帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底，該藍(lán)寶石襯底表面相互嵌套地設(shè)置有用于生長初級(jí)緩沖層的第一圖形、用于優(yōu)化緩沖層的第二圖形，所述的第一圖形的外形尺寸小于第二圖形的外形尺寸，所述的第一圖形具有第一分布周期，所述的第二圖形具有第二分布周期。雙周期是指尺寸不同的2種周期性圖形進(jìn)行嵌套，其中的一個(gè)周期用小圓形進(jìn)行周期排布，目的在于生長出初級(jí)緩沖層；而另一個(gè)周期則使用大圓形進(jìn)行周期排布，目的在于進(jìn)一步優(yōu)化緩沖層質(zhì)量，減少缺陷密度。通過雙周期的圖形化藍(lán)寶石襯底，形成了緩沖層的疊加優(yōu)化，從而使后續(xù)外延生長質(zhì)量得到提高。
【專利說明】帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體光電芯片制造領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]在藍(lán)寶石圖形化襯底領(lǐng)域，生產(chǎn)廠家通常使用的光罩大體上如下附圖1所描述的形態(tài)分布，即一個(gè)固定尺寸的圓形按照如下圖所示進(jìn)行周期性分布。這樣的光罩做出來的藍(lán)寶石襯底，在后續(xù)的外延生長會(huì)導(dǎo)致很多的外延缺陷存在。并且為了減少因緩沖層質(zhì)量而引起的外延缺陷向GaN擴(kuò)散的影響，必須將緩沖層長得較厚，以至于導(dǎo)致減少了產(chǎn)量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型旨在提供一種圖形化藍(lán)寶石的設(shè)計(jì)方案用來進(jìn)一步減少緩沖層生長過程中的缺陷，并提高產(chǎn)量。
[0004]為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供的一種帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底，該藍(lán)寶石襯底表面相互嵌套地設(shè)置有用于生長初級(jí)緩沖層的第一圖形、用于優(yōu)化緩沖層的第二圖形，所述的第一圖形的外形尺寸小于第二圖形的外形尺寸，所述的第一圖形具有第一分布周期，所述的第二圖形具有第二分布周期。雙周期是指尺寸不同的2種周期性圖形進(jìn)行嵌套，其中的一個(gè)周期用小圓形進(jìn)行周期排布，目的在于生長出初級(jí)緩沖層；而另一個(gè)周期則使用大圓形進(jìn)行 周期排布，目的在于進(jìn)一步優(yōu)化緩沖層質(zhì)量，減少缺陷密度。通過雙周期的圖形化藍(lán)寶石襯底，形成了緩沖層的疊加優(yōu)化，從而使后續(xù)外延生長質(zhì)量得到提高。
[0005]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的第一圖形、第二圖形均呈圓錐體外形。
[0006]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的第一圖形的外形尺寸范圍為寬度1.0-2.0Mffl，高度
0.8-1.2I^n0
[0007]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的第二圖形的外形尺寸范圍為第二圖形的外形尺寸范圍為寬度 2.2-2.8Mm,高度 1.5-1.8Mm。
[0008]由于采用了以上技術(shù)方案，本實(shí)用新型通過使用雙周期圖形來實(shí)現(xiàn)緩沖層的低缺陷生長，從而提高緩沖層的生長質(zhì)量，并且減少緩沖層的生長厚度，從而為提高產(chǎn)能提供幫助。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中藍(lán)寶石圖形化襯底領(lǐng)域所使用的光罩的示意圖；
[0010]圖2為根據(jù)本實(shí)用新型的帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底所使用的光罩的示意圖；
[0011]圖3為根據(jù)本實(shí)用新型的帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底經(jīng)過曝光顯影后的示意圖；
[0012]圖4為根據(jù)本實(shí)用新型的帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底經(jīng)過ICP刻蝕后的示意圖?！揪唧w實(shí)施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本實(shí)用新型的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
[0014]參見附圖2所示，為根據(jù)本實(shí)用新型的帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底所使用的光罩的示意圖，該光罩整體由相互間隔分布的大小圓形結(jié)構(gòu)構(gòu)成，依據(jù)該圖形進(jìn)行制板。
[0015]然后用該板進(jìn)行一般的黃光制程，曝光顯影后，圖形的剖面圖應(yīng)為如附圖3所示，在襯底上形成相互間隔分布的大小圓柱結(jié)構(gòu)構(gòu)成，圓柱頂部覆蓋有光刻膠。
[0016]隨后采用采用ICP法刻蝕，以獲得如附圖4所示的根據(jù)本實(shí)用新型的帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底經(jīng)過ICP刻蝕后的示意圖，隨后用刻蝕后的圖形化藍(lán)寶石襯底投入外延生產(chǎn)。
[0017]因而，本實(shí)用新型的實(shí)施例公開了一種帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底，該藍(lán)寶石襯底表面相互嵌套地設(shè)置有用于生長初級(jí)緩沖層的第一圖形、用于優(yōu)化緩沖層的第二圖形，第一圖形的外形尺寸小于第二圖形的外形尺寸，第一圖形具有第一分布周期，第二圖形具有第二分布周期。雙周期是指尺寸不同的2種周期性圖形進(jìn)行嵌套，其中的一個(gè)周期用小圓形進(jìn)行周期排布，目的在于生長出初級(jí)緩沖層；而另一個(gè)周期則使用大圓形進(jìn)行周期排布，目的在于進(jìn)一步優(yōu)化緩沖層質(zhì)量，減少缺陷密度。此處描述2種周期圖形微觀結(jié)構(gòu)帶來優(yōu)點(diǎn)的原理。通過雙周期的圖形化藍(lán)寶石襯底，形成了緩沖層的疊加優(yōu)化，從而使后續(xù)外延生長質(zhì)量得到提高。
[0018]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，第一圖形、第二圖形均呈圓錐體外形，第一圖形的外形尺寸范圍為寬度1.0-2.0Mm,高度0.8-1.2Mm，第二圖形的外形尺寸范圍為第二圖形的外形尺寸范圍為寬度2.2-2.8Mm,高度1.5-1.8Mm。由于采用了以上技術(shù)方案，本實(shí)用新型通過使用雙周期圖形來實(shí)現(xiàn)緩沖層的低缺陷生長，從而提高緩沖層的生長質(zhì)量，并且減少緩沖層的生長厚度，從而為提聞廣能提供幫助。
[0019]以上實(shí)施方式只為說明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并加以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍，凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所做的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底，其特征在于:該藍(lán)寶石襯底表面相互嵌套地設(shè)置有用于生長初級(jí)緩沖層的第一圖形、用于優(yōu)化緩沖層的第二圖形，所述的第一圖形的外形尺寸小于第二圖形的外形尺寸，所述的第一圖形具有第一分布周期，所述的第二圖形具有第二分布周期。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底，其特征在于:所述的第一圖形、第二圖形均呈圓錐體外形。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底，其特征在于:所述的第一圖形的外形尺寸范圍為寬度1.0-2.0Mm,高度0.8-1.2Mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶有雙周期圖形的藍(lán)寶石襯底，其特征在于:所述的第二圖形的外形尺寸范圍為寬度2.2-2.8Mm,高度1.5-1.8Mm。
【文檔編號(hào)】H01L23/13GK203746822SQ201420148565
【公開日】2014年7月30日 申請(qǐng)日期:2014年3月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月31日
【發(fā)明者】陳起偉, 魏臻, 孫智江, 施榮華 申請(qǐng)人:海迪科（南通）光電科技有限公司