專利名稱：等離子清潔設(shè)備及其整合系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種能夠清除有機物及氧化物污染的等離子清潔設(shè)備及其整合系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在一般的產(chǎn)品制造過程中，不管任何種類的制造工藝流程，所有材料的表面清潔程度往往會影響到諸如材料的真空蒸鍍、涂布與接合等后續(xù)工序，而且對不同材料間的粘著力及緊密結(jié)合力會有很大的影響。因此，材料表面的清潔是非常重要的工序，從前用過的表面清潔方法是使用化學(xué)藥品來清潔材料的表面。但是這些方法所使用的化學(xué)藥品，會產(chǎn)生環(huán)境污染等問題，所以被限制使用。
因此，為了解決上述問題，目前已開發(fā)研究出許多新的表面清潔方法，在這些新的表面清潔方法之中，有一種叫做低溫低壓狀態(tài)的等離子(Plasma)的方法，其使用低壓等離子的清潔方法在低壓形成的真空室(vacuumchamber)內(nèi)進行清潔，其工作方法如下對原料氣體提供一定的外加能量使原料氣體處于等離子狀態(tài)并產(chǎn)生氣體離子，這些活性化的氣體會接觸材料表面并與之發(fā)生作用，因此存在于材料表面上的不純物或污染物質(zhì)都會被清除掉。
雖然低壓狀態(tài)的等離子表面清潔方法具有相當(dāng)好的清潔效果，但是使用并不普遍。因為為了要產(chǎn)生等離子，需要配合使用真空裝置，因此在大氣壓的環(huán)境中，將無法形成這種等離子。
再者，常壓等離子的使用方法也有很多，其中以應(yīng)用在臭氧發(fā)熱儀器上的無聲放電方式最為普遍，使用的時間也最長。
無聲放電原理眾所周知，其在常壓下將金屬電極的一邊或兩邊利用絕緣體切斷，在金屬電極上施加高電壓交流或脈沖(pulse)之后，在兩電極之間的空間上，會發(fā)生高電壓的放電，以產(chǎn)生所需的等離子。
為了將利用上述相同的原理所產(chǎn)生的等離子使用在清潔方面，把待清潔物放在兩電極之間的空間的適合位置進行清潔，但此種方式的限制是只有很薄的待清潔物才可以被清潔。其原因為待清潔物若不是絶緣體而是導(dǎo)電的金屬或半導(dǎo)體的話，根據(jù)高電壓的具體情況會影響損害待清潔物，所以利用此種清潔方式的領(lǐng)域相當(dāng)有限。
而且，因為當(dāng)將等離子排出到外面的材料上進行清洗時，因為常壓的等離子所具有的特性，等離子會導(dǎo)致臭氧(ozone)等對人體有害的物質(zhì)的產(chǎn)生，因而會影響到工作人員的安全。
還有在等離子產(chǎn)生設(shè)備與材料之間距離很近的時候，可能會發(fā)生材料與電極之間的電弧作用(arcing)問題，這種電弧作用將會損壞材料。而且，因為等離子產(chǎn)生設(shè)備的所使用的電壓是高電壓，所以存在使用者萬一操作不當(dāng)而導(dǎo)致觸電會對使用者造成危害的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種具有清除有機物及氧化物污染且能夠有效散熱、清除廢氣功能的等離子清潔設(shè)備及其整合系統(tǒng)，其可以利用吸排氣部將等離子清潔過程中所產(chǎn)生的有害物質(zhì)及微小粒子予以清除。
本發(fā)明的另一個目的是利用放熱部以進行電極部的散熱，以及利用吸排氣部以進行待清潔物及電極部的散熱及廢氣排放。
本發(fā)明的再一個目的是將多顆陶瓷球放置在原料氣體臨時貯存部，以使原料氣體混合更為均勻，使所產(chǎn)生的等離子的濃度效果更佳。
