一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備，所述柜體的上側(cè)設(shè)置有絕緣橫桿，所述絕緣橫桿的下側(cè)設(shè)置有防孤隔板，可以進一步提高絕緣性能，保證整流設(shè)備高壓下安全的運行，該用于電鍍工藝的整流設(shè)備，所述正導(dǎo)電排和負(fù)導(dǎo)電排上設(shè)置有均流電抗器，可以改善正導(dǎo)電排和負(fù)導(dǎo)電排的穩(wěn)態(tài)均流狀況，從而減少因均流導(dǎo)致的元件燒損問題，所述柜體的兩側(cè)設(shè)置有柵欄，可以在防止異物進入柜體的同時加強散熱，所述支撐柱設(shè)置為環(huán)氧支撐柱，可以進一步加強散熱，該整流設(shè)備，具有絕緣性能好以及散熱性能好的優(yōu)點，具有廣闊的市場前景。
【專利說明】
一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及整流設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]電鍍整流設(shè)備是以優(yōu)質(zhì)進口IGBT作為主功率器件，以超微晶(又稱納米晶)軟磁合金材料為主變壓器鐵芯，主控制系統(tǒng)采用了多環(huán)控制技術(shù)，結(jié)構(gòu)上采取了防鹽霧酸化措施。電源產(chǎn)品結(jié)構(gòu)合理，可靠性強。該電源以其體積小、重量輕、高效率、高可靠的優(yōu)越性能成為可控硅電源的更新?lián)Q代產(chǎn)品。適用于實驗、氧化、電解、鍍鋅、鍍鎳、鍍錫、鍍鉻、光電、冶煉、化成、腐蝕等各種精密表面處理場所。目前電鍍工藝的整流設(shè)備存在著絕緣性能差以及散熱性能差的現(xiàn)象。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備，以解決現(xiàn)有技術(shù)中導(dǎo)致的上述多項缺陷。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供以下的技術(shù)方案:一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備，包括柜體、正導(dǎo)電排、負(fù)導(dǎo)電排和散熱結(jié)構(gòu)，所述正導(dǎo)電排和負(fù)導(dǎo)電排依次設(shè)置在柜體內(nèi)部，所述柜體外側(cè)設(shè)置有輸出銅排，所述柜體的上側(cè)設(shè)置有儀表盤，所述儀表盤通過支撐柱與柜體連接，所述散熱結(jié)構(gòu)設(shè)置在柜體的下側(cè)，所述散熱結(jié)構(gòu)為風(fēng)箱和散熱孔，所述風(fēng)箱內(nèi)設(shè)置有側(cè)吹風(fēng)機。
[0005]優(yōu)選的，所述柜體的上側(cè)設(shè)置有絕緣橫桿。
[0006]優(yōu)選的，所述絕緣橫桿的下側(cè)設(shè)置有防孤隔板，所述防孤隔板設(shè)置在正導(dǎo)電排和負(fù)導(dǎo)電排之間。
[0007]優(yōu)選的，所述正導(dǎo)電排和負(fù)導(dǎo)電排上設(shè)置有均流電抗器。
[0008]優(yōu)選的，所述柜體的兩側(cè)設(shè)置有柵欄。
[0009]優(yōu)選的，所述支撐柱設(shè)置為環(huán)氧支撐柱，所述環(huán)氧支撐柱包括柱體和環(huán)氧外側(cè)，所述環(huán)氧外側(cè)設(shè)置在柱體的外側(cè)。
[0010]采用以上技術(shù)方案的有益效果是:本實用新型提供了一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備，所述柜體的上側(cè)設(shè)置有絕緣橫桿，所述絕緣橫桿的下側(cè)設(shè)置有防孤隔板，可以進一步提高絕緣性能，保證整流設(shè)備高壓下安全的運行，該用于電鍍工藝的整流設(shè)備，所述正導(dǎo)電排和負(fù)導(dǎo)電排上設(shè)置有均流電抗器，可以改善正導(dǎo)電排和負(fù)導(dǎo)電排的穩(wěn)態(tài)均流狀況，從而減少因均流導(dǎo)致的元件燒損問題，所述柜體的兩側(cè)設(shè)置有柵欄，可以在防止異物進入柜體的同時加強散熱，所述支撐柱設(shè)置為環(huán)氧支撐柱，可以進一步加強散熱，該整流設(shè)備，具有絕緣性能好以及散熱性能好的優(yōu)點，具有廣闊的市場前景。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖2為環(huán)氧支撐柱的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]其中:1-柜體、2-正導(dǎo)電排、3-負(fù)導(dǎo)電排、4-輸出銅排、5-儀表盤、6-環(huán)氧支撐柱、7-風(fēng)箱、8-散熱孔、9-側(cè)吹風(fēng)機、10-絕緣橫桿、11-防孤隔板、12-均流電抗器、13-柵欄、14-柱體、15-環(huán)氧外側(cè)。
