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裝飾性金屬圖案的制造方法及電子裝置制造方法

文檔序號(hào):8067647閱讀:130來源:國(guó)知局
裝飾性金屬圖案的制造方法及電子裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種裝飾性金屬圖案的制造方法及電子裝置。該制造方法包括下列步驟。提供一殼體,其中殼體具有一表面,接著形成一金屬層于殼體的表面,之后再形成一第一蝕刻掩模至金屬層上。而光蝕刻則將暴露于第一蝕刻掩模外的金屬層去除或削減。最后移除第一蝕刻掩模,通過光蝕刻的方式在殼體的局部區(qū)域制作出裝飾性金屬圖案,以使殼體具有金屬質(zhì)感與光澤的圖案造型,以及使天線的信號(hào)可通過殼體傳輸信號(hào)。本發(fā)明還提供包括上述的裝飾性金屬圖案的一電子裝置。
【專利說明】裝飾性金屬圖案的制造方法及電子裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種金屬圖案的制造方法及電子裝置,且特別是涉及一種裝飾性金屬圖案的制造方法及包括裝飾性金屬圖案的電子裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)今,為了增進(jìn)商品美觀,在商品的殼體上形成圖案已是相當(dāng)常見的一種方式。通??衫迷谏唐返臍んw上噴涂油墨或是利用熱轉(zhuǎn)印膜片來將油墨層熱轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品的殼體表面等方式完成。隨著制作工藝進(jìn)步與美感提升,產(chǎn)品外觀的質(zhì)感提升越來越多被重視。
[0003]目前,若欲在商品的殼體外觀上表現(xiàn)出金屬質(zhì)感,一般是直接使用金屬外殼或是將金屬利用電鍍方式鍍到殼體上。但這樣的殼體若是應(yīng)用于移動(dòng)電話上,則會(huì)限制天線的設(shè)計(jì)。若是將仿金屬的材料利用噴漆、噴墨或是熱轉(zhuǎn)印的方式,噴涂到局部的殼體上,則又因?yàn)椴牧腺|(zhì)感的限制,而無(wú)法表現(xiàn)出真實(shí)的金屬光澤。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種裝飾性金屬圖案的制造方法,可將裝飾性金屬圖案設(shè)置于殼體的局部表面,以在商品的殼體外觀上表現(xiàn)出金屬質(zhì)感,并且可避開特定元件的位置。
[0005]本發(fā)明的再一目的在于提供一種電子裝置,包括上述的裝飾性金屬圖案。
[0006]為達(dá)上述目的,本發(fā)明提出一種裝飾性金屬圖案的制造方法,包括:提供一殼體,其中殼體具有一表面;形成一金屬層于殼體的表面;形成一第一蝕刻掩模至金屬層上;蝕刻部分暴露于第一蝕刻掩模外的金屬層以形成一裝飾性金屬圖案;移除第一蝕刻掩模。
[0007]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的形成第一蝕刻掩模的步驟包括形成一第一光致抗蝕劑層至金屬層上;曝光第一光致抗蝕劑層;顯影已曝光的第一光致抗蝕劑層以形成第一蝕刻掩模。
[0008]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的形成第一蝕刻掩模的步驟還包括設(shè)置一第一光掩模在位于表面的一第一區(qū)域上的第一光致抗蝕劑層上;曝光第一區(qū)域上的第一光致抗蝕劑層;設(shè)置一第二光掩模于位于表面的一第二區(qū)域上的第一光致抗蝕劑層上,其中第一區(qū)域與第二區(qū)域位 于表面的不同的平面;以及曝光第二區(qū)域上的第一光致抗蝕劑層。
[0009]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的殼體的表面具有一凹槽,且裝飾性金屬圖案位于凹槽。
