填充膜以及利用該填充膜制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種填充膜以及利用該填充膜制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法。所述填充膜包括：填充材料；第一脫離膜，附著到填充材料的表面；第二脫離膜，附著到填充材料的另一表面；以及支撐層，附著到第二脫離膜。第二脫離膜和支撐層之間的結(jié)合力大于填充材料和第二脫離膜之間的結(jié)合力。
【專利說明】填充膜以及利用該填充膜制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法
[0001]本申請要求于2013年5月22日在韓國知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的第10-2013-0057953號(hào)韓國專利申請的權(quán)益，該申請的公開內(nèi)容通過引用被全部包含于此。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明的示例性實(shí)施例涉及填充膜以及利用該填充膜制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法，更具體地講，涉及能夠改善有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的制造效率的填充膜以及利用該填充膜制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法。

【背景技術(shù)】
[0003]近來，顯示設(shè)備已經(jīng)被便攜式薄膜平板顯示設(shè)備取代。在平板顯示設(shè)備中，場發(fā)射顯示設(shè)備是具有寬視角和高對比度的發(fā)射顯示設(shè)備，因此，平板顯示設(shè)備作為下一代顯示設(shè)備引發(fā)人們關(guān)注。另外，其中發(fā)光層由有機(jī)材料形成的有機(jī)發(fā)射顯示設(shè)備具有諸如寬視角、高對比度、短響應(yīng)時(shí)間和多種顏色顯示的可期望的特性。
[0004]有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備通常包括在其上形成顯示單元的基底以及在顯示單元上形成的包封基底，并且基底和包封基底利用密封劑彼此組合。然而，由于有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的尺寸不斷改善的趨勢，也改善了包封基底的尺寸和重量。因此，為了確保有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的結(jié)構(gòu)可靠性，已經(jīng)開發(fā)了在基底和包封基底之間還包括填充膜的方法。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的示例性實(shí)施例提供一種能提高有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的制造效率的填充膜以及通過利用該填充膜制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法。
[0006]本發(fā)明的示例性實(shí)施例公開一種填充膜。所述填充膜包括:填充材料；第一脫離膜，附著到填充材料的第一表面；第二脫離膜，附著到填充材料的第二表面；以及支撐層，附著到第二脫離膜。第二脫離膜和支撐層之間的結(jié)合力大于填充材料和第二脫離膜之間的結(jié)合力。
[0007]本發(fā)明的示例性實(shí)施例還公開一種制造顯示設(shè)備的方法。所述方法包括:將填充膜從堆疊多個(gè)填充膜的堆疊件分離；在膜臺(tái)上將分離的填充膜置于中心；在包封基底上層疊填充膜的填充材料；以及將包封基底和包括顯示單元的基底組合。在層疊之前，填充膜包括:附著到填充材料的第一表面的第一脫離膜、附著到填充材料的第二表面的第二脫離膜和附著到第二脫離膜的支撐層，支撐層包括聚對苯二甲酸乙二酯并具有大約50微米至大約100微米范圍的厚度。
[0008]本發(fā)明的示例性實(shí)施例還公開了:具有第一厚度的第一脫離膜、設(shè)置在第一脫離膜上的填充材料、設(shè)置在填充材料上并具有第二厚度且第二厚度小于第一厚度的第二脫離膜以及設(shè)置在第二脫離膜上的支撐層。支撐層包括聚對苯二甲酸乙二酯并具有大于第二厚度的第三厚度。
[0009]將理解的是，前面的概括描述和下面的詳細(xì)描述是示例性的和說明性的，并且旨在提供對所要求保護(hù)的本發(fā)明的進(jìn)一步解釋。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]通過參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例，本發(fā)明的以上和其他特征以及優(yōu)點(diǎn)將變得更明顯。
