專利名稱：研磨液供應臂定位輔助工具的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及半導體制造領域，尤其涉及一種研磨液供應臂定位輔助工具。
背景技術：
在半導體的生產(chǎn)工藝中，經(jīng)常需要進行化學機械研磨(Chemical MechanicalPolishing, CMP)工藝，化學機械研磨也稱為化學機械平坦化(Chemical MechanicalPlanarization)。化學機械研磨工藝是一個復雜的工藝過程,它是將晶圓(Wafer)表面與研磨墊(Pad)的研磨表面接觸,然后,通過晶圓表面與研磨表面之間的相對運動將晶圓表面平坦化，通常采用化學機械研磨設備，也稱為研磨機臺或拋光機臺來進行化學機械研磨工藝。所述研磨裝置包括一研磨頭(Head)，進行研磨工藝時，將要研磨的晶圓附著在研磨頭上，該晶圓的待研磨面向下并接觸相對旋轉(zhuǎn)的研磨墊，研磨頭提供的下壓力將該晶圓緊 壓到研磨墊上，所述研磨墊是粘貼于研磨平臺上，當該研磨平臺在馬達的帶動下旋轉(zhuǎn)時，研磨頭也進行相應運動；同時，研磨液通過研磨液供應臂(TSDA, Tunable Slurry DistributeArm)輸送到研磨墊上,并通過離心力均勻地分布在研磨墊上。請參閱圖I，在進行研磨制程之前，先要將研磨頭4和研磨液供應臂3設置于研磨平臺2上方的正確位置上，對于直徑為15英寸(即381毫米)的研磨平臺，設置研磨頭4的中心01與所述研磨平臺2的中心02的距離hi為5英寸(S卩127毫米)。而研磨液供應臂3的位置需要操作人員通過目測手動調(diào)整。一般是通過目測觀察研磨頭4的切線和研磨液供應臂3的噴嘴(Nozzle) 31的距離來確定研磨液供應臂3的位置。由于通過目測尋找研磨頭4的切線，會因個人的熟練程度而有所區(qū)別，經(jīng)常出現(xiàn)研磨液供應管3的位置設置不準確的情況，一方面，容易導致研磨液供應臂3碰撞研磨頭4，另一方面，容易使得研磨液的供應不符合要求，造成產(chǎn)品良率降低。因此，如何提供一種可以實現(xiàn)研磨液供應臂的準確、快速定位的研磨液供應臂定位輔助工具是本領域技術人員亟待解決的一個技術問題。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于提供一種研磨液供應臂定位輔助工具，可以實現(xiàn)對研磨液供應臂的準確、快速定位，以提高研磨效果和研磨效率。為了達到上述的目的，本實用新型采用如下技術方案—種研磨液供應臂定位輔助工具，用于調(diào)整研磨液供應臂的位置，所述研磨液供應臂的一端設有噴嘴，所述研磨液供應臂定位輔助工具包括參考墊，所述參考墊同心鋪設于研磨平臺上，所述參考墊與所述研磨平臺的形狀和大小相應，所述參考墊的上表面設有用于指示研磨液供應臂一端的噴嘴與參考墊的中心之間的位置關系的若干同心圓凹槽，若干同心圓凹槽以所述參考墊的中心為圓心。優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述若干同心圓凹槽包括密集型同心圓凹槽組和稀疏型同心圓凹槽組，所述密集型同心圓凹槽組位于所述稀疏型同心圓凹槽組的內(nèi)部。優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述密集型同心圓凹槽組包括3-8個小同心圓凹槽，相鄰的小同心圓凹槽之間的距離相等。優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述稀疏型同心圓凹槽組包括
2-3個大同心圓凹槽，相鄰的大同心圓凹槽的距離與相鄰的大、小同心圓凹槽之間的距離相
坐寸ο優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述密集型同心圓凹槽組包括4個小同心圓凹槽，所述稀疏型同心圓凹槽組包括2個大同心圓凹槽。優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述密集型同心圓凹槽組中位于最內(nèi)側的小同心圓凹槽的半徑是90毫米，相鄰的小同心圓凹槽之間的距離是7毫米，相鄰的大同心圓凹槽的距離以及相鄰的大、小同心圓凹槽之間的距離均是14毫米。優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，還包括若干半徑線，所述半徑線均勻分布于所述參考墊的下半圓內(nèi)。