[0010]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,還包括形成一第二蝕刻掩模至裝飾性金屬圖案上;蝕刻部分暴露于第二蝕刻掩模外的裝飾性金屬圖案以形成;凸版圖案或一凹版圖案于裝飾性金屬圖案上;移除第二蝕刻掩模。
[0011]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的形成第一蝕刻掩模的步驟包括形成一第二光致抗蝕劑層至裝飾性金屬圖案上;曝光第二光致抗蝕劑層;顯影已曝光的第二光致抗蝕劑層以形成第二蝕刻掩模。[0012]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的在形成金屬層于殼體的表面的步驟中,金屬層是以濕式電鍍的方式形成于表面。
[0013]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的殼體的材質(zhì)為塑膠。
[0014]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的殼體的材質(zhì)包括丙烯睛-丁二烯-苯乙烯(ABS)或聚碳酸酯(PC)。
[0015]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,在形成金屬層于殼體的表面的步驟中,還包括先設(shè)置一活化層于殼體的表面上,再設(shè)置金屬層于活化層上。
[0016]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的表面為殼體的一外表面。
[0017]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的裝飾性金屬圖案形成于殼體的外表面的一部分,殼體具有相對(duì)外表面的一內(nèi)表面。
[0018]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的外表面為一外凸曲面,且內(nèi)表面為一內(nèi)凹曲面。
[0019]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,還包括設(shè)置一天線于裝飾性金屬圖案相對(duì)于殼體的另一表面,且天線大致上對(duì)應(yīng)于金屬層被蝕刻的部分。
[0020]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的金屬層包括銅、鎳、鋁、金、銀或鈀。
[0021]本發(fā)明還提出一電子裝置,包括一殼體、一裝飾性金屬圖案及一天線。殼體具有相對(duì)的一外表面及一內(nèi)表面。裝飾性金屬圖案形成于殼體的外表面的一部分。天線設(shè)置于內(nèi)表面上且大致上對(duì)應(yīng)至殼體的外表面未形成裝飾性圖案的另一部分。
[0022]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的裝飾性金屬圖案包括一凸版圖案或一凹版圖案。
[0023]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的殼體的材質(zhì)包括丙烯睛-丁二烯-苯乙烯或聚碳酸酯。
[0024]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的裝飾性金屬圖案的材質(zhì)包括銅、鎳、鋁、金、銀或鈀。
[0025]在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的外表面為一外凸曲面,且內(nèi)表面為一內(nèi)凹曲面。