[0011]圖1是根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的示意性剖視圖。
[0012]圖2是圖1的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的顯示單元的示意性剖視圖。
[0013]圖3是用于形成圖1的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的填充材料的填充膜的剖視圖。
[0014]圖4、圖5、圖6和圖7是示出制造圖1的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法的示意性剖視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0015]盡管示例性實(shí)施例能夠進(jìn)行各種修改和可選擇的形式，通過示例在圖中示出了其實(shí)施例，并在此將對其進(jìn)行詳細(xì)描述。然而，應(yīng)該理解的是，并非意圖將示例性實(shí)施例限制為公開的具體形式，而是相反，示例性實(shí)施例覆蓋落入本發(fā)明的范圍內(nèi)的所有的修改、等同物和替代物。在描述本發(fā)明時(shí)，當(dāng)相對于相關(guān)的已知功能和構(gòu)造的實(shí)際描述會(huì)不必要地使得本發(fā)明的范圍不清楚時(shí)，將省略對它們的描述。
[0016]將理解的是，盡管在這里可使用術(shù)語“第一”、“第二”等來描述不同的元件，但是這些元件不應(yīng)受這些術(shù)語的限制。這些術(shù)語僅是用來將一個(gè)元件與另一個(gè)元件區(qū)分開來。
[0017]將理解的是，當(dāng)元件或?qū)颖环Q作“在”另一元件或?qū)印吧稀被颉斑B接到”另一元件或?qū)訒r(shí),該元件或?qū)涌梢灾苯釉诹硪辉驅(qū)由匣蛑苯舆B接到另一元件或?qū)?，或者可存在中間元件或中間層。相反，當(dāng)元件被稱作“直接在”另一元件或?qū)印吧稀被颉爸苯舆B接到”另一元件或?qū)訒r(shí)，不存在中間元件或中間層。將理解的是，出于本公開的目的，“x、Y和Z中的至少一個(gè)(種)”可以被解釋為只有X、只有Y、只有Z或X、Y和Z的任意兩項(xiàng)或多個(gè)項(xiàng)的組合(例如，ΧΥΖ、ΧΥΥ、ΥΖ、ΖΖ)。
[0018]在下文中，將參照附圖更充分地描述本發(fā)明，在附圖中示出了本發(fā)明的示例性實(shí)施例。在參照附圖描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例時(shí)，相同的附圖標(biāo)記被用于基本相同或彼此對應(yīng)的元件，并且將不會(huì)對其重復(fù)描述。在附圖中，為了層和區(qū)域的清楚起見，可能放大了厚度。另外，為了便于描述，可能夸大了一些層和區(qū)域。
[0019]圖1是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的示意性剖視圖。圖2是圖1的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的顯示單元200的示意性剖視圖。
[0020]參照圖1和圖2，有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10包括基底100在基底100上形成的顯示單元200、設(shè)置為與基底100面對的包封基底400、通過將基底100和包封基底400組合來密封顯示單元200的密封材料310、以及在顯示單元200和包封基底400之間的填充材料500。
[0021]基底100可以由包括S12作為主要成分的透明玻璃材料形成。然而，基底100可以利用其他材料形成。例如，基底100可以由透明塑料材料形成。用于形成基底100的塑料材料可以包括例如諸如聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亞胺(ΡΕΙ)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙基化物、聚酰亞胺、聚碳酸酯(PC)、三乙酸酯(TAC)或乙酸-丙酸纖維(CAP)中的至少一種絕緣有機(jī)材料。
[0022]當(dāng)有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10是圖像沿朝著基底100的方向?qū)崿F(xiàn)的底部發(fā)射型時(shí)，基底100由透明材料形成。然而，當(dāng)有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10是圖像沿著與基底100相反的方向?qū)崿F(xiàn)的頂部發(fā)射型時(shí)，基底100可以由諸如金屬材料的反射材料形成。當(dāng)基底100由金屬材料形成時(shí)，基底100可以包括例如碳、鐵、鉻、錳、鎳、鈦、鑰和不銹鋼(SUS)中的至少一種。
