介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法
【專利摘要】本發(fā)明是有關(guān)于一種介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法，所述的雙重圖案化技術(shù)的介層窗掩膜分離方法的實(shí)施例使得介層窗圖案化能夠?qū)R其底下或上方的金屬層，藉以縮減重疊誤差，進(jìn)而增加介層窗的置放性。假如相鄰的介層窗違反介層窗之間的空間或節(jié)距(或上述二者)的G0掩膜分離規(guī)則，因?yàn)榫哂休^高的置放失誤風(fēng)險(xiǎn)，故給予末端介層窗的掩膜分配較高的優(yōu)先順序，藉此確保末端介層窗有良好的置放性。此與金屬相關(guān)的介層窗掩膜分離方法可獲得如較低的介層窗阻抗的較佳介層窗性能以及較高的介層窗優(yōu)良率。
【專利說明】介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法
[0001]本申請是申請?zhí)枮?01110219319.X的名稱為“介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法”的發(fā)明專利申請的分案申請，原申請的申請日是2011年07月28日。
[0002]【相關(guān)申請案的交叉引用】
[0003]本申請案請求申請?zhí)枮?1/418，204的美國臨時(shí)申請案的優(yōu)先權(quán)，其中美國臨時(shí)申請案61/418，204在2010年11月30日所提出，且在此將其整體內(nèi)容以參照方式合并至本申請案中。
[0004]本申請案與發(fā)明名稱為「檢測并索引雙重圖案化布局的方法(Method forChecking and Indexing Double Patterning Layout)」的美國申請案 12/788，789有關(guān)，其中美國申請案12/788，789在2010年5月27日所提出，且在此將其整體內(nèi)容以參照方式合并至本申請案中。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0005]本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造，特別是涉及一種使用雙重圖案化技術(shù)(DoublePatterning Technology ；DPT)的半導(dǎo)體制造。
【背景技術(shù)】
[0006]雙重圖案化工藝為微影(Lithography)所發(fā)展的技術(shù)，藉以強(qiáng)化元件密度(Feature Density)。通 常，為了形成晶圓之上的集成電路(Integrated Circuits ;IC)元件，使用包括有涂布光阻并于光阻的上定義圖案的微影技術(shù)。圖案化光阻中的圖案先定義于微影掩膜(Mask)中，并以微影掩膜中的透明(Transparent)部分或不透明(Opaque)部分來加以實(shí)施。接著，光阻中的圖案轉(zhuǎn)移至晶圓制造的元件之上。
[0007]隨著IC尺寸的向下縮減,光學(xué)近接效應(yīng)(Optical Proximity Effect)顯示出一日益嚴(yán)重的問題。當(dāng)二分隔的元件線條太過靠近彼此時(shí)，在二線條間的空間(Space)及/或節(jié)距(Pitch)可能超出光源的解析度(Resolution)限制。為了解決此一問題，雙重圖案化技術(shù)為一解決方式。將相近設(shè)置的元件線條分隔至同一雙重圖案化掩膜組的二掩膜中，其中上述二掩膜用來圖案化材料層。在雙重圖案化掩膜組的每個(gè)掩膜中，線條與線條間的距離增加而超越了位于單一掩膜中的線條與線條間的距離，因此，能夠克服上述的解析度限制。
[0008]由此可見，上述現(xiàn)有的雙重圖案化介層窗掩膜分配方法在方法上，顯然仍存在有不便與缺陷，而亟待加以進(jìn)一步改進(jìn)。為了解決上述存在的問題，相關(guān)廠商莫不費(fèi)盡心思來謀求解決之道，但長久以來一直未見適用的設(shè)計(jì)被發(fā)展完成，而一般產(chǎn)品又沒有適切結(jié)構(gòu)能夠解決上述問題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解決的問題。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新型的介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法，，實(shí)屬當(dāng)前重要研發(fā)課題之一，亦成為當(dāng)前業(yè)界極需改進(jìn)的目標(biāo)。

【發(fā)明內(nèi)容】
