本發(fā)明涉及散熱，特別是涉及一種散熱裝置及散熱系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

1、隨著電子產(chǎn)品越來越追求小型化和高集成度，其性能越來越強(qiáng)大的同時(shí)，產(chǎn)生的熱量也進(jìn)一步增大，使得散熱問題越來成為制約電子產(chǎn)品獲得更高性能的瓶頸。而現(xiàn)有技術(shù)中的散熱系統(tǒng)的散熱效果差，難以滿足電子產(chǎn)品的散熱需求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、基于此，有必要針對現(xiàn)有技術(shù)中的散熱系統(tǒng)的散熱效果差，難以滿足電子產(chǎn)品的散熱需求的問題，提供一種散熱裝置及散熱系統(tǒng)。

2、其技術(shù)方案如下：

3、一方面，提供了一種散熱裝置，包括：

4、座體，其設(shè)有閥槽、及與所述閥槽連通的出流口；

5、蓋體，其設(shè)置于所述座體設(shè)有所述閥槽的一側(cè)，并設(shè)有進(jìn)流口，所述蓋體靠近所述座體的一側(cè)設(shè)有與所述進(jìn)流口連通的蓋槽；

6、壓電振子，其兩端分別設(shè)置為固定端及自由端，所述固定端固定于所述座體設(shè)有所述閥槽的一側(cè)，以使所述壓電振子與所述閥槽的內(nèi)壁圍設(shè)形成閥腔，所述壓電振子與所述蓋槽的內(nèi)壁圍設(shè)形成的蓋腔，所述自由端與所述座體配合形成用于連通所述閥腔和所述蓋腔的主動閥；

7、其中，所述蓋槽的內(nèi)壁設(shè)有第一填充結(jié)構(gòu)，所述第一填充結(jié)構(gòu)被配置為當(dāng)所述壓電振子朝向所述蓋體振動至振幅時(shí)與所述壓電振子間隔設(shè)置。

8、下面進(jìn)一步對技術(shù)方案進(jìn)行說明：

9、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一填充結(jié)構(gòu)包括第一填充凸起，所述第一填充凸起位于所述閥槽的底壁上，并將所述蓋腔分隔成與所述進(jìn)流口連通的進(jìn)口腔和與所述主動閥連通的緩沖腔，所述第一填充凸起與所述自由端配合形成用于連通所述進(jìn)口腔和所述緩沖腔的控制閥。

10、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述控制閥位于所述固定端與所述主動閥之間。

11、在其中一個(gè)實(shí)施例中，當(dāng)所述緩沖腔和所述閥腔處于壓力平衡狀態(tài)時(shí)，所述第一填充凸起的頂面與所述自由端平行設(shè)置。

12、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一填充結(jié)構(gòu)包括第二填充凸起，所述第二填充凸起位于所述閥槽遠(yuǎn)離所述主動閥的一側(cè)。

13、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第二填充凸起的外表面設(shè)置為階梯面、斜面或弧面。

14、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述閥槽的內(nèi)壁設(shè)有第二填充結(jié)構(gòu)，所述第二填充結(jié)構(gòu)被配置為當(dāng)所述壓電振子朝向所述座體振動至振幅時(shí)與所述壓電振子間隔設(shè)置。

15、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第二填充結(jié)構(gòu)包括第三填充凸起，所述第三填充凸起位于所述閥槽遠(yuǎn)離所述主動閥的一側(cè)。

16、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述出流口的數(shù)量、所述閥槽的數(shù)量及所述壓電振子的數(shù)量均至少為一個(gè)，各個(gè)所述固定端均固定于所述座體設(shè)有所述閥槽的一側(cè)，以使所述蓋槽的內(nèi)壁與各個(gè)所述壓電振子圍設(shè)形成所述蓋腔，各個(gè)所述壓電振子與各個(gè)所述閥槽的內(nèi)壁對應(yīng)圍設(shè)形成各個(gè)所述閥腔，各個(gè)所述閥腔均與至少一個(gè)所述出流口連通，各個(gè)所述自由端均與所述座體對應(yīng)配合形成各個(gè)所述主動閥，各個(gè)所述主動閥與各個(gè)所述閥腔對應(yīng)連通，并均與所述蓋腔連通。