[0023]顯示單元200可以包括薄膜晶體管層200a和像素單元200b。薄膜晶體管層200a可以利用有機(jī)材料、無機(jī)材料或可以用于形成薄膜晶體管的任何其他材料形成。像素單元200b可以是有機(jī)發(fā)光裝置(0LED)。在下文中，將參照圖2詳細(xì)地描述顯示單元200。
[0024]緩沖層212可以形成在基底100上。緩沖層212阻止雜質(zhì)元素滲透到基底100中并且在基底100上提供平坦的表面。緩沖層212可以由執(zhí)行以上描述的功能的各種材料形成。例如，緩沖層212可以包括例如諸如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化鋁、氮化鋁、氧化鈦和氮化鈦中的至少一種無機(jī)材料或者諸如聚酰亞胺、聚酯和壓克力中的至少一種有機(jī)材料，并且通過利用以上描述的材料形成為層的堆疊件。
[0025]緩沖層212可以利用例如等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)方法、常壓CVD方法或低壓CVD方法的各種方法沉積。
[0026]有源層221可以由諸如硅的無機(jī)半導(dǎo)體或者有機(jī)半導(dǎo)體形成在緩沖層212上。另夕卜，有源層221包括源極區(qū)域、漏極區(qū)域和/或源極區(qū)域和漏極區(qū)域之間的溝道區(qū)域。例如，當(dāng)有源層221由非晶硅形成時(shí)，有源層221可以通過如下步驟來形成:在緩沖層212的整個(gè)表面上形成非晶硅層之后；通過使非晶硅層結(jié)晶來形成多晶硅層。將多晶硅層圖案化之后，在其邊緣上具有源極區(qū)域和漏極區(qū)域以及位于源極區(qū)域和漏極區(qū)域之間的溝道區(qū)的有源層221通過利用摻雜劑摻雜源極區(qū)域和漏極區(qū)域來形成。
[0027]柵極絕緣膜213形成在有源層221上。柵極絕緣膜213形成為使有源層221與柵電極222絕緣，并且柵極絕緣膜213可以由諸如SiNx或S12的無機(jī)材料形成。
[0028]柵電極222形成在柵極絕緣膜213的上表面上。柵電極222連接到柵極線(未示出)，通過柵極線向薄膜晶體管(TFT )施加導(dǎo)通/截止信號(hào)。
[0029]柵電極222可以包括例如諸如Au、Ag、Cu、N1、Pt、Pd、Al和Mo的至少一種金屬材料，并且可以包括諸如Al-Nd或Mo-W的合金。然而，考慮到設(shè)計(jì)條件，柵電極222可以由其他材料形成。
[0030]在柵電極222上形成的層間絕緣層214形成為使柵電極222與源電極和漏電極223絕緣，并且層間絕緣層214可以由諸如SiNx或S12的無機(jī)材料形成。
[0031]源電極和漏電極223形成在層間絕緣層214上。更具體地講，接觸孔形成在層間絕緣層214和柵極絕緣膜213中以暴露有源層221的源極區(qū)域和漏極區(qū)域，并且源電極和漏電極223通過接觸孔電連接到有源層221的暴露的源極區(qū)域和漏極區(qū)域。
[0032]圖2描繪了依次包括有源層221、柵電極222及源電極和漏電極223的頂部柵極型TFT。然而，TFT可以具有其他結(jié)構(gòu)。例如，柵電極222可以設(shè)置在有源層221下方。
[0033]上述的有機(jī)薄膜晶體管層200a電連接到像素單元200b以驅(qū)動(dòng)像素單元200b，并且通過被平坦化膜215覆蓋而受到保護(hù)。
[0034]平坦化膜215可以是無機(jī)絕緣膜和/或有機(jī)絕緣膜。無機(jī)絕緣膜可以包括例如Si02、SiNx、S1N, Al2O3' Ti02、Ta2O5' ZrO2, BST和PZT中的至少一種。有機(jī)絕緣膜可以包括例如通用聚合物(諸如，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚苯乙烯(PS)、具有苯酚基團(tuán)的聚合物衍生物、丙烯酰聚合物、酰亞胺聚合物、芳基醚聚合物、酰胺聚合物、氟化聚合物、對二甲苯聚合物(p-gilyrene polymer)、乙烯醇聚合物和這些材料的共混物)中的至少一種。另夕卜，平坦化膜215可以形成為無機(jī)絕緣膜和有機(jī)絕緣膜的復(fù)合堆疊層。
[0035]像素單元200b形成在平坦化膜215上。像素單元200b可以包括像素電極231、中間層232和對電極233。
[0036]像素電極231可以形成在平坦化膜215上，并且通過形成在平坦化膜215中的接觸孔230電連接到源電極或漏電極223。
