本技術(shù)涉及磁瓦，具體為一種降噪用新型磁瓦。

背景技術(shù)：

1、磁瓦作為電機(jī)的重要組成部分，其核心作用在于產(chǎn)生穩(wěn)定的磁場(chǎng)，推動(dòng)電機(jī)進(jìn)行電磁能量的轉(zhuǎn)換，最終實(shí)現(xiàn)機(jī)械運(yùn)動(dòng)，其結(jié)構(gòu)通常由永磁材料如鈷磁鐵或釹鐵硼構(gòu)成，具有良好的磁性能，部分磁瓦還具備降噪的功能，磁瓦的原理涉及電磁感應(yīng)和洛倫茲力，當(dāng)電流通過(guò)電機(jī)線圈時(shí)，與磁瓦相互作用導(dǎo)致磁瓦產(chǎn)生磁力，推動(dòng)電機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)，在直流電機(jī)中，其可分為永磁直流電機(jī)和電磁勵(lì)磁直流電機(jī)兩種配置，磁瓦通常安裝在轉(zhuǎn)子上，如授權(quán)公告號(hào)為cn213521428u所公開(kāi)的一種4p直流永磁有刷電機(jī)磁瓦固定結(jié)構(gòu)，包括上下貫通的圓筒形機(jī)殼，所述機(jī)殼內(nèi)側(cè)壁上分別對(duì)稱的設(shè)置有多個(gè)定位塊和多個(gè)瓦卡，所述定位塊左右兩側(cè)都設(shè)有v字形定位塊卡槽，用于和磁瓦的卡合固定，所述定位塊的前后表面貫通設(shè)置有螺釘孔，用于定位塊借助工裝安裝時(shí)的螺釘插孔定位，所述磁瓦為軸對(duì)稱的弧形瓦片狀結(jié)構(gòu)，其使磁瓦可以完全插入定位塊和瓦卡的槽內(nèi)，在膠水失效后仍可以保證磁瓦不會(huì)脫落，但是該技術(shù)方案中，磁瓦背面與轉(zhuǎn)子機(jī)殼內(nèi)壁之間面面接觸，二者之間的空隙量較低，導(dǎo)致膠水難以充分覆蓋在磁瓦、機(jī)殼之間，而在電機(jī)運(yùn)行時(shí)，會(huì)產(chǎn)生一定的熱量，尤其是在高負(fù)荷和長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行的情況下，由于膠水充填不均勻、不充分，某些區(qū)域的熱擴(kuò)散可能受到限制，造成局部溫度升高，這可能導(dǎo)致膠水性能的降低，甚至引起膠水失效，影響磁瓦與機(jī)殼之間的牢固連接，即使設(shè)計(jì)了防卡死結(jié)構(gòu)也難以充根本上解決二者粘接不牢的問(wèn)題，且電機(jī)在運(yùn)行過(guò)程中也會(huì)產(chǎn)生振動(dòng)和沖擊，尤其是在頻繁啟動(dòng)和停止的工況下，如果膠水充填不均勻，會(huì)導(dǎo)致磁瓦與機(jī)殼之間的連接不夠牢固，無(wú)法有效地傳遞振動(dòng)和沖擊。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種降噪用新型磁瓦，以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種降噪用新型磁瓦，包括轉(zhuǎn)子機(jī)殼以及轉(zhuǎn)子機(jī)殼內(nèi)部環(huán)狀分布的若干個(gè)等距的磁瓦本體，所述轉(zhuǎn)子機(jī)殼的一端開(kāi)口處固定的后密封蓋，所述磁瓦本體的一端和后密封蓋的表面設(shè)置有防偏對(duì)插結(jié)構(gòu)，所述磁瓦本體表面的一端設(shè)置有和轉(zhuǎn)子機(jī)殼內(nèi)徑相等的凸字形中空定位環(huán)，所述磁瓦本體的背面和轉(zhuǎn)子機(jī)殼的內(nèi)壁之間設(shè)置有留膠縫隙部，所述磁瓦本體靠近轉(zhuǎn)子機(jī)殼中心點(diǎn)的一側(cè)外壁上設(shè)置有吸音降噪結(jié)構(gòu)。

3、優(yōu)選的，所述防偏對(duì)插結(jié)構(gòu)為固定在磁瓦本體底端的校準(zhǔn)孔，以及設(shè)置在后密封蓋表面與校準(zhǔn)孔相互同心的柱狀凸起，所述校準(zhǔn)孔的內(nèi)徑與柱狀凸起外徑相等。

4、優(yōu)選的，所述磁瓦本體的兩側(cè)外壁上皆設(shè)置有平面部。

5、優(yōu)選的，所述凸字形中空定位環(huán)、磁瓦本體的兩側(cè)外壁上皆設(shè)置有向著自身中心線方向延伸的內(nèi)凹部。

6、優(yōu)選的，所述吸音降噪結(jié)構(gòu)為一體成型在磁瓦本體靠近轉(zhuǎn)子機(jī)殼中心點(diǎn)一側(cè)外壁上的弧框中空吸音盒，以及弧框中空吸音盒內(nèi)部設(shè)置的空腔。

