lán)光層2的厚度為12μπι。離型膜層4、粘著劑層3和抗藍(lán)光層2的厚度適中，確保制得的ΑΒ膠膜的整體厚度較薄。
[0032]其中，所述基材層1的厚度為30_70μπι。具體地，所述基材層1的厚度為60μπι?；膶?的厚度適中，確保制得的ΑΒ膠膜的整體厚度較薄。
[0033]其中，所述硅膠層5的厚度為25-40μπι，所述剝離層6的厚度為25-50μπι。具體地，所述硅膠層5的厚度為40μπι，所述剝離層6的厚度為25μπι。硅膠層5和剝離層6的厚度適中，確保制得的ΑΒ膠膜的整體厚度較薄。
[0034]其中，所述離型膜層4和剝離層6的邊角處均設(shè)有手撕部7。手撕部7的設(shè)置便于使用者將離型膜層4或者剝離層6撕下，方便實(shí)用。
[°035] 其中，所述納米金屬顆粒的粒徑為15-100nm，所述納米稀土焚光顆粒的粒徑為15-lOOnm。納米金屬顆粒和納米稀土焚光顆粒的粒徑大小適中，粒徑過(guò)小則打磨成本高，粒徑過(guò)大則會(huì)影響AB膠膜的透光率。
[0036]其中，所述剝離層6的下表面設(shè)有菱形標(biāo)識(shí)體8。菱形標(biāo)識(shí)體8便于使用者區(qū)分剝離層6和離型膜層4，避免反方向使用AB膠膜，同時(shí)，在AB膠膜與鋼化玻璃貼合時(shí)，菱形標(biāo)識(shí)體8能起到一定的對(duì)位作用，便于貼合。
[0037]上述實(shí)施例為本實(shí)用新型較佳的實(shí)現(xiàn)方案，除此之外，本實(shí)用新型還可以其它方式實(shí)現(xiàn)，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下任何顯而易見(jiàn)的替換均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:包括基材層、設(shè)于基材層上表面的抗藍(lán)光層、設(shè)于抗藍(lán)光層上表面的粘著劑層、設(shè)于粘著劑層的上表面的離型膜層、設(shè)于基材層的下表面的硅膠層以及設(shè)于硅膠層的下表面的剝離層，所述基材層的內(nèi)部包含有納米金屬顆粒。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:所述抗藍(lán)光層為抗藍(lán)光UV丙烯酸樹(shù)脂層。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:所述抗藍(lán)光層的內(nèi)部包含有納米稀土熒光顆粒。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:所述離型膜層為PET膜層，離型膜層的透光率大于87%。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:所述粘著劑層為丙烯酸類(lèi)、有機(jī)硅類(lèi)或聚氨酯類(lèi)材料層。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:所述基材層為PET聚酯薄膜層。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:所述剝離層為PET、PE或OPP膜層，剝離層的透光率大于87%。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:所述離型膜層的厚度為25-50μπι，所述粘著劑層的厚度為25-40μπι，抗藍(lán)光層的厚度為8-20μπι。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材ΑΒ膠膜，其特征在于:所述基材層的厚度為30-70μπι。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材ΑΒ膠膜，其特征在于:所述硅膠層的厚度為25-40μπι，所述剝離層的厚度為25-50μπι。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及粘膠技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種抗藍(lán)光抗電磁波有基材AB膠膜，包括基材層、設(shè)于基材層上表面的抗藍(lán)光層、設(shè)于抗藍(lán)光層上表面的粘著劑層、設(shè)于粘著劑層的上表面的離型膜層、設(shè)于基材層的下表面的硅膠層以及設(shè)于硅膠層的下表面的剝離層，所述基材層的內(nèi)部包含有納米金屬顆粒。本實(shí)用新型的抗藍(lán)光性能良好，且具有優(yōu)異的抗電磁波性能。
【IPC分類(lèi)】B32B33/00, B32B15/02, B32B3/08, B32B27/30, B32B7/10, B32B27/08, B32B27/36, B32B5/16, B32B9/00, B32B7/06, B32B25/08
【公開(kāi)號(hào)】CN205130536
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520842255
【發(fā)明人】林凱
【申請(qǐng)人】東莞市納利光學(xué)材料有限公司
【公開(kāi)日】2016年4月6日
【申請(qǐng)日】2015年10月28日