一種單柵柔性有機(jī)存儲器件的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于半導(dǎo)體存儲器件領(lǐng)域,具體設(shè)及一種單柵柔性有機(jī)存儲器件。
【背景技術(shù)】
[0002] 隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,目前W集成電路為核屯、的電子信息產(chǎn)業(yè)已經(jīng)超過了傳統(tǒng) 的石油、鋼鐵、汽車產(chǎn)業(yè),成為全球第一大產(chǎn)業(yè),帶動各行各業(yè)的發(fā)展和經(jīng)濟(jì)的進(jìn)步。根據(jù)摩 爾定律,集成電路上可容納的元器件的數(shù)目,約每隔18-24個月便會增加一倍,性能也將提 升一倍。目前最新的集成電路制造工藝,晶體管的的特征尺寸已達(dá)到了 14nm,但是隨著集 成電路的集成度越來越高,也伴隨著一些問題出現(xiàn),如量子隧穿效應(yīng)引起的電流泄漏等,運(yùn) 些問題將限制傳統(tǒng)無機(jī)半導(dǎo)體的發(fā)展,科學(xué)家也提出了改進(jìn)器件結(jié)構(gòu),采用高K材料作為 介質(zhì)層來解決目前的問題,但是從長遠(yuǎn)來看要從根本上解決問題必須采用全新的材料和方 法。自從人們發(fā)現(xiàn)滲雜的聚乙烘可W導(dǎo)電W來,用有機(jī)物代替?zhèn)鹘y(tǒng)無機(jī)半導(dǎo)體材料成為研 究的熱n,隨之興起一口新的學(xué)科一一有機(jī)電子學(xué),有機(jī)物作為半導(dǎo)體材料比傳統(tǒng)的娃錯 材料有更多優(yōu)勢,比如材料無數(shù)種,可用化學(xué)合成和修飾滿足各種需要,最重要的是有機(jī)材 料具有柔性,可大面積制備,適合打印、印刷、旋涂等低成本生產(chǎn)工藝。目前科學(xué)家已經(jīng)將有 機(jī)材料應(yīng)用到了信息顯示、傳感、存儲、光電轉(zhuǎn)換等領(lǐng)域,存儲器件作為集成電路中的也基 本元件,被應(yīng)用于各種電子產(chǎn)品,如我們常用優(yōu)盤、移動硬盤、內(nèi)存卡和手機(jī)等,現(xiàn)在逐漸興 起的智能穿戴設(shè)備如Google眼鏡、智能標(biāo)簽、智能手環(huán)等需要存儲器件具有良好的柔性和 機(jī)械強(qiáng)度,傳統(tǒng)的娃基存儲器已無法滿足要求,已有文獻(xiàn)報道了柔性的有機(jī)存儲器,但大部 分還是基于無機(jī)存儲器的結(jié)構(gòu)將無機(jī)材料換為了有機(jī)材料,目前有機(jī)類的存儲器按工作原 理可分為電荷俘獲型存儲器、鐵電存儲器、磁存儲器和阻變存儲器等,在電荷俘獲類的存儲 器中納米晶存儲器報道較多,該種存儲器與場效應(yīng)管的結(jié)構(gòu)類似,只是在柵介質(zhì)中加一層 納米晶個俘獲電荷層,納米晶俘獲電荷后會使闊值電壓偏移,通過外圍電路識別兩種變化 達(dá)到存儲信息的目的。但是納米晶存儲器的制作工藝比較復(fù)雜,多次擦除/編程操作后器 件的結(jié)構(gòu)容易破壞,納米晶俘獲電荷后電荷的泄露會導(dǎo)致存儲的可靠性下降。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003] 為了克服上述納米晶存儲器件制作工藝復(fù)雜、耐受性差、存儲時間短、使用壽命短 的缺點,本發(fā)明提出了 一種單柵柔性有機(jī)存儲器件,工作原理類似于納米晶存儲器,采用能 存儲電荷的有機(jī)駐極體材料,在外加電場下,半導(dǎo)體/柵介質(zhì)界面處的電荷會被柵介質(zhì)俘 獲,從而使場效應(yīng)管的闊值電壓發(fā)生偏移,達(dá)到和納米晶浮柵存儲器相同的存儲效果,不需 要在介質(zhì)層中夾雜納米晶,簡化了制作工藝,而且存儲時間長、耐受性好、使用壽命長。本發(fā) 明的結(jié)構(gòu)與有機(jī)場效應(yīng)管的結(jié)構(gòu)相同,主要由襯底、柵電極、介質(zhì)層、有機(jī)半導(dǎo)體層、源電極 和漏電極構(gòu)成。
[0004] 所述的襯底材料為柔性襯底材料,本發(fā)明所用的襯底材料是聚酷亞胺(PI),PI具 有很好的耐高溫,耐溶劑和很好的機(jī)械強(qiáng)度和初性,是一種理想的襯底材料,另外聚甲基丙 締酸甲醋(PMMA)、聚碳酸醋(PC)或者聚糞二甲酸乙二醇醋(PEN)等也可作為襯底材料。