7、優(yōu)選的，所述弧框中空吸音盒靠近轉(zhuǎn)子機(jī)殼中心點(diǎn)的一側(cè)外壁上設(shè)置有若干個(gè)通孔。

8、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：該一種降噪用新型磁瓦通過(guò)設(shè)置有后密封蓋和凸字形中空定位環(huán)等相互配合的結(jié)構(gòu)，利用防偏對(duì)插結(jié)構(gòu)將磁瓦本體插接至轉(zhuǎn)子機(jī)殼、后密封蓋組成的筒狀結(jié)構(gòu)中，而留膠縫隙部?jī)?nèi)部的膠膏充分連接轉(zhuǎn)子機(jī)殼、磁瓦本體，增設(shè)留膠縫隙部可以確保膠水在磁瓦與機(jī)殼之間得到更加均勻的分布，有助于消除先前提到的不均勻填充問(wèn)題，確保膠水在整個(gè)連接區(qū)域中形成均勻、穩(wěn)定、厚重的的粘接層，提高轉(zhuǎn)子機(jī)殼、磁瓦本體連接的整體強(qiáng)度和穩(wěn)定性，且留膠縫隙部的存在使得連接結(jié)構(gòu)更具有柔性，能夠更好地吸收電機(jī)運(yùn)行中產(chǎn)生的振動(dòng)和沖擊，有助于減輕這些外部力量對(duì)磁瓦與機(jī)殼連接的影響。

技術(shù)特征：

1.一種降噪用新型磁瓦，其特征在于：包括轉(zhuǎn)子機(jī)殼(1)以及轉(zhuǎn)子機(jī)殼(1)內(nèi)部環(huán)狀分布的若干個(gè)等距的磁瓦本體(2)，所述轉(zhuǎn)子機(jī)殼(1)的一端開(kāi)口處固定的后密封蓋(3)，所述磁瓦本體(2)的一端和后密封蓋(3)的表面設(shè)置有防偏對(duì)插結(jié)構(gòu)，所述磁瓦本體(2)表面的一端設(shè)置有和轉(zhuǎn)子機(jī)殼(1)內(nèi)徑相等的凸字形中空定位環(huán)(6)，所述磁瓦本體(2)的背面和轉(zhuǎn)子機(jī)殼(1)的內(nèi)壁之間設(shè)置有留膠縫隙部(7)，所述磁瓦本體(2)靠近轉(zhuǎn)子機(jī)殼(1)中心點(diǎn)的一側(cè)外壁上設(shè)置有吸音降噪結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種降噪用新型磁瓦，其特征在于：所述防偏對(duì)插結(jié)構(gòu)為固定在磁瓦本體(2)底端的校準(zhǔn)孔(201)，以及設(shè)置在后密封蓋(3)表面與校準(zhǔn)孔(201)相互同心的柱狀凸起，所述校準(zhǔn)孔(201)的內(nèi)徑與柱狀凸起外徑相等。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種降噪用新型磁瓦，其特征在于：所述磁瓦本體(2)的兩側(cè)外壁上皆設(shè)置有平面部(202)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種降噪用新型磁瓦，其特征在于：所述凸字形中空定位環(huán)(6)、磁瓦本體(2)的兩側(cè)外壁上皆設(shè)置有向著自身中心線方向延伸的內(nèi)凹部(203)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種降噪用新型磁瓦，其特征在于：所述吸音降噪結(jié)構(gòu)為一體成型在磁瓦本體(2)靠近轉(zhuǎn)子機(jī)殼(1)中心點(diǎn)一側(cè)外壁上的弧框中空吸音盒(4)，以及弧框中空吸音盒(4)內(nèi)部設(shè)置的空腔(5)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種降噪用新型磁瓦，其特征在于：所述弧框中空吸音盒(4)靠近轉(zhuǎn)子機(jī)殼(1)中心點(diǎn)的一側(cè)外壁上設(shè)置有若干個(gè)通孔(401)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種降噪用新型磁瓦，包括轉(zhuǎn)子機(jī)殼以及轉(zhuǎn)子機(jī)殼內(nèi)部環(huán)狀分布的若干個(gè)等距的磁瓦本體，所述轉(zhuǎn)子機(jī)殼的一端開(kāi)口處固定的后密封蓋，所述磁瓦本體的一端和后密封蓋的表面設(shè)置有防偏對(duì)插結(jié)構(gòu)，所述磁瓦本體表面的一端設(shè)置有和轉(zhuǎn)子機(jī)殼內(nèi)徑相等的凸字形中空定位環(huán)，所述磁瓦本體的背面和轉(zhuǎn)子機(jī)殼的內(nèi)壁之間設(shè)置有留膠縫隙部。本技術(shù)確保膠水在整個(gè)連接區(qū)域中形成均勻、穩(wěn)定、厚重的的粘接層，提高轉(zhuǎn)子機(jī)殼、磁瓦本體連接的整體強(qiáng)度和穩(wěn)定性，且留膠縫隙部的存在使得連接結(jié)構(gòu)更具有柔性，能夠更好地吸收電機(jī)運(yùn)行中產(chǎn)生的振動(dòng)和沖擊，有助于減輕這些外部力量對(duì)磁瓦與機(jī)殼連接的影響。

技術(shù)研發(fā)人員：毛紹波,毛智勇,葉平,陳連濤
受保護(hù)的技術(shù)使用者：南京雙冠磁業(yè)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231207
技術(shù)公布日：2024/12/19