為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的其中一種方案，其提供了一種具有排除有機物及氧化物污染且能夠有效散熱、清除廢氣功能的等離子清潔設(shè)備，其包括電極部、放熱部、原料氣體導(dǎo)入部、原料氣體供給導(dǎo)引部、及吸排氣部。其中，該電極部具有多個以一預(yù)定距離間隔并排的電極；該放熱部具有接觸于該電極部一側(cè)的突出塊放熱板以及一與該突出塊放熱板配合的放熱墻；該原料氣體導(dǎo)入部形成于該放熱部一側(cè)，并與該突出塊放熱板和該放熱墻之間所形成的通道的一端相通，用于導(dǎo)引原料氣體經(jīng)過該放熱部；該原料氣體供給導(dǎo)引部與該突出塊放熱板和該放熱墻之間所形成的通道的另一端相通，用于接收經(jīng)過該放熱部的原料氣體；以及，該吸排氣部設(shè)置于與該原料氣體導(dǎo)入部分離的空間上，并且該吸排氣部上端具有與外部相通的第一氣體通路，該吸排氣部下端具有與外部相通的第二氣體通路。
根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思，該等離子清潔設(shè)備進一步包括連通于該電極部與該原料氣體供給導(dǎo)引部的原料氣體臨時貯存部。
根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思，該原料氣體臨時貯存部的內(nèi)部裝有多顆陶瓷球。
根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思，該第一氣體通路吸入冷卻氣體，再由該第二氣體通路排出，而形成排氣功能；或者該第二氣體通路吸入氣體，再由該第一氣體通路排出，而形成吸氣功能。
根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思，該排氣功能與該吸氣功能同時或分開在同一電漿清潔設(shè)備上進行。
根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思，該第二氣體通路的出風(fēng)口方向與地面呈垂直狀態(tài)。
根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思，該第二氣體通路的出風(fēng)口方向與地面呈傾斜狀態(tài)。
根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思，該突出塊放熱板具有多個放熱塊。為了實現(xiàn)本發(fā)明的上述目的，根據(jù)本發(fā)明的其中一種方案，本發(fā)明還提供了一種具有清除有機物及氧化物污染且能夠有效散熱、排除廢氣功能的等離子清潔設(shè)備的整合系統(tǒng)，其包括多個彼此間隔一預(yù)定距離排列的等離子清潔設(shè)備。通過所述等離子清潔設(shè)備的組合，以產(chǎn)生使用者所需要的不同功效。即，等離子清潔設(shè)備的吸排氣部可以產(chǎn)生吸氣功能或排氣功能、或兩者的組合。
具體來說，該等離子清潔設(shè)備的整合系統(tǒng)，包括多個彼此間隔一預(yù)定距離排列的等離子清潔設(shè)備，其中每一個等離子清潔設(shè)備包括電極部，其具有多個以一預(yù)定距離間隔并排的電極；放熱部，其具有接觸于該電極部一側(cè)的突出塊放熱板以及一與該突出塊放熱板配合的放熱墻；原料氣體導(dǎo)入部，其形成于該放熱部一側(cè)，并與該突出塊放熱板和該放熱墻之間所形成的通道的一端相通，以導(dǎo)引原料氣體經(jīng)過該放熱部的放熱塊；原料氣體供給導(dǎo)引部，其與該突出塊放熱板和該放熱墻之間所形成的通道的另一端相通，以接收經(jīng)過該放熱部的原料氣體；以及吸排氣部，其設(shè)置于與該原料氣體導(dǎo)入部分離的空間上，并且該吸排氣部上端具有與外部相通的第一氣體通路，該吸排氣部下端具有與外部相通的第二氣體通路。
根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思，所有的所述第一氣體通路接收冷卻氣體，并配合相對應(yīng)的所述第二氣體通路將冷卻氣體排出，以產(chǎn)生冷卻經(jīng)過等離子處理后的待清潔物及電極部的排氣功能。
根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思，所有的所述第二氣體通路吸入等離子處理過程中所產(chǎn)生的廢氣，并配合相對應(yīng)的所述第一氣體通路將廢氣排出，以產(chǎn)生吸除廢氣的吸氣功能。