【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖詳細(xì)說明本實用新型的優(yōu)選實施方式。
[0015]圖1出示本實用新型的【具體實施方式】:一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備，包括柜體1、正導(dǎo)電排2、負(fù)導(dǎo)電排3和散熱結(jié)構(gòu)，所述正導(dǎo)電排2和負(fù)導(dǎo)電排3依次設(shè)置在柜體I內(nèi)部，所述柜體I外側(cè)設(shè)置有輸出銅排4，所述柜體I的上側(cè)設(shè)置有儀表盤5，所述儀表盤5通過支撐柱與柜體I連接，所述散熱結(jié)構(gòu)設(shè)置在柜體I的下側(cè)，所述散熱結(jié)構(gòu)為風(fēng)箱7和散熱孔8，所述風(fēng)箱7內(nèi)設(shè)置有側(cè)吹風(fēng)機9。
[0016]此外，如圖2所示，所述柜體I的上側(cè)設(shè)置有絕緣橫桿10，所述絕緣橫桿10的下側(cè)設(shè)置有防孤隔板11，所述防孤隔板11設(shè)置在正導(dǎo)電排2和負(fù)導(dǎo)電排3之間，所述正導(dǎo)電排2和負(fù)導(dǎo)電排3上設(shè)置有均流電抗器12，所述柜體I的兩側(cè)設(shè)置有柵欄13，所述支撐柱設(shè)置為環(huán)氧支撐柱6，所述環(huán)氧支撐柱6包括柱體14和環(huán)氧外側(cè)15，所述環(huán)氧外側(cè)15置在柱體14的外側(cè)。
[0017]基于上述，本實用新型提供了一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備，所述柜體的上側(cè)設(shè)置有絕緣橫桿，所述絕緣橫桿的下側(cè)設(shè)置有防孤隔板，可以進一步提高絕緣性能，保證整流設(shè)備高壓下安全的運行，該用于電鍍工藝的整流設(shè)備，所述正導(dǎo)電排和負(fù)導(dǎo)電排上設(shè)置有均流電抗器，可以改善正導(dǎo)電排和負(fù)導(dǎo)電排的穩(wěn)態(tài)均流狀況，從而減少因均流導(dǎo)致的元件燒損問題，所述柜體的兩側(cè)設(shè)置有柵欄，可以在防止異物進入柜體的同時加強散熱，所述支撐柱設(shè)置為環(huán)氧支撐柱，可以進一步加強散熱，該整流設(shè)備，具有絕緣性能好以及散熱性能好的優(yōu)點，具有廣闊的市場前景。
[0018]以上所述的僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備，其特征在于:包括柜體、正導(dǎo)電排、負(fù)導(dǎo)電排和散熱結(jié)構(gòu)，所述正導(dǎo)電排和負(fù)導(dǎo)電排依次設(shè)置在柜體內(nèi)部，所述柜體外側(cè)設(shè)置有輸出銅排，所述柜體的上側(cè)設(shè)置有儀表盤，所述儀表盤通過支撐柱與柜體連接，所述散熱結(jié)構(gòu)設(shè)置在柜體的下側(cè)，所述散熱結(jié)構(gòu)為風(fēng)箱和散熱孔，所述風(fēng)箱內(nèi)設(shè)置有側(cè)吹風(fēng)機。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備，其特征在于:所述柜體的上側(cè)設(shè)置有絕緣橫桿。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備，其特征在于:所述絕緣橫桿的下側(cè)設(shè)置有防孤隔板，所述防孤隔板設(shè)置在正導(dǎo)電排和負(fù)導(dǎo)電排之間。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備，其特征在于:所述正導(dǎo)電排和負(fù)導(dǎo)電排上設(shè)置有均流電抗器。5.根據(jù)使用權(quán)利要求1所述的一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備，其特征在于:所述柜體的兩側(cè)設(shè)置有柵欄。6.根據(jù)使用權(quán)利要求1所述的一種用于電鍍工藝的整流設(shè)備，其特征在于:所述支撐柱設(shè)置為環(huán)氧支撐柱，所述環(huán)氧支撐柱包括柱體和環(huán)氧外側(cè)，所述環(huán)氧外側(cè)設(shè)置在柱體的外側(cè)。
【文檔編號】H02M7/00GK205647276SQ201620456028
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年5月19日
【發(fā)明人】鄔偉勇
【申請人】深圳市民達科技有限公司