優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，相鄰的半徑線之間的夾角是30度。優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述參考墊的材質(zhì)是聚亞安酯。優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述若干同心圓凹槽中每個同心圓凹槽邊上標有表示各自距離參考墊的中心的距離的標記。本實用新型提供的研磨液供應臂定位輔助工具，采用參考墊，所述參考墊同心鋪設于研磨平臺上，所述參考墊與所述研磨平臺的形狀和大小相應，所述參考墊的上表面設有用于指示研磨液供應臂一端的噴嘴與參考墊的中心之間的位置關系的若干同心圓凹槽，所述若干同心圓凹槽以所述參考墊的中心為圓心，操作人員通過參照所述若干同心圓凹槽的位置，使研磨液供應臂可以快速到達正確的位置，因而實現(xiàn)了對研磨液供應臂的準確、快速定位。

本實用新型的研磨液供應臂定位輔助工具由以下的實施例及附圖給出。圖I為現(xiàn)有的研磨液供應臂調(diào)整方法的結構示意圖。圖2為本實用新型一實施例的研磨液供應臂定位輔助工具的結構示意圖。圖3為研磨后的理想的晶圓表面狀態(tài)示意圖。圖4為采用現(xiàn)有的方法對研磨液供應臂調(diào)整后進行研磨的晶圓表面狀態(tài)示意圖。圖5為采用本實用新型一實施例的研磨液供應臂定位輔助工具對研磨液供應臂調(diào)整后進行研磨的晶圓表面狀態(tài)示意圖。圖中，I-參考墊、11-小同心圓凹槽、12-大同心圓凹槽、13-半徑線、2-研磨平臺、
3-研磨液供應臂、31-噴嘴、4-研磨頭。
具體實施方式
下面將參照附圖對本實用新型進行更詳細的描述，其中表示了本實用新型的優(yōu)選實施例，應該理解本領域技術人員可以修改在此描述的本實用新型而仍然實現(xiàn)本實用新型的有利效果。因此，下列描述應當被理解為對于本領域技術人員的廣泛知道，而并不作為對本實用新型的限制。為了清楚，不描述實際實施例的全部特征。在下列描述中，不詳細描述公知的功能和結構，因為它們會使本實用新型由于不必要的細節(jié)而混亂。應當認為在任何實際實施例的開發(fā)中，必須作出大量實施細節(jié)以實現(xiàn)開發(fā)者的特定目標，例如按照有關系統(tǒng)或有關商業(yè)的限制，由一個實施例改變?yōu)榱硪粋€實施例。另外，應當認為這種開發(fā)工作可能是復雜和耗費時間的，但是對于本領域技術人員來說僅僅是常規(guī)工作。為使本實用新型的目的、特征更明顯易懂，
以下結合附圖對本實用新型的具體實施方式
作進一步的說明。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比率，僅用以方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。請參閱圖2，并結合圖1，本實例提供的研磨液供應臂定位輔助工具，用于調(diào)整研磨液供應臂3的位置，所述研磨液供應，3的一端設有噴嘴31，所述研磨液供應臂3的另一·端樞接于研磨機臺的機架(未圖示)，所述研磨液供應臂3能夠繞其另一端進行旋轉(zhuǎn)，所述研磨液供應臂定位輔助工具包括參考墊1，所述參考墊I同心鋪設于研磨平臺2上，所述參考墊I的中心O與所述研磨平臺2的中心重合。所述參考墊I與所述研磨平臺2的形狀和大小相應，所述參考墊I的上表面設有用于指示研磨液供應臂3 —端的噴嘴31與參考墊I的中心O之間的位置關系的若干同心圓凹槽，所述若干同心圓凹槽以所述參考墊I的中心O為圓心。當需要設置研磨液供應臂3的位置時，操作人員通過參照所述若干同心圓凹槽的位置，轉(zhuǎn)動所述研磨液供應臂3，直至使得噴嘴31到達指定的位置，從而，可以實現(xiàn)對研磨液供應臂3的準確、快速定位。本實施例中，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述若干同心圓凹槽包括密集型同心圓凹槽組和稀疏型同心圓凹槽組，所述密集型同心圓凹槽組位于所述稀疏型同心圓凹槽組的內(nèi)部。通過設置密集型同心圓凹槽組和稀疏型同心圓凹槽組，稀疏型同心圓凹槽組可以起到預警作用，因為，在研磨液供應臂3的旋轉(zhuǎn)過程中，噴嘴31首先到達稀疏型同心圓凹槽組，從而促使操作人員提高警惕。優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述密集型同心圓凹槽組包括