根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思，最外圍的所述第一氣體通路接收冷卻氣體，并配合與所述最外圍的第一氣體通路相對應(yīng)的所述第二氣體通路將冷卻氣體排出，以產(chǎn)生冷卻經(jīng)過等離子處理后的待清潔物及電極部的排氣功能；其它的所述第二氣體通路則吸入等離子處理過程中所產(chǎn)生的廢氣，并配合其它相對應(yīng)的所述第一氣體通路將廢氣排出，以產(chǎn)生吸除廢氣的吸氣功能。
根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思，最外圍的所述第二氣體通路吸入等離子處理過程中所產(chǎn)生的廢氣，并配合與所述最外圍的所述第二氣體通路相對應(yīng)的所述第一氣體將廢氣排出，以產(chǎn)生吸除廢氣的吸氣功能；其它的所述第一氣體通路則接收冷卻氣體，并配合其它相對應(yīng)的所述第二氣體通路將冷卻氣體排出，以產(chǎn)生冷卻經(jīng)過等離子處理后的待清潔物及電極部的排氣功能。
根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思，在每一個該等離子清潔設(shè)備中，一個所述第一氣體通路接收冷卻氣體，并配合與該第一氣體通路相對應(yīng)的一個所述第二氣體通路將冷卻氣體排出，以產(chǎn)生冷卻經(jīng)過等離子處理后的待清潔物及電極部的排氣功能；另外，在每一個等離子清潔設(shè)備中，另一個所述第二氣體通路吸入等離子處理過程中所產(chǎn)生的廢氣，并配合與該第二氣體通路相對應(yīng)的另一個第一氣體通路將廢氣排出，以產(chǎn)生吸除廢氣的吸氣功能。
根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思，在每兩個等離子清潔設(shè)備之間安裝有一吸氣部。
本發(fā)明所取得的有益效果和優(yōu)點在于在本發(fā)明等離子清潔設(shè)備及其整合系統(tǒng)中，使發(fā)熱的原料氣體經(jīng)過放熱塊，放熱塊有效地吸收原料氣體的熱量，然后把放熱塊上所產(chǎn)生的熱量有效地吸收，可以利用放熱塊有效地降溫；在本發(fā)明等離子清潔設(shè)備及其整合系統(tǒng)中，原料氣體經(jīng)過放熱塊之后，放熱塊在經(jīng)過吸收熱量之后溫度上升，氣體的活動會更劇烈，可以使原料氣體擴散更加活躍。尤其是當(dāng)原料氣體經(jīng)過放熱塊的空間時，因為放熱塊的阻礙而在放熱部內(nèi)的空間內(nèi)均勻地擴散。這種設(shè)計的優(yōu)點在于因為這個均勻地擴散的原料氣體供給電極部內(nèi)之后，可以使得到的等離子的濃度更佳。
為了能更進一步了解本發(fā)明為達成預(yù)定目的所采取的技術(shù)、手段及功效，請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細說明與附圖，本發(fā)明的目的、特征與特點，可由此得到深入且具體的了解，然而附圖僅提供參考與說明，并非用來對本發(fā)明加以限制。


圖1為本發(fā)明等離子清潔設(shè)備的正視剖面圖；圖2為本發(fā)明等離子清潔設(shè)備的側(cè)視剖面圖；圖3為本發(fā)明等離子清潔設(shè)備的俯視圖；圖4為本發(fā)明等離子清潔設(shè)備的突出塊放熱板的立體示意圖；圖5為本發(fā)明等離子清潔設(shè)備的第二氣體通路及等離子排出口的立體示意圖；圖6為本發(fā)明等離子清潔設(shè)備整合系統(tǒng)的剖面示意圖；以及圖7至圖12為本發(fā)明等離子清潔設(shè)備整合系統(tǒng)在進行各種運行時的剖面示意圖。
