專利名稱：一種電磁爐繞線盤(pán)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于家用炊具制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種電磁爐繞線盤(pán)。
技術(shù)背景繞線盤(pán)是電磁爐的基本構(gòu)件，繞線盤(pán)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)也一直是電磁爐制造企業(yè)的產(chǎn)品 開(kāi)發(fā)重點(diǎn)。目前，迭層線圈逐漸應(yīng)用于電磁爐，導(dǎo)致繞線盤(pán)繞線方法的變化，通過(guò)膠水使上 下線圈固定或采用面卡使線圈定位。這些方法雖可以使迭層線圈定位，但膠水粘結(jié)不僅工 序復(fù)雜，耗用較多的化學(xué)粘結(jié)劑，使成本增加。面卡需要另行制作副件，面卡設(shè)置還會(huì)使繞 線盤(pán)的結(jié)構(gòu)復(fù)雜。同時(shí)，應(yīng)用迭層 線圈仍存在磁場(chǎng)不夠集中，能量在外圍損耗。因此，尋找 一種不會(huì)增加繞線盤(pán)結(jié)構(gòu)復(fù)雜性，操作簡(jiǎn)便，可使電磁爐磁場(chǎng)集中，減少能量損耗，又可用 于多線圈層的繞線盤(pán)是當(dāng)下的生產(chǎn)急需。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型針對(duì)上述技術(shù)問(wèn)題，提出了以下技術(shù)方案一種電磁爐繞線盤(pán)，包括盤(pán)形底座，架設(shè)于盤(pán)形底座的磁鐵槽，嵌放漆包線線束的 支架柱，其特征是支架柱面排設(shè)可容置線束的嵌槽，槽的深度為所嵌線束直徑的1-4倍。所述的電磁爐繞線盤(pán)，其特征是支架柱面的嵌槽為橫排，槽的深度可依據(jù)嵌設(shè)的 線束層數(shù)調(diào)整。所述的電磁爐繞線盤(pán)，其特征是支架柱近繞線盤(pán)中心區(qū)域槽深大于中心區(qū)域外的 嵌槽的槽深。盤(pán)中心區(qū)域的界點(diǎn)為盤(pán)面中心點(diǎn)與盤(pán)外徑間距的中點(diǎn)，或三分之一點(diǎn)或三分 之二點(diǎn)，在盤(pán)面中心環(huán)設(shè)若干個(gè)立式磁條，或磁環(huán)。所述的電磁爐繞線盤(pán)，其特征是支架柱面線束嵌槽槽口內(nèi)縮，或在槽口設(shè)置卡點(diǎn)， 可使嵌入的線束不外鼓或不移位。所述的電磁爐繞線盤(pán)，其特征是支柱面線束嵌槽的槽寬與線束直徑相等或略少于 線圈直徑。本實(shí)用新型通過(guò)在支柱架面上設(shè)置嵌槽并增加繞線線束嵌置槽的槽深，可將多層 漆包線線束嵌入于槽內(nèi)，槽口內(nèi)縮或設(shè)卡件可使線束不外鼓，防止線束移位。本實(shí)用新型可 達(dá)到多層線束的定位，省卻了膠水粘結(jié)的工序，也不需要其他副件固定線束。同時(shí)，支架柱 與盤(pán)形座架為一體成型，可滿足嵌置線束所需的構(gòu)件強(qiáng)度。本實(shí)用新型依據(jù)炊具烹調(diào)對(duì)熱量分布的要求，通過(guò)增設(shè)中心區(qū)的立式磁條和不同 盤(pán)面的線圈層數(shù)，有利于電磁熱的集中，將電磁爐線圈的發(fā)熱分布近似于炊具烹調(diào)受熱面， 從而可有效地利用電磁能量，減少電磁爐外圍能量的損耗。附圖及其說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中盤(pán)形底座1，支架柱2，線槽3，磁條嵌槽4。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。實(shí)施例一電磁爐繞線盤(pán)，在一盤(pán)形底座中設(shè)有呈放射狀的置放磁鐵的嵌槽架，盤(pán)面中心環(huán)設(shè)與磁鐵條相等的擋磁塊，在兩磁鐵嵌架之間設(shè)一繞線支架柱，支架柱面上排設(shè)有橫向嵌 線槽，槽的寬度與嵌入線束直徑相等，槽的深度為二股線束疊加的高度，槽的數(shù)量與線束圈 數(shù)相等。