[0026]基于上述,本發(fā)明通過蝕刻的方式在殼體的局部區(qū)域制作出裝飾性金屬圖案,以使殼體具有金屬質(zhì)感與光澤的圖案造型。并且,對(duì)于應(yīng)用在移動(dòng)電話的殼體而言,本發(fā)明的裝飾性金屬圖案的制造方法可避開殼體內(nèi)的天線,以避免影響天線效能。此外,本發(fā)明還通過蝕刻的方式在裝飾性金屬圖案上制作出凸版圖案或凹版圖案,以增加金屬圖案的豐富性。
[0027]為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂,下文特舉實(shí)施例,并配合所附圖式作詳細(xì)說明如下。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0028]圖1是本發(fā)明的一實(shí)施例的一種裝飾性金屬圖案的制造方法的流程示意圖;
[0029]圖2A至圖2F是圖1的裝飾性金屬圖案的制造方法的示意圖;
[0030]圖3A至圖3F是圖2A至圖2F的局部剖面示意圖;
[0031]圖4A至圖4F是圖1的裝飾性金屬圖案的制造過程的剖面示意圖;
[0032]圖5是本發(fā)明的一實(shí)施例的一種凸版圖案或凹版圖案的制造方法的流程示意圖;
[0033]圖6A至圖61是圖5的凹版圖案的制造方法的示意圖;
[0034]圖7A至圖7C是圖5的凸版圖案的制造方法的部分示意圖。[0035]主要元件符號(hào)說明
[0036]S110-S150:步驟
[0037]10:天線
[0038]110、210、310:殼體
[0039]112、212、312:表面
[0040]116:活化層
[0041]119、219、319:金屬層[0042]120,220,320:第一光致抗蝕劑層
[0043]130,230,330:第一光掩模
[0044]150、250、350:裝飾性金屬圖案
[0045]212a:凹槽
[0046]240:第一蝕刻掩模
[0047]360:第二光致抗蝕劑層
[0048]370,470:第二光掩模
[0049]380、480:第二蝕刻掩模
[0050]390:凹版圖案
[0051]490:凸版圖案
【具體實(shí)施方式】
[0052]圖1是依照本發(fā)明的一實(shí)施例的一種裝飾性金屬圖案的制造方法的流程示意圖。圖2A至圖2F是圖1的裝飾性金屬圖案的制造方法的示意圖。圖3A至圖3F是圖2A至圖2F的局部剖面示意圖。
[0053]本實(shí)施例的裝飾性金屬圖案的制造方法S100,包括下列步驟。請(qǐng)參考圖1、圖2A及圖3A,首先,提供一殼體110,其中殼體110具有一表面112(步驟S110)。在本實(shí)施例中,殼體110為電子裝置的殼體,電子裝置可為移動(dòng)電話,在其他實(shí)施例中,電子裝置也可為筆記型電腦或平板電腦,電子裝置的種類并不以上述為限制。如圖2A所示,殼體110的表面112為一外表面,在本實(shí)施例中,外表面為一外凸曲面,但外表面并不以此為限制。此外,殼體110的材質(zhì)為塑膠,例如是丙烯睛-丁二烯-苯乙烯(ABS)或聚碳酸酯(PC),但殼體110的材質(zhì)不以此為限制。
[0054]接著,請(qǐng)參考圖2B及圖3B,形成一金屬層119于殼體110的表面112(步驟S120)。在本實(shí)施例中,金屬層119的材質(zhì)包括銅、鎳、鋁、金、銀或鈀,且金屬層119是以濕式電鍍的方式形成于表面112。本實(shí)施例的金屬層119通過濕式電鍍的方式,可使金屬層119牢固地固定在表面112上。當(dāng)然,金屬層119的材質(zhì)與金屬層119形成于表面112的方式并不以此為限制。