其中，附圖標記說明如下等離子清潔裝置100電極部110 放熱部120放熱塊121突出塊的放熱板122 放熱墻124原料氣體導(dǎo)入部130原料氣體導(dǎo)入管132原料氣體供給導(dǎo)引部140原料氣體臨時儲存部142陶瓷球144吸排氣部150第一氣體通路152 第二氣體通路154等離子清潔設(shè)備整合系統(tǒng)200具體實施方式
請參閱圖1至圖3，本發(fā)明的等離子清潔裝置100包括電極部110、放熱部120、原料氣體導(dǎo)入部130、原料氣體供給導(dǎo)引部140、及吸排氣部150。
等離子清潔裝置100可以為大氣式等離子清潔設(shè)備。
所述電極部110間隔地排列于該等離子清潔裝置100的中央處，優(yōu)選的是，該電極部110是以電極平行的方式進行排列，而使得等離子發(fā)熱均勻。當(dāng)排列的電極是單數(shù)時，例如由三個電極形成電極部110的時候，在中央的電極為高壓電極，兩旁的電極則接地。因為電極的供給電源是高壓電源，所以不可以直接使用一般電壓，如果使用一般電源的話，則需要另外增設(shè)具備變壓器的電源設(shè)備以得到高壓電源。
接下來對放熱部120進行描述，它的結(jié)構(gòu)是由突出塊的放熱板122和放熱墻124構(gòu)成。如圖1所示，該突出塊的放熱板122與電極部110外側(cè)接觸，突出塊的放熱板122與電極部110接觸之后，將在電極部110所產(chǎn)生的熱量傳導(dǎo)至突出塊的放熱板122進行放熱，以降低電極部110的溫度。如圖4所示，該突出塊的放熱板122優(yōu)選使用正直六面體形狀的放熱塊121，并將放熱塊121以一定的距離來排列。此目的在于利用突出塊的放熱板122的配置空間，以使得流動氣體之間的接觸面積最大化。
上述的放熱塊121彼此排列形成一定空間的這樣一種設(shè)計，目的是為了是要讓原料氣體經(jīng)過。另外為了使在放熱塊121之間經(jīng)過的原料氣體更好的擴散，最好是把放熱塊121交叉放置，以使得原料氣體在經(jīng)過放熱塊121之間時，因為交叉的放熱塊121的阻礙而均勻擴散。尤其是放熱塊121會在放熱時溫度上升，從而會使原料氣體經(jīng)歷猛烈地氣體運動，會使氣體的擴散更為活性化。放熱塊121之間會有從外部供給的低溫原料氣體通過，因此放熱塊121的溫度就會降低。所以突出塊的放熱板121的容易冷卻是本發(fā)明的優(yōu)點之一。
如圖1所示，該放熱墻124的上端與放熱塊121接觸。該放熱墻124與具有一定長度的放熱塊121，以及突出塊的放熱板122一起用以隔離出原料氣體經(jīng)過的空間。放熱墻124的下部是開放的，并與原料氣體導(dǎo)入部130相通。由原料氣體導(dǎo)入部130供給的原料氣體會引進到放熱部120。
原料氣體導(dǎo)入部130將外面的原料氣體導(dǎo)入之后，供給放熱部120。所以該原料氣體導(dǎo)入部130位于放熱部120外側(cè)所隔開的空間的地方。
位于原料氣體導(dǎo)入部130上面的原料氣體導(dǎo)入管132用于引進原料氣體，然后原料氣體經(jīng)過下面的放熱部120之后，再經(jīng)由該突出塊放熱板122而排出。
原料氣體供給導(dǎo)引部140連通于該放熱部120，用于將擴散的原料氣體提供到電極部110。原料氣體供給導(dǎo)引部140的位置是在電極部110及放熱部120的上面。該原料氣體供給導(dǎo)引部140的中間部分具有一個臨時儲存原料氣體的原料氣體臨時儲存部142，如圖1及圖2所示，該原料氣體臨時儲存部142用于使該原料氣體均勻地擴散，其中該原料氣體供給導(dǎo)引部140內(nèi)部優(yōu)選放滿陶瓷球144，而設(shè)置所述陶瓷球144的主要目的在于使原料氣體混合更為均勻，以使等離子產(chǎn)生的濃度效果更佳。
再者，吸排氣部150的位置如圖1及圖3所示，在原料氣體導(dǎo)入部130左右側(cè)會有隔開的空間。該吸排氣部150的上端為一與外面連接的第一氣體通路152，而下端則是與外面連接的第二氣體通路154。也就是說，該吸排氣部150會在該原料氣體導(dǎo)入部130的外側(cè)形成阻隔，用以與該原料氣體導(dǎo)入部130分離，另外該吸排氣部150還提供了冷卻氣體及污染氣體移動的空間。第一氣體通路152是管狀的并與外部連接，第二氣體通路154則如圖5中所示的一樣，在墻壁上有多個間隔設(shè)置的空間。