[0037]像素電極231可以是反射電極，在這種情況下，像素電極231可以包括反射膜以及形成在反射膜上的透明或半透明電極，反射膜包括例如Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、N1、Nd、Ir、Cr和這些材料的化合物中的至少一種。透明或半透明電極可以包括例如氧化銦錫(ΙΤ0),氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦(In2O3)和氧化銦鎵(IG0)中的至少一種。
[0038]面向像素電極231的對電極233可以是透明電極或半透明電極，并且可以由具有低逸出功的金屬薄膜形成。金屬薄膜可以包括例如L1、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg和這些材料的化合物中的至少一種。另外，在金屬薄膜上還可以形成由用于形成例如ΙΤ0、ΙΖ0、ZnO或In2O3的透明電極的材料形成的輔助電極層或匯流電極。
[0039]因此,對電極233可以傳輸從包括在中間層232中的有機(jī)發(fā)光層(未不出)發(fā)射的光。即，從有機(jī)發(fā)光層發(fā)射的光可以直接地朝著對電極233釋放，或者被形成為反射電極的像素電極231反射。
[0040]有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10可以具有其他構(gòu)造。例如，有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10可以是光朝著基底100釋放的底部發(fā)射型有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備。當(dāng)有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10是底部發(fā)射型時(shí)，像素電極231可以形成為透明或半透明電極，并且對電極233可以形成為反射電極。另外，有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10可以是光沿著頂部和底部兩個(gè)方向發(fā)射的雙發(fā)光顯示設(shè)備。
[0041]利用絕緣材料在像素電極231上形成像素限定層216。像素限定層216可以包括例如聚酰亞胺、聚酰胺、丙烯酸樹脂、苯并環(huán)丁烯和酚樹脂中的至少一種并且通過旋涂方法形成。像素限定層216暴露像素電極231的一部分，并且包括有機(jī)發(fā)光層的中間層232位于像素電極231的暴露的部分上。
[0042]包括在中間層232中的有機(jī)發(fā)光層(未示出)可以由低分子量有機(jī)材料或高分子量有機(jī)材料形成。除有機(jī)發(fā)光層之外，中間層232還可以選擇性地包括諸如空穴傳輸層(HTL)、空穴注入層(HIL)、電子傳輸層(ETL)和電子注入層(EIL)的功能層。
[0043]在其上包括顯示單元200的基底100與設(shè)置在顯示單元200上的包封基底400組合。包封基底400可以由各種材料形成。例如，除了玻璃材料以外，包封基底400可以由塑料材料(諸如亞克力)形成，此外，包封基底400可以由金屬板形成。
[0044]基底100和包封基底400通過利用密封材料310組合。密封材料310可以是通常使用的材料，諸如密封玻璃料。密封材料310和包封基底400阻擋外部濕氣或空氣到達(dá)顯示單元200。
[0045]吸濕劑320還可以設(shè)置在密封材料310的側(cè)部。吸濕劑320容易與濕氣和氧起反應(yīng)，因此，防止由于濕氣和氧導(dǎo)致的OLED的壽命的縮短，吸濕劑320可以包括例如堿金屬氧化物、堿土金屬氧化物、金屬鹵化物、硫酸鋰、金屬硫酸鹽、金屬高氯酸鹽以及硅膠與五氧化二磷中的一者之中的至少一種，或這些材料的混合物。然而，吸濕劑320的類型和位置可具有各種其它構(gòu)造。
[0046]填充材料500被包括在由密封材料310密封的內(nèi)側(cè)區(qū)域中。包括填充材料500，以填充基底100和包封基底400之間的空間。
[0047]填充材料500可以包括例如環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂、硅、乙烯醋酸乙烯酯(ETA)和聚乙烯中的至少一種。填充材料500可以具有大約10微米至大約30微米范圍的厚度T。填充材料500可以具有熱硬化射線或紫外線(UV)射線硬化特性，并且可以包括諸如硬化劑、抗氧化劑和偶聯(lián)劑的各種添加劑。
[0048]以上描述的填充材料500可以利用在圖3中描繪的填充膜500A形成?，F(xiàn)在將參照圖3詳細(xì)描述填充膜500A。
[0049]圖3是用于形成圖1的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的填充材料500的填充膜500A的剖視圖。