[0055]當(dāng)殼體110的材質(zhì)(例如聚碳酸酯)與金屬層119的直接接合效果較差時(shí),為增進(jìn)殼體110的表面112與金屬層119的接合狀況,可在殼體110的表面112與金屬層119之間鋪涂一活化層116,以輔助金屬層119均勻地形成在殼體110的表面112。在本實(shí)施例中,活化層116的材質(zhì)可為金屬或是樹酯,金屬與樹酯可分別采用濺鍍與水鍍的方式形成于表面112,但活化層119的材質(zhì)種類以及形成方式可不以此為限制。[0056]再來,形成一第一蝕刻掩模至金屬層119上(步驟S130)。在本實(shí)施例中,形成第一蝕刻掩模的步驟如下:第一,請(qǐng)參考圖2C及圖3C,形成一第一光致抗蝕劑層120至金屬層119上(步驟S132)。第二,請(qǐng)參考圖2D及圖3D,設(shè)置一第一光掩模130于第一光致抗蝕劑層120上。第三,請(qǐng)參考圖2E及圖3E,曝光第一光致抗蝕劑層120(步驟S134)。在本實(shí)施例中,使用立體曝光的技術(shù),以對(duì)覆蓋在表面112 (外表面)及金屬層119上的第一光致抗蝕劑層120進(jìn)行曝光程序。最后,顯影已曝光的第一光致抗蝕劑層120以形成第一蝕刻掩模(步驟S136)。在其他實(shí)施例中,殼體110的表面112可包括位于不同平面的第一區(qū)域與第二區(qū)域,通過設(shè)置第一光掩模在位于表面112的第一區(qū)域上的第一光致抗蝕劑層120上,曝光第一區(qū)域上的第一光致抗蝕劑層120之后。再設(shè)置第二光掩模在位于表面112的一第二區(qū)域上的第一光致抗蝕劑層120上,曝光第二區(qū)域上的第一光致抗蝕劑層120,不同平面的第一區(qū)域與第二區(qū)域通過不同的光掩模多次曝光后,顯影已曝光的第一光致抗蝕劑層120以形成第一蝕刻掩模,但形成第一蝕刻掩模的方式不以此為限制。
[0057]接著,蝕刻部分暴露于第一蝕刻掩模外的金屬層119以形成一裝飾性金屬圖案150 (步驟S140)。最后,移除第一蝕刻掩模(步驟S150),請(qǐng)參考圖2F及圖3F,裝飾性金屬圖案150形成于殼體110的外表面的一部分。在本實(shí)施例中采用正光致抗蝕劑,但在其他實(shí)施例中,也可采用負(fù)光致抗蝕劑,其可得到與圖3F相反的圖案。
[0058]在本實(shí)施例中,殼體110具有相對(duì)外表面的一內(nèi)表面,且一天線10于裝飾性金屬圖案150相對(duì)于殼體110的另一表面,且天線10大致上對(duì)應(yīng)于金屬層119被蝕刻的部分。也就是說,天線10設(shè)置于內(nèi)表面上對(duì)應(yīng)至外表面的另一部分。在本實(shí)施例中,內(nèi)表面為一內(nèi)凹曲面,但內(nèi)表面并不以此為限制。本實(shí)施例的裝飾性金屬圖案的制造方法200可在殼體110的外表面的局部區(qū)域形成裝飾性金屬圖案150,以提供殼體110具有金屬質(zhì)感與光澤的造型。此外,由于裝飾性金屬圖案150僅分布于部分的外表面,因此,若殼體110為移動(dòng)電話的殼體,裝飾性金屬圖案150于外表面的位置可避開殼體110內(nèi)部的天線10位置,以避免影響天線10效 能。
[0059]圖4A至圖4F是圖1的裝飾性金屬圖案的制造過程的剖面示意圖。圖4A至圖4F與圖3A至圖3F的主要差異在于,圖4A的殼體210的表面212為具有凹槽212a的外表面214,且裝飾性金屬圖案250形成于凹槽212a內(nèi),而圖3A的殼體110的表面112為平滑的外表面114。本實(shí)施例的裝飾性金屬圖案250的制造過程詳述如下。
[0060]首先,請(qǐng)參考圖4A,提供殼體210,其中殼體210的表面212是具有凹槽212a的外表面,本實(shí)施例的外表面為一外凸曲面,但外表面不以此為限制。接著,請(qǐng)參考圖4B,形成一金屬層219于殼體210的表面212。在本實(shí)施例中,金屬層219包括銅、鎳、招、金、銀或鈕,且金屬層219是以濕式電鍍的方式形成于表面,但金屬層219的材質(zhì)與形成金屬層219的方式不以此為限制。