此外，該第二氣體通路154可與地面保持水平，或者如圖1所示，該第二氣體通路154與地面形成傾斜的角度。如此從電極部110排出的等離子的清潔作用不會被妨害，并且在清潔作業(yè)過程中更能有效地將產(chǎn)生的污染物質(zhì)排出。
第一氣體通路152是從等離子清潔設(shè)備100的外部進來，這樣除了可以將冷卻氣體供給吸排氣部150之外，還可以將吸排氣部150內(nèi)部存在的空氣吸收之后，排出到外部。第二氣體通路154的功能則依第一氣體通路152的排氣功能或吸收功能而決定，即吸排氣部152的氣體可向下吹出至外部，或者從外部將空氣吸進到吸排氣部150的通道內(nèi)。簡而言之，從第一氣體通路152供給的冷卻氣體，經(jīng)過第二氣體通路154排氣為排氣功能，從第二氣體通路154吸收的氣體，排出到第一氣體通路152為做吸氣功能。
當(dāng)?shù)谝粴怏w通路152接收外部所供給的冷卻氣體時，所述冷卻氣體可經(jīng)過該第二氣體通路154，并在清潔待清潔對象時排出以進行散熱功能。另外，因為在進行清潔作業(yè)時，空間內(nèi)部的污染物質(zhì)及粒子(particle)等氣體會危害到操作人員，因此通過該第二氣體通路154的吸氣作用，將污染物質(zhì)及粒子吸入該吸排氣部150的通道內(nèi)，然后通過該第一氣體通路152而排出至外部。因此本發(fā)明能夠根據(jù)使用者的需要，針對待清潔物進行吹氣(散熱)或吸氣(排污染物)的選擇。
請參閱圖6，等離子清潔設(shè)備整合系統(tǒng)200，是由數(shù)個等離子清潔設(shè)備100并列連接組織而成。這時候等離子清潔設(shè)備整合系統(tǒng)200具有有固定等離子清潔設(shè)備100的固定設(shè)備(圖中未示出)。等離子清潔設(shè)備100是經(jīng)過數(shù)個并列電極進行清潔作業(yè)。等離子清潔設(shè)備整合系統(tǒng)200可以任意連接數(shù)個等離子清潔設(shè)備100，也可單獨使用一個等離子清潔設(shè)備100。
根據(jù)待清潔物的材料來判斷，例如需要高清潔性能的時候，就增加該等離子清潔設(shè)備100的數(shù)量，如需要低清潔性能的時候就減少該等離子清潔設(shè)備100數(shù)量。
請參閱圖7至圖12，等離子清潔設(shè)備整合系統(tǒng)200具有多數(shù)個等離子清潔設(shè)備100，并且所述等離子清潔設(shè)備100分別具有吸排氣部150。因此，每一個等離子清潔設(shè)備100均具有冷卻功能、及將等離子處理過程中所產(chǎn)生的廢氣除掉的功能。所以，為了達到高清潔力的功效，本發(fā)明可通過多個等離子清潔設(shè)備100整合成一個整合系統(tǒng)來控制，為了使等離子清潔設(shè)備100的吸排氣功能更有效率，所以各吸排氣部150均具有綜合控制功能。有關(guān)綜合控制方法如下所述請參閱圖7，數(shù)個等離子清潔設(shè)備100分別具有吸排氣部150，其能有效率地進行所述吸排氣部150的排氣功能。這種情況是將在清潔作業(yè)進行中所產(chǎn)生的污染物質(zhì)及臭氧等有害物質(zhì)強力的吸入之后排出到外部。
請參閱圖8，數(shù)個等離子清潔設(shè)備100分別具有吸排氣部150，其能有效地進行所述吸排氣部150的排氣(吹氣)功能。這種情況是為了針對待清潔物及電極部執(zhí)行強而有力的冷卻功能。
請參閱圖9，最外圍的等離子清潔設(shè)備100的吸排氣部150只做排氣(吹氣)動作，而剩下的吸排氣部150則作為吸氣用途。請參閱圖10，其與圖9剛好相反，最外圍的等離子清潔設(shè)備100的吸排氣部150只做吸氣動作，而剩下的吸排氣部150則作為排氣(吹氣)用途。但這種情況的目的是為了要更有效的進行冷卻功能與吸排氣功能。
請參閱圖11，每一個等離子清潔設(shè)備100一側(cè)的吸排氣部150均作為吸氣用途，而另一側(cè)的吸排氣部150則作為排氣(吹氣)用途。