[0050]參照圖3，填充膜500A可以包括填充材料500、附著到填充材料500的第一表面的第一脫離膜501、附著到填充材料500的第二表面的第二脫離膜502以及附著在第二脫離膜502上的支撐層503。
[0051]填充材料500可以具有大約10微米至大約30微米范圍的厚度，并且如上所述，可以由環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂、硅、乙烯醋酸乙烯酯(ETA)和聚乙烯中的至少一種形成。
[0052]第一脫離膜501和第二脫離膜502保護(hù)填充材料500，并在有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的制造工藝期間與填充材料500分離。第一脫離膜501和第二脫離膜502均可以包括例如聚甲基戊烯膜、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜、7'eflon?膜和聚丙烯膜中的至少一種。
[0053]如下面描述的，在制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的工藝期間，第一脫離膜501和第二脫離膜502可以順序地從填充材料500分離，更具體地講，根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例，在將第一脫離膜501從填充材料500分離之前，可以使第二脫離膜502從填充材料500分離。因此，在這種情況下，當(dāng)?shù)诙撾x膜500被分離時(shí)，第一脫離膜501應(yīng)保持附著到填充材料500。因此，第一脫離膜501和填充材料500之間的結(jié)合力應(yīng)大于第二脫離膜502和填充材料500之間的結(jié)合力。
[0054]為此，第一脫離膜501可以比第二脫離膜502厚。例如，第一脫離膜501可以具有大約50微米至大約100微米范圍的厚度，第二脫離膜502可以具有大約20微米至大約50微米范圍的厚度。因此，因?yàn)榈谝幻撾x膜501比第二脫離膜502厚，所以第一脫離膜501和填充材料500之間的結(jié)合力大于第二脫離膜502和填充材料500之間的結(jié)合力，因此，可以穩(wěn)定地執(zhí)行制造有機(jī)發(fā)顯示設(shè)備10的工藝。
[0055]支撐層503附著到第二脫離膜502，增加了填充膜500A的總體厚度和重量，并且可以防止由于施加到填充膜500A的側(cè)面的壓力而導(dǎo)致填充膜500A彎曲或起皺。
[0056]支撐層503可以包括例如PET，但是不限于此。
[0057]在制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的工藝期間，支撐層503不與第二脫離膜502分離。而是，當(dāng)?shù)诙撾x膜502從填充材料500分離時(shí)，支撐層503和第二脫離膜502 —起從填充材料500分離。因此，支撐層503和第二脫離膜502之間的結(jié)合力應(yīng)大于第二脫離膜502和填充材料500之間的結(jié)合力。
[0058]為了實(shí)現(xiàn)這種較大的結(jié)合力，支撐層503可以具有大約50微米至大約100微米范圍的厚度。當(dāng)支撐層503小于50微米厚度時(shí)，在對準(zhǔn)填充膜500A的工藝(如下參照圖5描述)中，填充膜500A可能由于定心鞘720 (參照圖5)而彎曲或起皺。另外，當(dāng)支撐層503小于50微米厚度時(shí)，支撐層503和第二脫離膜502之間的結(jié)合力減小，因此，當(dāng)?shù)诙撾x膜502從填充材料500分離時(shí)，支撐層503可能從第二脫離膜502分離，從而降低了制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的效率。
[0059]當(dāng)支撐層503大于100微米厚時(shí)，極大地增加了填充膜500A的重量，因此，填充膜500A可能未被拾取單元620 (參照圖4)提起。因此，支撐層503可以具有大約50微米至大約100微米范圍的厚度。
[0060]支撐層503的上表面可以被靜電屏蔽。通過在支撐層503的上表面上涂覆抗靜電劑可以獲得靜電屏蔽?？梢允褂闷渌椒▉慝@得靜電屏蔽。例如，當(dāng)支撐層503包括抗靜電劑時(shí)，可以實(shí)現(xiàn)靜電屏蔽。
[0061]以這種方式，當(dāng)支撐層503的上表面被靜電屏蔽時(shí)，如在圖4中所示，當(dāng)通過堆疊多個(gè)填充膜500A形成層堆疊件500B時(shí)，可以防止填充膜500A之間的靜電力的作用。因此，拾取單元620 (參照圖4)可以容易地逐片地提起填充膜500A。
