技術(shù)編號：3317912
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及軸承滾柱制造領(lǐng)域，目的是提供一種。一種軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置，包括真空室，位于真空室中的工件支承轉(zhuǎn)臺，交替置于工件支承轉(zhuǎn)臺外周的若干對鉻靶和對數(shù)與鉻靶的對數(shù)相同的若干對碳靶，偏壓電源，加熱器，與真空室連通的真空裝置，工作氣體瓶和加熱器。該軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍裝置提供一種滾柱高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)和磨損率較小，振動精度和耐磨性較高，從而提高軸承的性能穩(wěn)定性。軸承滾柱非平衡磁控濺射離子鍍方法使磁控濺射的滾柱滿足滾柱高速旋轉(zhuǎn)時的摩擦系數(shù)...
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