[0005] 所述的柵電極為導(dǎo)電氧化物,本發(fā)明所用的柵電極材料是氧化銅錫(ITO),ITO是 一種導(dǎo)電性能良好的半導(dǎo)體材料,具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性,除此之外,氧化侶合銅(CuA1〇2) 和氧化鋒狂nO)也可作為柵電極材料。
[0006] 所述的柵電極通過在柔性襯底上生長導(dǎo)電薄膜制備,生長導(dǎo)電薄膜的常用方法有 磁控瓣射、真空熱蒸發(fā)、旋涂法和水熱法等,本發(fā)明所采用采用的是磁控瓣射法,柵電極厚 度為30nm,該種方法制備的ITO薄膜表面平整、附著強(qiáng)度高、厚度可控。
[0007] 所述的介質(zhì)層材料為駐極體,駐極體具有運(yùn)樣的性質(zhì),在外部電場下可W使自身 的偶極電荷極化同時也可保存外部注入的電荷,在撤去電場后仍能保留電極化狀態(tài)和注入 的電荷,駐極體通常為有機(jī)聚合物,常見的駐極材料有聚乙締醇(PVA),聚乙締(P巧、聚丙 締腫)、聚偏氣乙締(PVD巧、聚四氣乙締(PT曬等,駐極體可W增加電荷的存儲時間,防止 泄露電流,增加存儲的穩(wěn)定性,而且電荷的俘獲和釋放不會破壞駐極體的結(jié)構(gòu),可W多次擦 寫,增加存儲器的壽命。本發(fā)明所用的駐極體材料為PVA,其電荷存儲壽命長、易溶于水、可 降解,是一種理想的電荷存儲材料。
[0008] 所述的介質(zhì)層在柵電極上旋涂駐極體薄膜制備,本發(fā)明在柵介質(zhì)上旋涂PVA,厚度 為lOOnm。
[0009] 所述的有機(jī)半導(dǎo)體層采用的是獻(xiàn)菁鉛(PbPc),制備有機(jī)半導(dǎo)體層有多種成熟的方 法,主要有化學(xué)氣相沉積,真空熱蒸發(fā),等離子瓣射等方法。本發(fā)明所述的有機(jī)半導(dǎo)體層用 真空熱蒸發(fā)鍛膜的方法在介質(zhì)層上沉積一層化化,厚度為50nm。
[0010] 所述的源電極和漏電極為金屬材料,金、銀、儀、侶等都可做電極,本發(fā)明所用的電 極材料為金,源電極和漏電極通過在半導(dǎo)體層真空熱蒸發(fā)沉積而成,厚度為30nm。 W11] 技術(shù)方案
[0012] 1)將PI襯底先用去污粉擦洗,丙酬清洗10分鐘,然后放入乙醇蒸汽中干燥; 陽01引。將1中清洗的PI襯底放到瓣射臺上,換上ITO祀,當(dāng)腔內(nèi)真空達(dá)到IXlO4Pa, 通入氣氣,調(diào)整系統(tǒng)壓強(qiáng)維持在0. 4-0. 6化和瓣射功率為90w,設(shè)定瓣射時間30分鐘,完成 制備控制柵,ITO薄膜厚度為30nm;
[0014] 3)將PVA粉末和去離子水按比例混合,水浴加熱攬拌配置成質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%的溶 液,放在室溫下冷卻;
[0015] 4)設(shè)置勻膠機(jī)高低轉(zhuǎn)速和時間,將3)中瓣射好的PI襯底ITO面向上放在吸頭 上,將3)中的PVA溶液均勻滴加在片子上,旋涂后放入真空干燥箱干燥,介質(zhì)層的厚度為 IOOnm;
[0016] 5)將4)中干燥好的片子放入真空腔,加熱化化,然后在介質(zhì)層上沉積一層50nm 左右的有機(jī)半導(dǎo)體層;
[0017] 6)將5)中的片子放在掩膜板下,然后真空熱蒸發(fā)源漏金電極,電極厚度為30nm。 [001引技術(shù)分析
[0019] 本發(fā)明采用有機(jī)駐極體作為介質(zhì)層,利用駐極體可保留外界電場撤去后注入的電 荷,進(jìn)而使場效應(yīng)管的闊值電壓發(fā)生漂移,實現(xiàn)存儲的功能,而且駐極體存儲電荷時間長, 結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,可W使存儲器件的使用壽命、存儲時間有效增加,同時本發(fā)明的結(jié)構(gòu)與場效應(yīng)管 的結(jié)構(gòu)相同,制備工藝主要采用真空熱蒸發(fā)、磁控瓣射和旋涂浮的方法,工藝簡便,原料成 本低,可降低生產(chǎn)成本,有利于大規(guī)模生產(chǎn)。
【附圖說明】
[0020] 圖1為一種單柵柔性有機(jī)存儲器件的結(jié)構(gòu)簡圖。圖1中:1PI襯底、2IT0柵電極、 3PVA介質(zhì)層、4化化有機(jī)半導(dǎo)體層、5源電極、6漏電極。
【具體實施方式】
[0021] 1. 1將1裁成規(guī)則的形狀,然后用去污粉擦洗;
[0022] 1. 2將1放入丙酬超聲清洗10分鐘,然后放入乙醇蒸汽中干燥。 陽〇2引 實施例2