請參閱圖12，多個等離子清潔設(shè)備100分別具有吸排氣部150以進行排氣(吹氣)功能。另外，在每兩個等離子清潔設(shè)備100之間安裝有一吸氣部(220)，利用這個吸氣部(220)以進行吸氣功能。
本發(fā)明所取得的的效果為在本發(fā)明等離子清潔設(shè)備及其整合系統(tǒng)中，將發(fā)熱的原料氣體經(jīng)過放熱塊，放熱塊有效吸收原料氣體的熱量，然后把放熱塊上所產(chǎn)生的熱量有效地吸收，可以利用放熱塊有效地降溫；原料氣體經(jīng)過放熱塊之后，放熱塊在經(jīng)過吸收熱量之后溫度上升，氣體的活動會更劇烈，可以使原料氣體擴散更加活躍。尤其是當(dāng)原料氣體經(jīng)過放熱塊的空間時，因為放熱塊的阻礙而在放熱部內(nèi)的空間內(nèi)均勻地擴散。這種設(shè)計的優(yōu)點在于因為這個均勻地擴散的原料氣體供給電極部內(nèi)之后，可以得到濃度均勻的等離子。
然而，以上所述的僅為本發(fā)明最佳具體實施例之一的詳細說明和附圖，然而本發(fā)明的特征并不局限于此，其并非用以限制本發(fā)明，本發(fā)明的所有保護范圍應(yīng)以下述的權(quán)利要求書為準，凡符合本發(fā)明權(quán)利要求書的精神及與其類似變化的實施例，均應(yīng)包含于本發(fā)明的保護范圍中，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員在本發(fā)明的領(lǐng)域內(nèi)，無需創(chuàng)造性的勞動即可得到的變化或修飾均應(yīng)涵蓋在以下本發(fā)明申請的專利保護范圍中。
權(quán)利要求
1.一種等離子清潔設(shè)備，其特征在于，該等離子清潔設(shè)備包括電極部，其具有多個以一預(yù)定距離間隔并排的電極；放熱部，其具有接觸于該電極部一側(cè)的突出塊放熱板以及一與該突出塊放熱板配合的放熱墻；原料氣體導(dǎo)入部，其形成于該放熱部一側(cè)，并與該突出塊放熱板和該放熱墻之間所形成的通道的一端相通，以導(dǎo)引原料氣體經(jīng)過該放熱部；原料氣體供給導(dǎo)引部，其與該突出塊放熱板和該放熱墻之間所形成的通道的另一端相通，以接收經(jīng)過該放熱部的原料氣體；以及吸排氣部，其設(shè)置在與該原料氣體導(dǎo)入部分離的空間上，并且該吸排氣部上端具有與外部相通的第一氣體通路，該吸排氣部下端具有與外部相通的第二氣體通路。
2.如權(quán)利要求1所述的等離子清潔設(shè)備，其特征在于，該等離子清潔設(shè)備進一步包括連通于該電極部與該原料氣體供給導(dǎo)引部的原料氣體臨時貯存部。
3.如權(quán)利要求2所述的等離子清潔設(shè)備，其特征在于該原料氣體臨時貯存部的內(nèi)部裝有多顆陶瓷球。
4.如權(quán)利要求1所述的等離子清潔設(shè)備，其特征在于該第一氣體通路吸入冷卻氣體，再由該第二氣體通路排出，而形成排氣功能；或者該第二氣體通路吸入氣體，再由該第一氣體通路排出，而形成吸氣功能。
5.如權(quán)利要求4所述的等離子清潔設(shè)備，其特征在于該排氣功能與該吸氣功能同時或分開在同一電漿清潔設(shè)備上進行。
6.如權(quán)利要求1所述的等離子清潔設(shè)備，其特征在于該第二氣體通路的出風(fēng)口方向與地面呈垂直狀態(tài)。
7.如權(quán)利要求1所述的等離子清潔設(shè)備，其特征在于該第二氣體通路的出風(fēng)口方向與地面呈傾斜狀態(tài)。
8.如權(quán)利要求1所述的等離子清潔設(shè)備，其特征在于該突出塊放熱板具有多個放熱塊。
