本公開涉及一種顯示裝置及其制造方法。
背景技術(shù):
1、諸如液晶顯示器(lcd)或有機發(fā)光二極管顯示器(oled顯示器)的顯示裝置可以包括包含信號線和能夠顯示圖像的像素的顯示面板。每個像素通常包括被施加有數(shù)據(jù)信號的像素電極,并且像素電極連接到至少一個晶體管以接收數(shù)據(jù)信號。顯示面板可以具有作為能夠顯示圖像的區(qū)域的顯示區(qū)域和在顯示區(qū)域周圍的外圍區(qū)域??梢栽谕鈬鷧^(qū)域中形成包含印刷電路膜、驅(qū)動芯片等可以附著到其的多個墊的墊區(qū)域。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、實施例旨在防止在制造顯示裝置期間和之后在顯示裝置的墊中或周圍發(fā)生缺陷,并且防止堆疊層在墊周圍的剝離。
2、根據(jù)實施例的顯示裝置包括:顯示區(qū)域,包括多個像素;以及墊區(qū)域,在顯示區(qū)域外部并且包括多個墊,其中,墊包括在基底上的第一導電層、在第一導電層之上的第二導電層、在第二導電層之上并且覆蓋第二導電層的側(cè)表面的第三導電層和在第三導電層之上的第四導電層,并且顯示區(qū)域包括多個像素電極、在基底上與第三導電層在同一層處的第五導電層、以及在第五導電層與像素電極之間的第一絕緣層。在墊的第三導電層和第四導電層之間不存在與第一絕緣層在同一層處的絕緣層,并且第三導電層的側(cè)表面具有光滑表面。
3、顯示裝置還包括:至少一個絕緣層,在第一導電層與第二導電層之間,其中,至少一個絕緣層在第一導電層之上包括第一開口,并且第二導電層可以通過第一開口電連接到第一導電層。
4、第三導電層的側(cè)表面可以接觸至少一個絕緣層的最上表面。
5、顯示裝置還包括在像素電極上的封裝層和在封裝層上的第二絕緣層,其中,封裝層包括至少一個無機膜和至少一個有機膜,并且第二絕緣層可以包括在墊區(qū)域中接觸第三導電層的上表面和側(cè)表面的部分。
6、第二絕緣層還可以包括在兩個相鄰墊之間并且接觸至少一個絕緣層的最上表面的部分。
7、顯示區(qū)域還可以包括在像素電極上的多個感測電極,并且墊的第四導電層可以與感測電極在同一層處并且包括相同的材料。
8、顯示裝置還包括:第三絕緣層,在第二絕緣層與第四導電層之間,其中,第四導電層與第三絕緣層的上表面接觸,并且第二絕緣層和第三絕緣層彼此接觸。第二絕緣層和第三絕緣層可以在墊上包括第二開口。
9、一種根據(jù)實施例的制造顯示裝置的方法包括以下步驟:在基底的顯示區(qū)域和墊區(qū)域中形成第一導電層;在第一導電層上在顯示區(qū)域和墊區(qū)域中形成第二導電層;在第二導電層上并且在顯示區(qū)域和墊區(qū)域中形成第三導電層;在第三導電層上在顯示區(qū)域和墊區(qū)域中形成第一絕緣層;在第一絕緣層上在顯示區(qū)域中形成多個像素電極;在形成多個像素電極之后在第三導電層上形成保護圖案;以及使用保護圖案作為掩模去除墊區(qū)域中的第一絕緣層,其中,第一絕緣層包括有機絕緣材料并且墊區(qū)域中的第一絕緣層在被去除之前覆蓋墊區(qū)域中的第三導電層的側(cè)表面。
10、順序地堆疊在基底上并且在墊區(qū)域中的第一導電層、第二導電層和第三導電層彼此電連接以形成墊,并且在相鄰墊之間可以存在不存在第一絕緣層的區(qū)域。
11、在去除墊區(qū)域中的第一絕緣層之后,所述方法還包括去除保護圖案以及在第三導電層上在顯示區(qū)域和墊區(qū)域中形成第四導電層,墊區(qū)域中的第四導電層可以電連接到墊區(qū)域中的第三導電層并且可以包括在墊中。
12、在形成第一導電層之后并且在形成第二導電層之前,在顯示區(qū)域和墊區(qū)域中形成至少一個絕緣層,其中,墊區(qū)域中的至少一個絕緣層可以在第一導電層上包括第一開口,并且墊區(qū)域的第二導電層可以通過第一開口電連接到墊區(qū)域的第一導電層。
13、第三導電層的側(cè)表面可以接觸至少一個絕緣層的最上表面。
14、所述方法還可以包括:在像素電極上形成包括至少一個無機膜和至少一個有機膜的封裝層;以及在封裝層上形成第二絕緣層,其中,可以包括在墊區(qū)域中接觸第三導電層的上表面和側(cè)表面的第二絕緣層。
15、第二絕緣層可以在墊區(qū)域中的相鄰第三導電層之間,并且還可以包括與至少一個絕緣層的頂表面接觸的部分。
16、可以在形成封裝層之后形成第四導電層,并且顯示區(qū)域中的第四導電層可以包括多個感測電極。
17、在形成第二絕緣層之后并且在形成第四導電層之前,所述方法還包括在顯示區(qū)域和墊區(qū)域中形成第三絕緣層,其中,第四導電層可以接觸第三絕緣層的上表面,并且第二絕緣層和第三絕緣層可以在墊上包括第二開口。
18、顯示區(qū)域包括透射區(qū)域,并且去除第一絕緣層的步驟包括去除透射區(qū)域周圍的第一絕緣層和去除透射區(qū)域中的基底。
19、在形成多個像素電極之后,所述方法還包括在像素電極上形成第四絕緣層,其中,第四絕緣層在像素電極之上具有開口并且保護圖案的形成步驟可以在形成第四絕緣層之后進行。
20、保護圖案可以包括包含igzo的金屬氧化物。
21、所述方法還可以包括在去除第一絕緣層之后去除保護圖案。
22、根據(jù)實施例,能夠防止在制造顯示裝置期間和之后在墊中或在墊周圍可能發(fā)生的缺陷,并且防止堆疊層在墊周圍的剝離,從而防止墊之間的短路缺陷和腐蝕。
1.一種顯示裝置,所述顯示裝置包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置,其中:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括:
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置,其中:
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示裝置,其中:
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括:
8.一種用于制造顯示裝置的方法,所述方法包括以下步驟:
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造顯示裝置的方法,其中:
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制造顯示裝置的方法,其中,在去除所述墊區(qū)域中的所述第一絕緣層的步驟之后,所述方法還包括:
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制造顯示裝置的方法,所述方法還包括:
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造顯示裝置的方法,其中:
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制造顯示裝置的方法,所述方法還包括:
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制造顯示裝置的方法,其中:
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制造顯示裝置的方法,其中:
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制造顯示裝置的方法,所述方法還包括:
17.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造顯示裝置的方法,其中:
18.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造顯示裝置的方法,其中,
19.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造顯示裝置的方法,其中:
20.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造顯示裝置的方法,所述方法還包括: