一種振膜設(shè)置圓形調(diào)音層的動圈揚(yáng)聲器的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種振膜設(shè)置圓形調(diào)音層的動圈揚(yáng)聲器，包括框架、設(shè)于該框架上的磁回路、設(shè)于該磁回路的磁隙中的音圈以及固定在框架和音圈上的振膜，所述振膜具有圓形外緣，其特征在于：所述振膜表面上設(shè)有繞所述振膜中心旋轉(zhuǎn)對稱的調(diào)音層，該調(diào)音層與所述振膜呈無間隙的密合狀態(tài)；所述調(diào)音層在該振膜外緣所在平面上的投影形狀為圓形，且所述調(diào)音層面積占其所在的振膜表面總面積的比例為0.1-0.7，且相同面積的所述調(diào)音層和振膜本體的質(zhì)量比值為0.1-10。其優(yōu)點(diǎn)是：通過在振膜上設(shè)置調(diào)音層來改變振膜的質(zhì)量分布，進(jìn)而控制揚(yáng)聲器的聲音特性，使低、高頻響應(yīng)以及瞬態(tài)更加均衡，因此達(dá)到了良好的聲音效果。
【專利說明】 —種振膜設(shè)置圓形調(diào)音層的動圈揚(yáng)聲器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及揚(yáng)聲器【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種振膜設(shè)置圓形調(diào)音層的動圈揚(yáng)聲器。

【背景技術(shù)】
[0002]振膜的構(gòu)造是影響揚(yáng)聲器發(fā)聲效果的關(guān)鍵性因素，因而對振膜的設(shè)計一直是揚(yáng)聲器設(shè)計領(lǐng)域內(nèi)不斷進(jìn)行發(fā)展的一個重要的課題。現(xiàn)有的揚(yáng)聲器振膜的幾何形狀主要分為兩類，一種即圓錐振膜揚(yáng)聲器和平面振膜揚(yáng)聲器。無論何種揚(yáng)聲器都存在著一些缺陷，這些缺陷大都主要是由揚(yáng)聲器本身振膜的材料以及結(jié)構(gòu)所引起的，而其中最主要的影響因素則為振膜的結(jié)構(gòu)。
[0003]通常，對振膜結(jié)構(gòu)的改進(jìn)是通過改進(jìn)振膜的結(jié)構(gòu)、材料、幾何形狀以及表面處理等，無論進(jìn)行上述的何種改進(jìn)，其主要的目的是:一是為了增強(qiáng)振膜的剛性，使振膜得到分區(qū)加強(qiáng)，在工作時，減少分割振動的情況；二是改善振膜的阻尼特性，使其能吸收由振膜材料本身產(chǎn)生的音染以及分割振動所產(chǎn)生的雜音，從而得到高保真的效果?；谶@種改進(jìn)思路，在振膜上涂覆阻尼膠或者采用復(fù)合結(jié)構(gòu)的振膜成為常見手段。
[0004]但是，本 申請人:對振膜結(jié)構(gòu)改進(jìn)的研究和實驗中發(fā)現(xiàn)，除振膜剛性和阻尼特性外，改變振膜的質(zhì)量分布同樣可以減少分割振動，對于音質(zhì)有著極為重要的影響。目前對振膜結(jié)構(gòu)的改進(jìn)僅僅局限于提高振膜剛性和阻尼特性。
實用新型內(nèi)容
[0005]本實用新型實施例的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，提出一種振膜設(shè)置圓形調(diào)音層的動圈揚(yáng)聲器，通過在振膜上設(shè)置調(diào)音層來改變振膜的質(zhì)量分布，減少了分割振動，提高了揚(yáng)聲器的音質(zhì)。
[0006]為了達(dá)到上述實用新型目的，本實用新型實施例提出的一種振振膜設(shè)置圓形調(diào)音層的動圈揚(yáng)聲器是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
[0007]—種振膜設(shè)置圓形調(diào)音層的動圈揚(yáng)聲器，包括框架、設(shè)于該框架上的磁回路、設(shè)于該磁回路的磁隙中的音圈以及固定在框架和音圈上的振膜，所述振膜具有圓形外緣，其特征在于:所述振膜表面上設(shè)有繞所述振膜中心旋轉(zhuǎn)對稱的調(diào)音層，該調(diào)音層與所述振膜呈無間隙的密合狀態(tài)；所述調(diào)音層在該振膜外緣所在平面上的投影形狀為圓形，且所述調(diào)音層面積占其所在的振膜表面總面積的比例為0.1-0.7，且相同面積的所述調(diào)音層和振膜本體的質(zhì)量比值為0.1-10。
[0008]所述調(diào)音層厚度為1-100微米，所述振膜本體的厚度為0.3-100微米。
[0009]所述調(diào)音層為涂料印刷在所述振膜上形成的涂層。
[0010]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是:通過在振膜上設(shè)置調(diào)音層來改變振膜的質(zhì)量分布，進(jìn)而控制揚(yáng)聲器的聲音特性，使低、高頻響應(yīng)以及瞬態(tài)更加均衡，因此達(dá)到了良好的聲音效果。本實用新型人經(jīng)大量的試驗證明，本實用新型同現(xiàn)有技術(shù)相比較，以極低的制造成本及材料成本，而獲得一種極佳的保真效果及音質(zhì)，可作為高品質(zhì)的揚(yáng)聲器振