[0062]圖4至圖7是示出制造圖1的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的方法的示意剖視圖。雖然以下描述的方法涉及有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的制造，但是本發(fā)明的示例性實(shí)施例可以應(yīng)用到任何顯示設(shè)備或用于其保護(hù)(諸如保護(hù)以免沖擊、空氣或濕氣)而密封的發(fā)光體。
[0063]根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例，制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的方法包括:將填充膜500A逐片地從層堆疊件500B分離；將分離的填充膜500A在膜臺(tái)710的中心上對準(zhǔn)；使對準(zhǔn)的填充膜500A的填充材料500與包封基底400疊置；并且使在其上形成顯示單元200的基底100與包封基底400組合。
[0064]在下文中，現(xiàn)在將參照圖3和圖4至圖7詳細(xì)地描述制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的方法。
[0065]將填充膜500A逐片地從層堆疊件500B分離的步驟包括:如在圖4中所示，通過拾取單元620從層堆疊件500B逐片地提起填充膜500A，其中，層堆疊件500B通過堆疊多個(gè)填充膜500A形成。
[0066]拾取單元620包括真空墊(未示出)，并且在真空墊接觸層堆疊件500B的上表面之后真空墊通過真空力提起層堆疊件500B的最上面的填充膜500A。在一些示例性實(shí)施例中，由于真空力，拾取單元620可以在不實(shí)際接觸最上面的填充膜500A的情況下提起最上面的填充膜500A。
[0067]堆疊的填充膜由于摩擦而可能產(chǎn)生靜電。靜電力可以在彼此接觸的兩個(gè)填充膜之間起作用，因此，填充膜可能不容易逐片地分離。當(dāng)兩片填充膜同時(shí)被提起并且進(jìn)入像圖5中所示的定心工藝時(shí)，在制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的工藝中可能發(fā)生差錯(cuò)，因此降低了制造效率。
[0068]然而，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例，除了包括填充材料500和附著到填充材料500的兩側(cè)的第一脫離膜501和第二脫離膜502之外，由于填充膜500A還包括支撐層503，所以可以增加填充膜500A的總體重量。從而，填充膜500A可以容易地逐片地被拾取單元620提起。另外，當(dāng)提起填充膜500A時(shí)，拾取單元620可以執(zhí)行至少一次震動(dòng)操作。由于拾取單元620的分離操作，即使提起兩片或更多片填充膜500A，由于支撐層503增加的重量，填充膜500A也可以容易地逐片地分離。
[0069]另外，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例，支撐層503的上表面可以被靜電屏蔽。因此，可以防止或減小堆疊的填充膜500A之間的靜電的產(chǎn)生。因此，可以有效地執(zhí)行填充膜500A的分離操作。換句話說，可以在逐片的基礎(chǔ)上更容易地拾取填充膜500A，并且在拾取兩個(gè)或更多個(gè)填充膜500A的情況下，由于拾取單元620的震動(dòng)操作，可以更容易地分離兩個(gè)或更多個(gè)填充膜500A，因此，留下附著到拾取單元620的單個(gè)填充膜500A。
[0070]表1總結(jié)了分離操作的成功率。這里“成功”指的是通過拾取單元620初次拾取單個(gè)填充膜500A，或者在拾取兩個(gè)或更多個(gè)填充膜500A的情況下，拾取單元620的震動(dòng)操作導(dǎo)致留下附著到拾取單元620的單個(gè)填充膜500A。在比較示例中，填充膜500A包括填充材料500、第一脫離膜501和第二脫離膜502，但是不包括支撐層503。然而，在實(shí)施例1和實(shí)施例2中，填充膜500A額外地包括支撐層503。另外，與實(shí)施例1不同，在實(shí)施例2中，支撐層503的上表面被靜電屏蔽。填充膜500A包括厚度為20微米的填充材料500、厚度為100微米的第一脫離膜501和厚度為25微米的第二脫離膜502。支撐層503具有100微米的厚度。
[0071]表1
[0072]

【權(quán)利要求】