[0061]再來,形成一第一蝕刻掩模240至金屬層219上。在本實(shí)施例中,形成第一蝕刻掩模240的步驟如下:第一,請(qǐng)參考圖4C,形成一第一光致抗蝕劑層220至金屬層219上。第二,請(qǐng)參考圖4D,設(shè)置第一光掩模230于第一光致抗蝕劑層220上且曝光第一光致抗蝕劑層220。在本實(shí)施例中,使用立體曝光的技術(shù),以對(duì)覆蓋在表面212 (外表面)及金屬層219上的第一光致抗蝕劑層220進(jìn)行曝光程序。最后,請(qǐng)參考圖4E,顯影已曝光的第一光致抗蝕劑層220以形成第一蝕刻掩模240。[0062]最后,蝕刻部分暴露于第一蝕刻掩模240外的金屬層219以形成一裝飾性金屬圖案250,并移除第一蝕刻掩模240。請(qǐng)參考圖4F,裝飾性金屬圖案250形成于殼體210的表面212的凹槽212a內(nèi),以提供殼體210的局部區(qū)域具有金屬質(zhì)感與光澤的造型。
[0063]除了可在外表面上制作出裝飾性金屬圖案150、250之外,也可通過相同的方式在裝飾性金屬圖案上制作出凸版圖案或凹版圖案,以提供更豐富與多元的金屬圖案形成在殼體的外表面上。圖5是依照本發(fā)明的一實(shí)施例的一種凸版圖案或凹版圖案的制造方法的流程示意圖。圖6A至圖61是圖5的凹版圖案的制造方法的示意圖。本實(shí)施例的凹版圖案的制造方法S300詳述如下。
[0064]首先,請(qǐng)參考圖5及圖6A,提供一殼體310,其中殼體310具有一表面312 (步驟S310)。在本實(shí)施例中,表面312為殼體310的一外表面,本實(shí)施例的外表面為一外凸曲面,但外表面不以此為限制。殼體310可為移動(dòng)電話的殼體,但殼體310的種類不以此為限制。此外,殼體310的材質(zhì)可為塑膠,例如是丙烯睛-丁二烯-苯乙烯(ABS)或聚碳酸酯(PC),但不以此為限。
[0065]接著,請(qǐng)參考圖6A與6B,形成一金屬層319于殼體310的表面312 (步驟S320)。在本實(shí)施例中,金屬層319包括銅、鎳、鋁、金、銀或鈀,且金屬層319是以濕式電鍍的方式形成于表面312。此外,本實(shí)施例的金屬層319的厚度可大于圖2G中的金屬層119的厚度,以便后續(xù)在裝飾性金屬圖案350上制作出凹版圖案390。
[0066]再來,形成一第一蝕刻掩模至金屬層319上(步驟S330)。在本實(shí)施例中,形成第一蝕刻掩模的過程如下:第一,請(qǐng)參考圖6C,形成一第一光致抗蝕劑層320至金屬層319上(步驟S332)。第二,請(qǐng)參考圖6D,設(shè)置一第一光掩模330于第一光致抗蝕劑層320上且曝光第一光致抗蝕劑層320 (步驟S334)。在本實(shí)施例中,使用立體曝光的技術(shù),以對(duì)覆蓋在表面312 (外表面)及金屬層319上的第一光致抗蝕劑層320進(jìn)行曝光程序。最后,顯影已曝光的第一光致抗蝕劑層320以形成第一蝕刻掩模(步驟S336)。第一蝕刻掩模的圖案對(duì)應(yīng)于第一光掩模330的圖案。
[0067]接著,蝕刻部分暴露于第一蝕刻掩模外的金屬層319以形成一裝飾性金屬圖案350(步驟S340)。再來,移除第一蝕刻掩模(步驟S350)。請(qǐng)參考圖6E,裝飾性金屬圖案350形成于殼體310的外表面的一部分。
[0068]再來,形成一第二蝕刻掩模380至裝飾性金屬圖案350上(步驟S360)。形成第一蝕刻掩模380的過程如下:第一,請(qǐng)參考圖6F,形成一第二光致抗蝕劑層360至裝飾性金屬圖案350上(步驟S362)。第二,請(qǐng)參考圖6G,設(shè)置一第二光掩模370于第二光致抗蝕劑層360上且曝光第二光致抗蝕劑層360 (步驟S364)。最后,請(qǐng)參考圖6H,顯影已曝光的第二光致抗蝕劑層360以形成第二蝕刻掩模380 (步驟S366),其中第二蝕刻掩模380的圖案對(duì)應(yīng)于第二光掩模370的圖案。