3-8個小同心圓凹槽11，相鄰的小同心圓凹槽11之間的距離相等。所述密集型同心圓凹槽組中小同心圓凹槽11的數(shù)量根據(jù)需要設定，不同的小同心圓凹槽11對應不同半徑，也分別對應了不用尺度的晶圓所需的噴嘴設定位置，從而擴大了研磨液供應臂定位輔助工具的應用范圍。優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述稀疏型同心圓凹槽組包括2-3個大同心圓凹槽12，相鄰的大同心圓凹槽12的距離與相鄰的大、小同心圓凹槽12、11之間的距離相等。具體的，本實施例中，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述密集型同心圓凹槽組包括4個小同心圓凹槽11，所述稀疏型同心圓凹槽組包括2個大同心圓凹槽12。本實施例中，研磨平臺的直徑是15英寸，優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述密集型同心圓凹槽組中位于最內(nèi)側的小同心圓凹槽11的半徑是90毫米，相鄰的小同心圓凹槽11之間的距離是7毫米，相鄰的大同心圓凹槽12的距離以及相鄰的大、小同心圓凹槽12、11之間的距離均是14毫米。本實施例中，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，還包括若干半徑線13，所述半徑線13均勻分布于所述參考墊I的下半圓內(nèi)。本實施例中，相鄰的半徑線13之間的夾角是30度。通過設置半徑線，可以方便操作人員進行噴嘴定位。優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述參考墊I的材質(zhì)是聚亞安酯(polyurethane)。當然,參考墊I也可以是由其他價格適中、粘接性能好且不會污染機臺的材質(zhì)制成。優(yōu)選的，在上述的研磨液供應臂定位輔助工具中，所述若干同心圓凹槽中每個同心圓凹槽邊上(即附近)標有表示各自距離參考墊I的中心O的距離的標記(未圖示)。通過設置所述標記，操作人員可以直觀讀取各個同心圓凹槽的距離參考墊I的中心O的距離，從而便于操作人員旋轉(zhuǎn)研磨液供應臂3，使得研磨液供應臂3 —端上的噴嘴31調(diào)整合適的位置，即使得噴嘴31與參考墊I的中心O的之間保持正確的距離關系。請繼續(xù)參閱圖2，本實施例的使用方法如下首先,將研磨液供應臂3旋轉(zhuǎn)到研磨平臺2的邊緣A點。然后，繼續(xù)旋轉(zhuǎn)研磨液供應臂3，當噴嘴31進入稀疏型同心圓凹槽組中的大同心圓凹槽12時，操作人員會減慢旋轉(zhuǎn)的速度，時刻關注噴嘴31是否到達指定地點B。最后，繼續(xù)旋轉(zhuǎn)研磨液供應臂3，使得噴嘴31到達指定地點B，可以是密集型同心圓凹槽組中的任意一個小同心圓凹槽11，本實施例中指定地點B是位于最外側的小同心圓凹槽11。請參閱圖3至圖5,其中，圖3為研磨后的理想的晶圓表面狀態(tài)不意圖(即晶圓表面輪廓線示意圖)，圖4為采用現(xiàn)有的方法對研磨液供應臂調(diào)整后進行研磨的晶圓表面狀態(tài)示意圖，圖5為采用本實用新型一實施例的研磨液供應臂定位輔助工具對研磨液供應臂調(diào)整后進行研磨的晶圓表面狀態(tài)示意圖。上述三個圖分別表征了對應晶圓上的49個取樣點的厚度，49個取樣點布置方法如下在晶圓上畫兩條相互垂直的直徑，一條水平直徑，一條豎直直徑，首先，沿水平直徑從左至右依次均勻設置第I至第25個取樣點，然后沿豎直直徑從上至下依次均勻設置第26至第49個取樣點。分別對上述49個取樣點進行測試，獲得各個點對應的厚度，分別得到上述三個晶圓表面狀態(tài)示意圖。由圖3至圖5對比可以見，采用圖5所示的本實用新型一實施例的研磨液供應臂定位輔助工具對研磨液供應臂調(diào)整后進行研磨的晶圓的表面狀態(tài)更加接近理想狀態(tài)的表面，尤其對比表征晶圓邊緣表面的第I個、第25個、第26以及第49個取樣點的厚度可知，圖5所示的表征晶圓邊緣表面的取樣點更加接近理想的晶圓邊緣表面，由此可知，采用采用本實用新型對研磨液供應臂調(diào)整后進行研磨的晶圓，其研磨均勻性更加好，提高了研磨質(zhì)量，顯著提高了對晶圓邊緣的研磨后的表面控制，使得晶圓邊緣的研磨效果更接近理想狀態(tài)，從而避免后面制程中再晶圓邊緣出現(xiàn)缺陷，提高了產(chǎn)品良率。