[0024] 2. 1將1放在瓣射臺上,用長條形掩膜板蓋住1,漏出條形電極的區(qū)域,ITO祀 材安放在瓣射臺上支架上,所用祀材為ITO陶瓷祀材(In203 :Sn02 = 90 : 10,純度為 99. 9900%),ITO祀材直徑為 80mm、厚度 5mm; 陽02引 2. 2調(diào)整祀材到襯底的距離為20cm,設(shè)置瓣射臺轉(zhuǎn)速為3化/min; 陽0%] 2. 3關(guān)閉真空室后,打開真空閥,當(dāng)真空室壓強(qiáng)達(dá)到IX10 4Pa時,通入高純氣氣和 氣氣,通過流量計調(diào)節(jié)真空度,真空度為0. 4-0. 6Pa,襯底溫度為60°C,瓣射功率設(shè)為90W;
[0027] 2. 4開始啟輝后,持續(xù)時間為3min,2的厚度為30皿。 陽0測 實施例3
[0029] 3. 1用電子稱稱取5毫克PVA粉末,注射器抽取0. 1毫升的去離子水,在小燒杯中 混合;
[0030] 3. 2將燒杯放入水浴鍋中加熱,水浴加熱攬拌使PVA成為均勻的透明溶液,PVA溶 液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%。 陽0川實施例4
[0032] 4. 1將實施例2中制備好的片子放在勻膠機(jī)的吸頭上,用取液器將實施例3中的 PVA溶液滴在2上;
[0033] 4. 2按下吸片,設(shè)置勻膠機(jī)低速轉(zhuǎn)為40化/min, 10秒,低速轉(zhuǎn)4000r/min,40秒;
[0034] 4. 3旋涂完成將片子放入真空干燥箱中,打開機(jī)械累,真空度為0. 09化,加熱溫度 為90°C,保存2小時,3的厚度為100皿。 陽0對實施例5
[0036] 5. 1將實施例4的中片子放入真空腔,打開機(jī)械累抽真空,當(dāng)真空度達(dá)到 3X10中日,打開熱偶開始加熱化化;
[0037] 5.2當(dāng)溫度達(dá)到390°C,化化開始蒸發(fā),用頻率計監(jiān)測蒸發(fā)速度,控制蒸發(fā)速度 0.8-IA/s; 陽03引 5. 3當(dāng)4達(dá)到50皿,停止加熱,在真空腔中冷卻。
[0039] 實施例6
[0040] 6. 1將掩模板放在4上,露出長方形的源漏電極區(qū)域,打開機(jī)械累,真空度達(dá)到 3X10中日,打開熱源加熱金絲;
[0041]6. 2當(dāng)金開始融化,達(dá)到金的沸點開始蒸發(fā)源漏電極,通過頻率計檢測蒸發(fā)厚度, 蒸發(fā)速率在2A/S左右; 陽O創(chuàng) 6. 3當(dāng)5、6的厚度厚達(dá)到30nm,停止加熱,在真空腔中冷卻。
【主權(quán)項】
1. 一種單柵柔性有機(jī)存儲器件,主要由襯底、柵電極、介質(zhì)層、有機(jī)半導(dǎo)體層、源電極和 漏電極構(gòu)成,其特征在于:采用柔性材料作為襯底,有機(jī)駐極體材料作為介質(zhì)層。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單柵柔性有機(jī)存儲器件,其特征在于所用的襯底材料為 聚酰亞胺。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單柵柔性有機(jī)存儲器件,其特征在于所用的介質(zhì)層材料 為聚乙烯醇。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單柵柔性有機(jī)存儲器件,其特征在于有機(jī)半導(dǎo)體層所用 的材料為酞菁鉛。
【專利摘要】本實用新型涉及一種單柵柔性有機(jī)存儲器件,主要由襯底、柵電極、介質(zhì)層、有機(jī)半導(dǎo)體層、源電極和漏電極構(gòu)成。本實用新型以柔性材料聚酰亞胺作為柔性襯底,制備的存儲器件具有良好的柔性和機(jī)械強(qiáng)度。有機(jī)駐極體材料作為介質(zhì)層,利用有機(jī)駐極體在外加電場下可以俘獲和釋放電荷的性質(zhì),調(diào)控閾值電壓實現(xiàn)存儲器件的功能,提高了存儲器件的存儲時間和使用壽命,同時本實用新型采用旋涂、磁控濺射和真空熱蒸發(fā)的方法制備,工藝簡單,可大面積制備,可有效降低生產(chǎn)成本。
【IPC分類】H01L51/30
【公開號】CN204857788
【申請?zhí)枴緾N201520483668
【發(fā)明人】馬力超, 唐瑩, 鄭亞開, 韋一, 彭應(yīng)全
【申請人】中國計量學(xué)院
【公開日】2015年12月9日
【申請日】2015年7月1日