一種晶片覆膜機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實用新型涉及一種覆膜機(jī)，具體涉及一種晶片覆膜機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]覆膜機(jī)可分為即涂型覆膜機(jī)和預(yù)涂型覆膜機(jī)兩大類;是一種用于紙類、板材、裱膜專用設(shè)備，經(jīng)橡皮滾筒和加熱滾筒加壓后合在一起;覆膜機(jī)可分為即涂型覆膜機(jī)和預(yù)涂型覆膜機(jī)兩大類。是一種用于紙類、薄膜專用設(shè)備。即涂型覆膜機(jī)包括上膠、烘干、熱壓三部分，其適用范圍寬，加工性能穩(wěn)定可靠，是目前國內(nèi)廣泛使用的覆膜設(shè)備。預(yù)涂型覆膜機(jī)，無上膠和干燥部分，體積小、造價低、操作靈活方便，不僅適用大批量印刷品的覆膜加工，而且適用自動化桌面辦公系統(tǒng)等小批量、零散的印刷品的覆膜加工，很有發(fā)展前途。現(xiàn)有的晶片不方便實現(xiàn)覆膜操控。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的缺陷和不足，提供一種可以將待處理的晶片的上端通過磁吸片安裝在金屬片上，可以將覆膜液倒入過濾罐內(nèi)，通過過濾網(wǎng)方便對覆膜液進(jìn)行過濾處理，從而大大提高了覆膜液的過濾效率，且方便對晶片進(jìn)行覆膜操作的晶片覆膜機(jī)。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用的技術(shù)方案是:
[0005]—種晶片覆膜機(jī)，包括覆膜池，覆膜池的底部設(shè)有第一移動輪與第二移動輪，第一移動輪與第二移動輪的形狀大小相同，第一移動輪與第二移動輪均為萬向輪;覆膜池的端部一側(cè)設(shè)有第一支撐桿，第一支撐桿為桿狀結(jié)構(gòu)，第一支撐桿呈豎直布置，覆膜池的端部另一側(cè)設(shè)有第二支撐桿，第二支撐桿為桿狀結(jié)構(gòu)，第二支撐桿呈豎直布置;第二支撐桿與第一支撐桿的端部之間設(shè)有頂桿，頂桿呈水平布置，頂桿設(shè)有導(dǎo)向管，導(dǎo)向管呈豎直布置，導(dǎo)向管的上端設(shè)有旋管，旋管與導(dǎo)向管的上端通過卡扣連接，旋管的內(nèi)表面設(shè)有內(nèi)螺紋，導(dǎo)向管內(nèi)套裝有升降調(diào)節(jié)管，升降調(diào)節(jié)管的上端為自由端，升降調(diào)節(jié)管的下端設(shè)有浸漬桿，浸漬桿的上端側(cè)壁設(shè)有第一金屬片，第一金屬片設(shè)有第一磁吸片，浸漬桿的下端側(cè)壁設(shè)有第二金屬片，第二金屬片上設(shè)有第二磁吸片，第二磁吸片與第一磁吸片對應(yīng);覆膜池的端部設(shè)有過濾罐，過濾罐的端部設(shè)有端蓋，過濾罐內(nèi)設(shè)有第一過濾網(wǎng)與第二過濾網(wǎng)；第一過濾網(wǎng)與第二過濾網(wǎng)呈水平布置。
[0006]進(jìn)一步的，所述覆膜池設(shè)有輸液栗。
[0007]進(jìn)一步的，所述輸液栗設(shè)置在覆膜池的端部側(cè)壁。
[0008]進(jìn)一步的，所述覆膜池設(shè)有出液栗。
[0009]進(jìn)一步的，所述出液栗設(shè)置在覆膜池的底部側(cè)壁。
[0010]采用上述結(jié)構(gòu)后，本實用新型有益效果為:可以將待處理的晶片的上端通過第一磁吸片安裝在第一金屬片上，可以將待處理的晶片的下端通過第二磁吸片安裝在第二金屬片上;可以將覆膜液倒入過濾罐內(nèi)，通過第一過濾網(wǎng)與第二過濾網(wǎng)方便對覆膜液進(jìn)行過濾處理，從而大大提高了覆膜液的過濾效率，且方便對晶片進(jìn)行覆膜操作。