膜。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]通過下面結(jié)合附圖對其示例性實施例進(jìn)行的描述，本實用新型上述特征和優(yōu)點(diǎn)將會變得更加清楚和容易理解。
[0012]圖1為本實用新型實施例動圈揚(yáng)聲器的剖面示意圖；
[0013]圖2為本實用新型實施例振膜結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖對本實用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明，以便于同行業(yè)技術(shù)人員的理解:
[0015]如圖1-2所示，標(biāo)號分別表示:
[0016]框架1、軛環(huán)2、振膜3、調(diào)音層4、線圈骨架5、磁路6、線圈7。
[0017]參見圖1所不，本實施例提供一種振膜設(shè)置圓形調(diào)音層的動圈揚(yáng)聲器，動圈揚(yáng)聲器的結(jié)構(gòu)和常規(guī)的動圈揚(yáng)聲器基本相同，碗型的框架I底部設(shè)置有磁路6，磁路6上形成有磁隙，音圈的線圈骨架5插入磁隙中并可沿磁隙上下移動。線圈骨架5上纏繞有線圈7。框架I頂部周緣通過軛環(huán)2固定安裝振膜3，振膜3與線圈骨架5固定連接。
[0018]參見圖2，和常規(guī)動圈揚(yáng)聲器結(jié)構(gòu)不同的是，振膜3表面上設(shè)有繞所述振膜3中心旋轉(zhuǎn)對稱的調(diào)音層4，該調(diào)音層4與所述振膜3呈無間隙的密合狀態(tài)。在本實施例中，所述調(diào)音層4為油墨印刷在所述振膜上形成的涂層。
[0019] 申請人:在經(jīng)過反復(fù)試驗和長時間的研究后發(fā)現(xiàn)，對于調(diào)音層4的形狀和大小有如下要求:
[0020]調(diào)音層4在該振膜外緣所在平面上的投影形狀為圓形。
[0021]且所述調(diào)音層面積占其所在的振膜表面總面積的比例為0.1-0.7，且相同面積的所述調(diào)音層和振膜本體的質(zhì)量比值為0.1-10。
[0022]優(yōu)選的，調(diào)音層4厚度應(yīng)當(dāng)控制在1-100微米，所述振膜3的厚度應(yīng)當(dāng)控制在0.3-100 微米。
[0023]以上通過實施例對于本實用新型的實用新型意圖和實施方式進(jìn)行詳細(xì)說明，但是本實用新型所屬領(lǐng)域的一般技術(shù)人員可以理解，本實用新型以上實施例僅為本實用新型的優(yōu)選實施例之一，為篇幅限制，這里不能逐一列舉所有實施方式，任何可以體現(xiàn)本實用新型權(quán)利要求技術(shù)方案的實施，都在本實用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0024]需要注意的是，以上內(nèi)容是結(jié)合具體的實施方式對本實用新型所作的進(jìn)一步詳細(xì)說明，不能認(rèn)定本實用新型的【具體實施方式】僅限于此，在上述實施例的指導(dǎo)下，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在上述實施例的基礎(chǔ)上進(jìn)行各種改進(jìn)和變形，而這些改進(jìn)或者變形落在本實用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種振膜設(shè)置圓形調(diào)音層的動圈揚(yáng)聲器，包括框架、設(shè)于該框架上的磁回路、設(shè)于該磁回路的磁隙中的音圈以及固定在框架和音圈上的振膜，所述振膜具有圓形外緣，其特征在于:所述振膜表面上設(shè)有繞所述振膜中心旋轉(zhuǎn)對稱的調(diào)音層，該調(diào)音層與所述振膜呈無間隙的密合狀態(tài)；所述調(diào)音層在該振膜外緣所在平面上的投影形狀為圓形，且所述調(diào)音層面積占其所在的振膜表面總面積的比例為0.1-0.7，且相同面積的所述調(diào)音層和振膜本體的質(zhì)量比值為0.1-10。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種振膜設(shè)置圓形調(diào)音層的動圈揚(yáng)聲器，其特征在于:所述調(diào)音層厚度為1-100微米，所述振膜本體的厚度為0.3-100微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種振膜設(shè)置圓形調(diào)音層的動圈揚(yáng)聲器，其特征在于:所述調(diào)音層為涂料印刷在所述振膜上形成的涂層。
【文檔編號】H04R9/06GK204145729SQ201420291150
【公開日】2015年2月4日 申請日期:2014年6月3日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月3日
【發(fā)明者】邊仿 申請人:頭領(lǐng)科技（昆山）有限公司