繞線時(shí)，把由漆包線絞合成的線束嵌設(shè)于槽的底部為底層，然后嵌設(shè)第二層線束， 使上層線束嵌入槽內(nèi)為宜。繞線盤(pán)架、磁鐵架和線圈支架柱一次成型。線圈繞制可以為第一層從外圈繞到內(nèi)圈，第二層從內(nèi)圈繞到外圈。實(shí)施例二繞線支架柱近盤(pán)中心處，以線盤(pán)半徑中點(diǎn)為界，界內(nèi)的槽深為繞線線束直徑的三 倍，界外的槽深為線束的直徑。界內(nèi)線束槽嵌入三層線束，由于線束在嵌入槽內(nèi)時(shí)，線束為 擠壓變形，會(huì)使面層線束鼓出槽口，槽口內(nèi)縮或卡點(diǎn)使線束受卡。其余結(jié)構(gòu)及線圈繞制方法 與實(shí)施例一相同。實(shí)施例三繞線支架柱近盤(pán)中心處，以線盤(pán)半徑的三分之一點(diǎn)為界，界內(nèi)三分之一半徑為內(nèi) 圈，內(nèi)圈的槽深為線束的直徑，界外到線盤(pán)半徑三分之二處為中圈，中圈的槽深為線束直徑 的三倍，界外的槽深為線束直徑，其余與實(shí)施例2相同。
權(quán)利要求一種電磁爐繞線盤(pán)，包括盤(pán)形底座，設(shè)于盤(pán)形底座的磁鐵槽、嵌置漆包線線束的支架柱，其特征是支架柱面排設(shè)容置線束的嵌槽，嵌槽的深度為所嵌線束直徑的1-4倍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁爐繞線盤(pán)，其特征是支架柱面的嵌槽為橫排，槽的深度 可依據(jù)嵌設(shè)的線束層數(shù)調(diào)整。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電磁爐繞線盤(pán)，其特征是支架柱近盤(pán)中心區(qū)域的嵌槽槽 深大于中心區(qū)域外的嵌槽槽深。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電磁爐繞線盤(pán)，其特征是支架柱面線束槽的槽口內(nèi)縮，或 槽口設(shè)置卡點(diǎn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電磁爐繞線盤(pán)，其特征是支架柱面線束嵌槽的槽寬與線 束直徑相等，或略少于線束直徑。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁爐繞線盤(pán)，其特征是盤(pán)面中心環(huán)設(shè)若干個(gè)立式磁條。
專利摘要本實(shí)用新型屬于家用炊具制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種電磁爐繞線盤(pán)。它包括盤(pán)形底座，架設(shè)于盤(pán)形底座的磁鐵槽、嵌放漆包線線束的支架柱，其特征是支架柱面橫排設(shè)可容置線束的嵌槽，槽的深度為所嵌線束直徑的1-4倍，支架柱面的嵌槽為橫排，槽的深度可依據(jù)嵌設(shè)的線束層數(shù)調(diào)整，支架柱近盤(pán)中心區(qū)域的嵌槽槽深大于中心區(qū)域外的嵌槽槽深，盤(pán)面中心環(huán)設(shè)若干個(gè)立式磁條。本實(shí)用新型具有繞線盤(pán)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作簡(jiǎn)便，有利于電磁熱的集中，將電磁爐線圈的發(fā)熱分布近似于炊具烹調(diào)受熱面，能夠有效地利用電磁能量，減少電磁爐外圍能量的損耗。
文檔編號(hào)H05B6/36GK201571217SQ200920178280
公開(kāi)日2010年9月1日 申請(qǐng)日期2009年10月21日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月21日
發(fā)明者夏永坤 申請(qǐng)人:夏永坤