【附圖說明】

[0011]圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)不意圖；
[0012]附圖標(biāo)記說明:
[0013]覆膜池11、第一移動輪12、第二移動輪13、輸液栗14、出液栗15、第一支撐桿16、第二支撐桿17、頂部18、導(dǎo)向管19、旋管20、升降調(diào)節(jié)管21、浸漬桿22、第一金屬片23、第一磁吸片24、第二金屬片25、第二磁吸片26、過濾罐27、端蓋28、第一過濾網(wǎng)29、第二過濾網(wǎng)30。
【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖對本實用新型作進(jìn)一步的說明。
[0015]如圖1所示，本實用新型所述的一種晶片覆膜機(jī)，包括覆膜池11，覆膜池11的底部設(shè)有第一移動輪12與第二移動輪13，第一移動輪12與第二移動輪13的形狀大小相同，第一移動輪12與第二移動輪13均為萬向輪;覆膜池11的端部一側(cè)設(shè)有第一支撐桿16，第一支撐桿16為桿狀結(jié)構(gòu)，第一支撐桿16呈豎直布置，覆膜池11的端部另一側(cè)設(shè)有第二支撐桿17，第二支撐桿17為桿狀結(jié)構(gòu)，第二支撐桿17呈豎直布置;第二支撐桿17與第一支撐桿16的端部之間設(shè)有頂桿18，頂桿18呈水平布置，頂桿18設(shè)有導(dǎo)向管19，導(dǎo)向管19呈豎直布置，導(dǎo)向管19的上端設(shè)有旋管20，旋管20與導(dǎo)向管19的上端通過卡扣連接，旋管20的內(nèi)表面設(shè)有內(nèi)螺紋，導(dǎo)向管19內(nèi)套裝有升降調(diào)節(jié)管21，升降調(diào)節(jié)管21的上端為自由端，升降調(diào)節(jié)管21的下端設(shè)有浸漬桿22，浸漬桿22的上端側(cè)壁設(shè)有第一金屬片23，第一金屬片23設(shè)有第一磁吸片24，浸漬桿22的下端側(cè)壁設(shè)有第二金屬片25，第二金屬片25上設(shè)有第二磁吸片26，第二磁吸片26與第一磁吸片24對應(yīng);覆膜池11的端部設(shè)有過濾罐27，過濾罐27的端部設(shè)有端蓋28，過濾罐27內(nèi)設(shè)有第一過濾網(wǎng)29與第二過濾網(wǎng)30;第一過濾網(wǎng)29與第二過濾網(wǎng)30呈水平布置;覆膜池11設(shè)有輸液栗14，輸液栗14設(shè)置在覆膜池11的端部側(cè)壁，覆膜池11設(shè)有出液栗15，出液栗15設(shè)置在覆膜池11的底部側(cè)壁。
[0016]本實用新型晶片覆膜機(jī)，可以將待處理的晶片的上端通過第一磁吸片24安裝在第一金屬片23上，可以將待處理的晶片的下端通過第二磁吸片26安裝在第二金屬片25上；可以將覆膜液倒入過濾罐27內(nèi)，通過第一過濾網(wǎng)29與第二過濾網(wǎng)30方便對覆膜液進(jìn)行過濾處理，從而大大提高了覆膜液的過濾效率，且方便對晶片進(jìn)行覆膜操作。
[0017]其中，覆膜池11設(shè)有輸液栗14，輸液栗14設(shè)置在覆膜池11的端部側(cè)壁，覆膜池11設(shè)有出液栗15，出液栗15設(shè)置在覆膜池11的底部側(cè)壁，所以通過輸液栗14方便清洗液的輸入，通過出液栗15方便廢液的輸出，從而方便對覆膜池11進(jìn)行清洗。