綜上所述，本實用新型提供的研磨液供應臂定位輔助工具，采用參考墊，所述參考墊同心鋪設于研磨平臺上，所述參考墊與所述研磨平臺的形狀和大小相應，所述參考墊的上表面設有的用于指示研磨液供應臂一端的噴嘴與參考墊的中心之間的位置關系的若干同心圓凹槽，若干同心圓凹槽以所述參考墊的中心為圓心，操作人員通過參照所述參考墊的上表面設有用于指示研磨液供應臂一端的噴嘴與參考墊的中心之間的位置關系的若干同心圓凹槽的位置，進行對研磨液供應臂，從而可以快速到達正確的位置，因而實現(xiàn)了對研磨液供應臂的準確、快速定位。顯然，本領域的技術人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權利要求及其等同技術的范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型 在內(nèi)。
權利要求1.一種研磨液供應臂定位輔助工具，用于調(diào)整研磨液供應臂的位置，所述研磨液供應臂的一端設有噴嘴，其特征在于，所述研磨液供應臂定位輔助工具包括參考墊，所述參考墊同心鋪設于研磨平臺上，所述參考墊與所述研磨平臺的形狀和大小相應，所述參考墊的上表面設有用于指示研磨液供應臂一端的噴嘴與參考墊的中心之間的位置關系的若干同心圓凹槽，所述若干同心圓凹槽以所述參考墊的中心為圓心。
2.根據(jù)權利要求I所述的研磨液供應臂定位輔助工具，其特征在于，所述若干同心圓凹槽包括密集型同心圓凹槽組和稀疏型同心圓凹槽組，所述密集型同心圓凹槽組位于所述稀疏型同心圓凹槽組的內(nèi)部。
3.根據(jù)權利要求I所述的研磨液供應臂定位輔助工具，其特征在于，所述密集型同心圓凹槽組包括3-8個小同心圓凹槽，相鄰的小同心圓凹槽之間的距離相等。
4.根據(jù)權利要求3所述的研磨液供應臂定位輔助工具，其特征在于，所述稀疏型同心圓凹槽組包括2-3個大同心圓凹槽，相鄰的大同心圓凹槽的距離與相鄰的大、小同心圓凹槽之間的距離相等。
5.根據(jù)權利要求4所述的研磨液供應臂定位輔助工具，其特征在于，所述密集型同心圓凹槽組包括4個小同心圓凹槽，所述稀疏型同心圓凹槽組包括2個大同心圓凹槽。
6.根據(jù)權利要求5所述的研磨液供應臂定位輔助工具，其特征在于，所述密集型同心圓凹槽組中位于最內(nèi)側的小同心圓凹槽的半徑是90毫米，相鄰的小同心圓凹槽之間的距離是7毫米，相鄰的大同心圓凹槽的距離以及相鄰的大、小同心圓凹槽之間的距離均是14毫米。
7.根據(jù)權利要求4所述的研磨液供應臂定位輔助工具，其特征在于，還包括若干半徑線，所述半徑線均勻分布于所述參考墊的下半圓內(nèi)。
8.根據(jù)權利要求7所述的研磨液供應臂定位輔助工具，其特征在于，相鄰的半徑線之間的夾角是30度。
9.根據(jù)權利要求I所述的研磨液供應臂定位輔助工具，其特征在于，所述參考墊的材質(zhì)是聚亞安酯。
10.根據(jù)權利要求廣9中任意一項所述的研磨液供應臂定位輔助工具，其特征在于，所述若干同心圓凹槽中每個同心圓凹槽邊上標有表示各自距離參考墊的中心的距離的標記。
專利摘要本實用新型公開了一種研磨液供應臂定位輔助工具，用于調(diào)整研磨液供應臂的位置，所述研磨液供應臂的一端設有噴嘴，所述研磨液供應臂定位輔助工具包括參考墊，所述參考墊同心鋪設于研磨平臺上，所述參考墊與所述研磨平臺的形狀和大小相應，所述參考墊的上表面設有用于指示研磨液供應臂一端的噴嘴與參考墊的中心之間的位置關系的若干同心圓凹槽，若干同心圓凹槽以所述參考墊的中心為圓心。使用時，操作人員可以通過參照所述參考墊的上表面設有的用于指示研磨液供應臂一端的噴嘴與參考墊的中心之間的位置關系的若干同心圓凹槽的位置，進行對研磨液供應臂，從而可以快速到達正確的位置，因而實現(xiàn)了對研磨液供應臂的準確、快速定位。
文檔編號B24B57/02GK202702036SQ20122034091
公開日2013年1月30日 申請日期2012年7月13日 優(yōu)先權日2012年7月13日
發(fā)明者王琳, 江思明, 丁濤 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司