[0069]接著,蝕刻部分暴露于第二蝕刻掩模380外的裝飾性金屬圖案350以形成一凹版圖案390于裝飾性金屬圖案350上(步驟S370)。最后,移除第二蝕刻掩模380(步驟S380)。請(qǐng)參考圖61,凹版圖案390形成于殼體310的外表面的裝飾性金屬圖案350上。在本實(shí)施例中,部分的第二蝕刻掩模380分布于裝飾性金屬圖案350的外圍,經(jīng)過蝕刻程序之后,相較于裝飾性金屬圖案350的內(nèi)部被移除的部分,裝飾性金屬圖案350的外圍并不會(huì)被移除,因此,凹版圖案390便形成于裝飾性金屬圖案350上。[0070]此外,在本實(shí)施例中,殼體310具有相對(duì)外表面的一內(nèi)表面,且一天線10于裝飾性金屬圖案350相對(duì)于殼體310的另一表面,且天線10大致上對(duì)應(yīng)于金屬層319被蝕刻的部分。也就是說,天線10設(shè)置于內(nèi)表面上對(duì)應(yīng)至外表面的另一部分。本實(shí)施例的內(nèi)表面為一內(nèi)凹曲面,但內(nèi)表面不以此為限制。本實(shí)施例的凹版圖案390的制造方法可在殼體310的外表面的局部區(qū)域形成裝飾性金屬圖案350后,再在裝飾性金屬圖案350上形成凹版圖案390。凹版圖案390可通過深度差所產(chǎn)生的光影差異,提供殼體310更豐富的金屬圖案造型。此外,由于凹版圖案390僅分布于部分的外表面,因此,若殼體310為移動(dòng)電話的殼體,凹版圖案390于外表面的位置可避開殼體310內(nèi)部的天線10位置,以避免影響天線10效能。
[0071]圖7A至圖7C是圖5的凸版圖案的制造方法的部分示意圖。圖7A至圖7C與圖6G至圖61的主要差異在于,圖7A至圖7C是用來制造出凸版圖案490,而圖6G至圖61是用來制造出凹版圖案390。在本實(shí)施例中,先如同圖6A至圖6F所示,首先,形成一裝飾性金屬圖案350于殼體310的外表面的一部分后,形成一第二光致抗蝕劑層360至裝飾性金屬圖案350上,步驟于圖6A至圖6F已詳細(xì)敘述,在此不多加贅述。[0072]接著,請(qǐng)參考圖7A,設(shè)置一第二光掩模470于第二光致抗蝕劑層360上且曝光第二光致抗蝕劑層360。此處使用立體曝光的技術(shù),以對(duì)第二光致抗蝕劑層360進(jìn)行曝光程序。再來,請(qǐng)參考圖7B,顯影已曝光的第二光致抗蝕劑層360以在裝飾性金屬圖案350上以形成第二蝕刻掩模480,其中第二蝕刻掩模480的圖案對(duì)應(yīng)于第二光掩模470的圖案。最后,蝕刻部分暴露于第二蝕刻掩模480外的裝飾性金屬圖案350以形成一凸版圖案490于裝飾性金屬圖案350上,且移除第二蝕刻掩模480。請(qǐng)參考圖7C,凸版圖案490即可形成于殼體310的外表面的裝飾性金屬圖案350上。
[0073]在本實(shí)施例中,第二蝕刻掩模480分布于裝飾性金屬圖案350的內(nèi)部,經(jīng)過蝕刻程序之后,相較于裝飾性金屬圖案350的外圍被移除的部分,部分內(nèi)部的裝飾性金屬圖案350并不會(huì)被移除,便形成了凸版圖案490。
[0074]也就是說,通過第二蝕刻掩模在裝飾性金屬圖案上的分布狀況,制造者可自行決定要在裝飾性金屬圖案形成凹版圖案或是凸版圖案,以增添形成于殼體的外表面上的金屬圖案的多元性。當(dāng)然,在其他實(shí)施例中,也可通過重復(fù)多次上述步驟,以制作出具有更多光影變化的金屬圖案。
[0075]綜上所述,本發(fā)明通過光刻蝕刻的方式在殼體的局部區(qū)域制作出裝飾性金屬圖案,以使殼體具有金屬質(zhì)感與光澤的圖案造型。并且,對(duì)于應(yīng)用在移動(dòng)電話的殼體而言,本發(fā)明的裝飾性金屬圖案的制造方法可避開殼體內(nèi)的天線,以避免影響天線效能。此外,本發(fā)明還通過在裝飾性金屬圖案上形成第二蝕刻掩模,以在裝飾性金屬圖案上制作出凸版圖案或凹版圖案,增加金屬圖案的豐富性。