1.一種填充膜，所述填充膜包括: 填充材料； 第一脫離膜，附著到填充材料的第一表面； 第二脫離膜，附著到填充材料的第二表面；以及 支撐層，附著到第二脫離膜， 其中，第二脫離膜和支撐層之間的結(jié)合力大于填充材料和第二脫離膜之間的結(jié)合力。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的填充膜，其中，支撐層包括聚對苯二甲酸乙二酯并且具有50微米至100微米范圍的厚度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的填充膜，其中，第一脫離膜的厚度大于第二脫離膜的厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的填充膜，其中，第一脫離膜和填充材料之間的結(jié)合力大于第二脫離膜和填充材料之間的結(jié)合力。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的填充膜，其中，支撐層的上表面被靜電屏蔽。
6.一種制造顯示設(shè)備的方法，所述方法包括: 將填充膜與堆疊多個(gè)填充膜的堆疊件分離； 在膜臺(tái)上將分離的填充膜置于中心； 在包封基底上層疊填充膜的填充材料；以及 將包封基底和包括顯示單元的基底組合， 其中，在層疊之前，填充膜包括:附著到填充材料的第一表面的第一脫離膜、附著到填充材料的第二表面的第二脫離膜和附著到第二脫離膜的支撐層， 支撐層包括聚對苯二甲酸乙二酯并且具有50微米至100微米范圍的厚度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，支撐層的上表面被靜電屏蔽。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，第二脫離膜和支撐層之間的結(jié)合力大于第二脫離膜和填充材料之間的結(jié)合力。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，第一脫離膜和填充材料之間的結(jié)合力大于第二脫離膜和填充材料之間的結(jié)合力。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，第一脫離膜的厚度大于第二脫離膜的厚度。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，分離填充膜的步驟包括:利用拾取單元的真空墊提起填充膜。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，分離填充膜的步驟還包括當(dāng)提起填充膜時(shí)或提起填充膜之后的震動(dòng)操作。
13.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，將分離的填充膜置于中心的步驟包括:通過形成在膜臺(tái)上的定心鞘來按壓填充膜的側(cè)表面，其中，支撐膜被構(gòu)造為防止填充膜在置于中心的步驟期間彎曲或起皺。
14.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，所述方法還包括:在層疊填充膜之前，將支撐層和第二脫離膜從填充材料分離。
15.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，所述方法還包括:在組合包封基底和基底之前，將第一脫離膜從填充材料分離。
16.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，所述方法還包括:在組合包封基底和基底之前，在包封基底上設(shè)置密封材料和吸濕劑。
17.一種填充膜，所述填充膜包括: 第一脫離膜，具有第一厚度； 填充材料，設(shè)置在第一脫離膜上； 第二脫離膜，設(shè)置在填充材料上并具有第二厚度，第二厚度小于第一厚度；以及支撐層，設(shè)置在第二脫離膜上，支撐層包括聚對苯二甲酸乙二酯并且具有第三厚度，第三厚度大于第二厚度。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的填充膜，其中，第一脫離膜包括聚甲基戊烯膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、Teflon?.膜和聚丙烯膜中的至少一種，第二脫離膜包括聚甲基戊烯膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、Teflon?膜和聚丙烯膜中的至少一種。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的填充膜，其中，第三厚度大于或等于50微米并且小于或等于100微米。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的填充膜，其中: 支撐層的上表面被靜電屏蔽， 第一厚度和第三厚度都等于100微米。
【文檔編號(hào)】H01L51/52GK104183779SQ201410114298
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2014年3月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月22日
【發(fā)明者】金正洙 申請人:三星顯示有限公司