17、另一方面，提供了一種散熱系統(tǒng)，包括至少一個(gè)所述的散熱裝置。

18、上述實(shí)施例中的散熱裝置及散熱系統(tǒng)，使用時(shí)，壓電振子在特定頻率的交流驅(qū)動信號下高速振動，壓電振子的自由端對應(yīng)上下擺動，蓋腔和閥腔的容積隨之變化，導(dǎo)致壓力的變化，同時(shí)主動閥也在不停的開關(guān)，在兩者共同作用下，驅(qū)動冷卻流體從蓋腔向閥腔單向流動，最終從出流口噴射到發(fā)熱體上，實(shí)現(xiàn)對發(fā)熱體進(jìn)行散熱。本申請中的第一填充結(jié)構(gòu)填充一部分的蓋腔區(qū)域，使得蓋腔的容積減小的同時(shí)，壓電振子的自由端與蓋槽的底壁之間的距離不變。當(dāng)自由端朝向蓋體的一側(cè)偏轉(zhuǎn)時(shí)，抵抗自由端偏轉(zhuǎn)的阻力基本不變，而蓋腔的容積變化率增大，蓋腔內(nèi)會有更大的正壓力以驅(qū)動更多流體向閥腔流動。當(dāng)自由端朝向座體的一側(cè)偏轉(zhuǎn)時(shí)，蓋腔內(nèi)的流體對自由端的拉力基本不變，蓋腔會有更高的負(fù)壓力以從外界抽吸更多流體，使得蓋腔內(nèi)有更多的流體流進(jìn)閥腔，出流口的流量增加，提高散熱裝置的散熱性能。

技術(shù)特征：

1.一種散熱裝置，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散熱裝置，其特征在于，所述第一填充結(jié)構(gòu)包括第一填充凸起，所述第一填充凸起位于所述閥槽的底壁上，并將所述蓋腔分隔成與所述進(jìn)流口連通的進(jìn)口腔和與所述主動閥連通的緩沖腔，所述第一填充凸起與所述自由端配合形成用于連通所述進(jìn)口腔和所述緩沖腔的控制閥。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的散熱裝置，其特征在于，所述控制閥位于所述固定端與所述主動閥之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的散熱裝置，其特征在于，當(dāng)所述緩沖腔和所述閥腔處于壓力平衡狀態(tài)時(shí)，所述第一填充凸起的頂面與所述自由端平行設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散熱裝置，其特征在于，所述第一填充結(jié)構(gòu)包括第二填充凸起，所述第二填充凸起位于所述閥槽遠(yuǎn)離所述主動閥的一側(cè)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的散熱裝置，其特征在于，所述第二填充凸起的外表面設(shè)置為階梯面、斜面或弧面。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散熱裝置，其特征在于，所述閥槽的內(nèi)壁設(shè)有第二填充結(jié)構(gòu)，所述第二填充結(jié)構(gòu)被配置為當(dāng)所述壓電振子朝向所述座體振動至振幅時(shí)與所述壓電振子間隔設(shè)置。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的散熱裝置，其特征在于，所述第二填充結(jié)構(gòu)包括第三填充凸起，所述第三填充凸起位于所述閥槽遠(yuǎn)離所述主動閥的一側(cè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的把手結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述出流口的數(shù)量、所述閥槽的數(shù)量及所述壓電振子的數(shù)量均至少為一個(gè)，各個(gè)所述固定端均固定于所述座體設(shè)有所述閥槽的一側(cè)，以使所述蓋槽的內(nèi)壁與各個(gè)所述壓電振子圍設(shè)形成所述蓋腔，各個(gè)所述壓電振子與各個(gè)所述閥槽的內(nèi)壁對應(yīng)圍設(shè)形成各個(gè)所述閥腔，各個(gè)所述閥腔均與至少一個(gè)所述出流口連通，各個(gè)所述自由端均與所述座體對應(yīng)配合形成各個(gè)所述主動閥，各個(gè)所述主動閥與各個(gè)所述閥腔對應(yīng)連通，并均與所述蓋腔連通。

10.一種散熱系統(tǒng)，其特征在于，包括至少一個(gè)如權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的散熱裝置。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種散熱裝置及散熱系統(tǒng)。散熱裝置包括座體、蓋體及壓電振子。座體設(shè)有閥槽、及與閥槽連通的出流口。蓋體設(shè)有進(jìn)流口、及與進(jìn)流口連通的蓋槽。壓電振子與閥槽的內(nèi)壁圍設(shè)形成閥腔，壓電振子與蓋槽的內(nèi)壁圍設(shè)形成的蓋腔。壓電振子的自由端與座體配合形成用于連通閥腔和蓋腔的主動閥。蓋槽的內(nèi)壁設(shè)有第一填充結(jié)構(gòu)。本申請中的第一填充結(jié)構(gòu)填充一部分的蓋腔區(qū)域，使得蓋腔的容積減小的同時(shí)，壓電振子的自由端與蓋槽的底壁之間的距離不變，進(jìn)而使得當(dāng)自由端偏轉(zhuǎn)時(shí)，蓋腔的容積變化率增大，蓋腔內(nèi)會有更大的正壓力以驅(qū)動更多流體向閥腔流動、及蓋腔內(nèi)會有更大的負(fù)壓力以從外界抽吸更多流體，提高散熱裝置的散熱效果。

技術(shù)研發(fā)人員：張曙光,柯超群,邱?
受保護(hù)的技術(shù)使用者：廣東奧迪威傳感科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/17