[0018]以上所述僅是本實用新型的較佳實施方式，故凡依本實用新型專利申請范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均包括于本實用新型專利申請范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種晶片覆膜機(jī)，包括覆膜池(11)，其特征在于:覆膜池(11)的底部設(shè)有第一移動輪(12)與第二移動輪(13)，第一移動輪(12)與第二移動輪(13)的形狀大小相同，第一移動輪(12)與第二移動輪(13)均為萬向輪;覆膜池(11)的端部一側(cè)設(shè)有第一支撐桿(16)，第一支撐桿(16)為桿狀結(jié)構(gòu)，第一支撐桿(16)呈豎直布置，覆膜池(11)的端部另一側(cè)設(shè)有第二支撐桿(17)，第二支撐桿(17)為桿狀結(jié)構(gòu)，第二支撐桿(17)呈豎直布置;第二支撐桿(17)與第一支撐桿(16)的端部之間設(shè)有頂桿(18)，頂桿(18)呈水平布置，頂桿(18)設(shè)有導(dǎo)向管(19)，導(dǎo)向管(19)呈豎直布置，導(dǎo)向管(19)的上端設(shè)有旋管(20)，旋管(20)與導(dǎo)向管(19)的上端通過卡扣連接，旋管(20)的內(nèi)表面設(shè)有內(nèi)螺紋，導(dǎo)向管(19)內(nèi)套裝有升降調(diào)節(jié)管(21)，升降調(diào)節(jié)管(21)的上端為自由端，升降調(diào)節(jié)管(21)的下端設(shè)有浸漬桿(22)，浸漬桿(22)的上端側(cè)壁設(shè)有第一金屬片(23)，第一金屬片(23)設(shè)有第一磁吸片(24)，浸漬桿(22)的下端側(cè)壁設(shè)有第二金屬片(25)，第二金屬片(25)上設(shè)有第二磁吸片(26)，第二磁吸片(26)與第一磁吸片(24)對應(yīng);覆膜池(11)的端部設(shè)有過濾罐(27 )，過濾罐(27 )的端部設(shè)有端蓋(28)，過濾罐(27)內(nèi)設(shè)有第一過濾網(wǎng)(29)與第二過濾網(wǎng)(30);第一過濾網(wǎng)(29)與第二過濾網(wǎng)(30)呈水平布置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶片覆膜機(jī)，其特征在于:覆膜池(11)設(shè)有輸液栗(14)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶片覆膜機(jī)，其特征在于:輸液栗(14)設(shè)置在覆膜池(11)的端部側(cè)壁。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶片覆膜機(jī)，其特征在于:覆膜池(11)設(shè)有出液栗(15)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的晶片覆膜機(jī)，其特征在于:出液栗(15)設(shè)置在覆膜池(11)的底部側(cè)壁。
【專利摘要】本實用新型涉及一種晶片覆膜機(jī)，包括覆膜池，覆膜池的端部設(shè)有支撐桿，支撐桿的端部之間設(shè)有頂桿，頂桿設(shè)有導(dǎo)向管，導(dǎo)向管內(nèi)套裝有升降調(diào)節(jié)管，升降調(diào)節(jié)管的上端為自由端，升降調(diào)節(jié)管的下端設(shè)有浸漬桿，浸漬桿設(shè)有金屬片，金屬片上設(shè)有磁吸片，過濾罐內(nèi)設(shè)有過濾網(wǎng)。本實用新型可以將覆膜液倒入過濾罐內(nèi)，通過過濾網(wǎng)方便對覆膜液進(jìn)行過濾處理，從而大大提高了覆膜液的過濾效率，且方便對晶片進(jìn)行覆膜操作。
【IPC分類】B32B37/24, B32B38/18
【公開號】CN205386978
【申請?zhí)枴緾N201521021977
【發(fā)明人】許春杰, 謝保衛(wèi)
【申請人】江蘇潤麗光能科技發(fā)展有限公司
【公開日】2016年7月20日
【申請日】2015年12月10日