[0076]雖然已結(jié)合以上實(shí)施例公開了本發(fā)明,然而其并非用以限定本發(fā)明,任何所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中熟悉此技術(shù)者,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),可作些許的更動(dòng)與潤(rùn)飾,故本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以附上的權(quán)利要求所界定的為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種裝飾性金屬圖案的制造方法,包括: 提供一殼體,其中該殼體具有一表面; 形成一金屬層于該殼體的該表面; 形成一第一蝕刻掩模至該金屬層上; 蝕刻部分暴露于該第一蝕刻掩模外的該金屬層以形成一裝飾性金屬圖案;以及 移除該第一蝕刻掩模。
2.如權(quán)利要求1所述的裝飾性金屬圖案的制造方法,其中形成該第一蝕刻掩模的步驟包括: 形成一第一光致抗蝕劑層至該金屬層上; 曝光該第一光致抗蝕劑層;以及 顯影已曝光的該第一光致抗蝕劑層以形成該第一蝕刻掩模。
3.如權(quán)利要求2所述的裝飾性金屬圖案的制造方法,其中形成該第一蝕刻掩模的步驟還包括: 設(shè)置一第一光掩模在位于該表面的一第一區(qū)域上的該第一光致抗蝕劑層上; 曝光該第一區(qū)域上的該第一光致抗蝕劑層; 設(shè)置一第二光掩模在位于該表面的一第二區(qū)域上的該第一光致抗蝕劑層上,其中該第一區(qū)域與該第二區(qū)域位于該表面的不同的平面;以及曝光該第二區(qū)域上的該第一光致抗蝕劑層。
4.如權(quán)利要求1所述的裝飾性金屬圖案的制造方法,其中該殼體的該表面具有一凹槽,且該裝飾性金屬圖案位于該凹槽。
5.如權(quán)利要求1所述的裝飾性金屬圖案的制造方法,還包括: 形成一第二蝕刻掩模至該裝飾性金屬圖案上; 蝕刻部分暴露于該第二蝕刻掩模外的該裝飾性金屬圖案以形成一凸版圖案或一凹版圖案于該裝飾性金屬圖案上;以及移除該第二蝕刻掩模。
6.如權(quán)利要求5所述的裝飾性金屬圖案的制造方法,其中形成該第一蝕刻掩模的步驟包括: 形成一第二光致抗蝕劑層至該裝飾性金屬圖案上; 曝光該第二光致抗蝕劑層;以及 顯影已曝光的該第二光致抗蝕劑層以形成該第二蝕刻掩模。
7.如權(quán)利要求1所述的裝飾性金屬圖案的制造方法,其中在形成該金屬層于該殼體的該表面的步驟中,該金屬層是以濕式電鍍的方式形成于該表面。
8.如權(quán)利要求1所述的裝飾性金屬圖案的制造方法,其中在形成該金屬層于該殼體的該表面的步驟中,還包括先設(shè)置一活化層于該殼體的該表面上,再設(shè)置該金屬層于該活化層上。
9.如權(quán)利要求1所述的裝飾性金屬圖案的制造方法,還包括: 設(shè)置一天線于該裝飾性金屬圖案相對(duì)于該殼體的另一表面,且該天線大致上對(duì)應(yīng)于該金屬層被蝕刻的部分。
10.一種電子裝置,包括:殼體,具有相對(duì)的一外表面及一內(nèi)表面; 裝飾性金屬圖案,形成于該殼體的該外表面的一部分;以及 天線,設(shè)置于該內(nèi)表面上且大致上對(duì)應(yīng)至該殼體的該外表面未形成該裝飾性圖案的另一部分。
11.如權(quán)利要求10所述的電子裝置,其中該裝飾性金屬圖案包括一凸版圖案或一凹版圖案。
12.如 權(quán)利要求10所述的電子裝置,其中該外表面為一外凸曲面,且該內(nèi)表面為一內(nèi)凹曲面。
【文檔編號(hào)】H05K5/00GK103834947SQ201210480651
【公開日】2014年6月4日 申請(qǐng)日期:2012年11月23日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月23日
【發(fā)明者】胡智凱, 莊益誠(chéng) 申請(qǐng)人:宏達(dá)國(guó)際電子股份有限公司
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