9.一種等離子清潔設(shè)備的整合系統(tǒng)，其特征在于，包括多個彼此間隔一預(yù)定距離排列的等離子清潔設(shè)備，其中每一個等離子清潔設(shè)備包括電極部，其具有多個以一預(yù)定距離間隔并排的電極；放熱部，其具有接觸于該電極部一側(cè)的突出塊放熱板以及一與該突出塊放熱板配合的放熱墻；原料氣體導(dǎo)入部，其形成于該放熱部一側(cè)，并與該突出塊放熱板和該放熱墻之間所形成的通道的一端相通，以導(dǎo)引原料氣體經(jīng)過該放熱部的放熱塊；原料氣體供給導(dǎo)引部，其與該突出塊放熱板和該放熱墻之間所形成的通道的另一端相通，以接收經(jīng)過該放熱部的原料氣體；以及吸排氣部，其設(shè)置于與該原料氣體導(dǎo)入部分離的空間上，并且該吸排氣部上端具有與外部相通的第一氣體通路，該吸排氣部下端具有與外部相通的第二氣體通路。
10.如權(quán)利要求9所述的等離子清潔設(shè)備的整合系統(tǒng)，其特征在于所有的所述第一氣體通路接收冷卻氣體，并配合相對應(yīng)的所述第二氣體通路將冷卻氣體排出，以產(chǎn)生冷卻經(jīng)過等離子處理后的待清潔物及電極部的排氣功能。
11.如權(quán)利要求9所述的等離子清潔設(shè)備的整合系統(tǒng)，其特征在于所有的所述第二氣體通路吸入等離子處理過程中所產(chǎn)生的廢氣，并配合相對應(yīng)的所述第一氣體通路將廢氣排出，以產(chǎn)生吸除廢氣的吸氣功能。
12.如權(quán)利要求9所述的等離子清潔設(shè)備的整合系統(tǒng)，其特征在于最外圍的所述第一氣體通路接收冷卻氣體，并配合與所述最外圍的第一氣體通路相對應(yīng)的所述第二氣體通路將冷卻氣體排出，以產(chǎn)生冷卻經(jīng)過等離子處理后的待清潔物及電極部的排氣功能；其它的所述第二氣體通路則吸入等離子處理過程中所產(chǎn)生的廢氣，并配合其它相對應(yīng)的所述第一氣體通路將廢氣排出，以產(chǎn)生吸除廢氣的吸氣功能。
13.如權(quán)利要求9所述的等離子清潔設(shè)備的整合系統(tǒng)，其特征在于最外圍的所述第二氣體通路吸入等離子處理過程中所產(chǎn)生的廢氣，并配合與所述最外圍的所述第二氣體通路相對應(yīng)的所述第一氣體將廢氣排出，以產(chǎn)生吸除廢氣的吸氣功能；其它的所述第一氣體通路則接收冷卻氣體，并配合其它相對應(yīng)的所述第二氣體通路將冷卻氣體排出，以產(chǎn)生冷卻經(jīng)過等離子處理后的待清潔物及電極部的排氣功能。
14.如權(quán)利要求9所述的等離子清潔設(shè)備的整合系統(tǒng)，其特征在于在每一個該等離子清潔設(shè)備中，一個所述第一氣體通路接收冷卻氣體，并配合與該第一氣體通路相對應(yīng)的一個所述第二氣體通路將冷卻氣體排出，以產(chǎn)生冷卻經(jīng)過等離子處理后的待清潔物及電極部的排氣功能；另外，在每一個等離子清潔設(shè)備中，另一個所述第二氣體通路吸入等離子處理過程中所產(chǎn)生的廢氣，并配合與該第二氣體通路相對應(yīng)的另一個第一氣體通路將廢氣排出，以產(chǎn)生吸除廢氣的吸氣功能。
15.如權(quán)利要求9所述的等離子清潔設(shè)備的整合系統(tǒng)，其特征在于在每兩個等離子清潔設(shè)備之間安裝有一吸氣部。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種具排除有機及氧化污染且能夠有效散熱、清除廢氣功能的等離子清潔設(shè)備，其包括電極部、放熱部、原料氣體導(dǎo)入部、原料氣體供給導(dǎo)引部、及吸排氣部。該放熱部具有接觸于該電極部一側(cè)的突出塊放熱板以及一與該突出塊放熱板配合的放熱墻，通過該放熱部與該電極部的接觸，以進行該電極部的散熱。而且，該吸排氣部上端具有與外部相通的第一氣體通路，該吸排氣部下端具有與外部相通的第二氣體通路，通過該第一氣體通路與該第二氣體通路的配合，以產(chǎn)生用于散熱的排氣功能、用于排除廢氣的吸氣功能或兼具上述兩者的功能。
文檔編號H05H1/24GK1803322SQ200510120098
公開日2006年7月19日 申請日期2005年11月2日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月30日
發(fā)明者全炳俊, 樸鐘成 申請人:昶驎科技股份有限公司, 普羅尼克司股份有限公司