本發(fā)明涉及振動器件。

背景技術(shù)：

1、專利文獻1公開了具有封裝和收納于封裝的振動元件的振動器件。此外，封裝具有：板狀的底座基板，其在上表面搭載有振動元件；以及箱狀的蓋體，其具有在底座基板側(cè)開口的凹部，在該凹部內(nèi)收納有振動元件的狀態(tài)下與底座基板的上表面接合。

2、專利文獻1：日本特開2020-123928號公報

3、在此，在例如由石英、硅等根據(jù)結(jié)晶面而蝕刻速率不同的材料構(gòu)成蓋體、通過濕蝕刻形成凹部的情況下，凹部的內(nèi)周面以從蓋體的底部朝向底座基板側(cè)而遠離中心的方式傾斜。因此，凹部的內(nèi)表面與振動元件的間隔變窄，振動元件可能與凹部的內(nèi)周面接觸。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的振動器件具有：底座基板，其具有處于正反關(guān)系的第1面和第2面；振動元件，其搭載于所述底座基板的所述第1面?zhèn)?；以及蓋體，其具有在所述底座基板側(cè)開口的凹部，在所述凹部內(nèi)收納有所述振動元件的狀態(tài)下與所述第1面?zhèn)冉雍?，所述蓋體具有：底部；以及框狀的側(cè)壁部，其從所述底部的外緣部朝向所述底座基板側(cè)豎立設(shè)置，所述側(cè)壁部的內(nèi)周面具有第1傾斜部，所述第1傾斜部以隨著從所述底部側(cè)朝向所述底座基板側(cè)遠離第1假想中心線的方式傾斜，所述第1假想中心線穿過所述蓋體的俯視時的中心且與所述蓋體的和所述凹部相反的面正交，所述振動元件在俯視時具有：第1邊，其與所述第1傾斜部對置；第2邊，其沿著與所述第1邊交叉的方向；第1角部，其位于所述第1邊與所述第2邊之間；第3邊，其沿著與所述第1邊交叉的方向，位于與所述第2邊相反的一側(cè)；以及第2角部，其位于所述第1邊與所述第3邊之間，所述第1角部和所述第2角部分別被切除。

技術(shù)特征：

1.一種振動器件，其具有：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的振動器件，其中，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的振動器件，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的振動器件，其中，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的振動器件，其中，

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的振動器件，其中，

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的振動器件，其中，

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的振動器件，其中，

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的振動器件，其中，

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的振動器件，其中，

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的振動器件，其中，

12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的振動器件，其中，

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的振動器件，其中，

技術(shù)總結(jié)
振動器件。抑制與蓋體的接觸。振動器件具有：底座基板，其具有處于正反關(guān)系的第1面和第2面；振動元件，其搭載于底座基板的第1面?zhèn)龋灰约吧w體，其具有在底座基板側(cè)開口的凹部，在凹部內(nèi)收納有振動元件的狀態(tài)下與第1面?zhèn)冉雍希w體具有底部和從底部的外緣部朝向底座基板側(cè)豎立設(shè)置的框狀的側(cè)壁部，側(cè)壁部的內(nèi)周面具有第1傾斜部，第1傾斜部以隨著從底部側(cè)朝向底座基板側(cè)遠離穿過蓋體的中心的第1假想中心線的方式傾斜，振動元件在俯視時具有：與第1傾斜部對置的第1邊、沿著與第1邊交叉的方向的第2邊、位于第1邊與第2邊之間的第1角部、位于第2邊的相反側(cè)的第3邊以及位于第1邊與第3邊之間的第2角部，第1角部和第2角部分別被切除。

技術(shù)研發(fā)人員：古賀嵩祥,山本雄介,西澤龍?zhí)?br/>受保護的技術(shù)使用者：精工愛普生株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/26