[0009]本發(fā)明的目的在于，提供一種使用DPT的介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法，藉由考慮介層窗與其底下或其上的金屬層的不同掩膜的關(guān)聯(lián)性來建立此介層窗層的介層窗掩膜的分配，來減少制造時(shí)其與上下金層間的對齊(或重疊)錯(cuò)誤，以增加其與金屬層間的置放性(landing)，并增加金屬層間的良好連接性，而得到較好的電性及工藝優(yōu)良率。
[0010]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出的一種介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法，其中該方法使用一雙重圖案化技術(shù)，且該方法包括以下步驟:決定該介層窗層的一介層窗是否觸及或連接至分配至一第一金屬掩膜的一底下金屬結(jié)構(gòu)或一上方金屬結(jié)構(gòu)；假如該介層窗觸及或連接至分配至該第一金屬掩膜的該底下金屬結(jié)構(gòu)或該上方金屬結(jié)構(gòu)，將該介層窗分配至一第一介層窗掩膜，其中該第一介層窗掩膜對準(zhǔn)該第一金屬掩膜；以及假如該介層窗并未觸及或連接至分配至該第一金屬掩膜的該底下金屬結(jié)構(gòu)或該上方金屬結(jié)構(gòu)，將該介層窗分配至一第二介層窗掩膜，其中工藝中該第二介層窗掩膜對齊一第二金屬掩膜，該第二金屬掩膜不同于該第一金屬掩膜。
[0011]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
[0012]前述的的方法，其中所述的介層窗層的多個(gè)介層窗對準(zhǔn)個(gè)別觸及或連接的底下金屬結(jié)構(gòu)或上方金屬結(jié)構(gòu)，藉以改善介層窗置放性、介層窗阻抗或介層窗優(yōu)良率。
[0013]前述的的方法，其中在決定該介層窗層的該介層窗是否觸及或連接該底下金屬結(jié)構(gòu)或該上方金屬結(jié)構(gòu)的步驟之前，更包括:分配部分的該底下金屬結(jié)構(gòu)或部分的該上方金屬結(jié)構(gòu)至該第一金屬遮罩；以及分配另一部分的該底下金屬結(jié)構(gòu)或另一部分的該上方金屬結(jié)構(gòu)至該第二金屬遮罩。
[0014]前述的的方法，其還包括:工藝上對準(zhǔn)該第一金屬掩膜與該第二金屬掩膜。
[0015]前述的的方法，其還包括:限制觸及或連接相同的底下金屬結(jié)構(gòu)或上方金屬結(jié)構(gòu)的多個(gè)介層窗，使得所述介層窗具有等于或大于一距離的多個(gè)節(jié)距，其中該距離由一介層窗遮罩分離規(guī)則所規(guī)定，而具有小于該距離的節(jié)距且相鄰的其他多個(gè)介層窗分配至多個(gè)不同的介層窗遮罩。
[0016]前述的的方法，其還包括:定義位于多個(gè)不同的底下金屬結(jié)構(gòu)之上，或位于多個(gè)不同的上方金屬結(jié)構(gòu)之下，多個(gè)介層窗之間的空間的一介層窗掩膜分離規(guī)則；以及定義所述不同的底下金屬結(jié)構(gòu)或所述不同的上方金屬結(jié)構(gòu)之間的空間的一金屬掩膜分離規(guī)則。
[0017]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)。依據(jù)本發(fā)明提出的一種介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法，其中該介層窗層的多個(gè)介層窗工藝上直接對準(zhǔn)置放在個(gè)別的底下金屬結(jié)構(gòu)之上，該方法使用一雙重介層窗掩膜圖案化技術(shù)，且該方法包括以下步驟:產(chǎn)生該介層窗層的所述介層窗的多個(gè)介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示，其中所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示連接至少違反一介層窗掩膜分離規(guī)則的數(shù)個(gè)介層窗；決定一介層窗是否觸及所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示；假如該介層窗并未觸及所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)不，分配該介層窗至二介層窗掩膜的其中一者，該者對準(zhǔn)一底下金屬層的一金屬掩膜，且該介層窗置放于該金屬掩膜某金屬結(jié)構(gòu)之上；假如該介層窗觸及所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示其中一者，進(jìn)行一決定操作，以決定該介層窗是否為一末端介層窗；假如該介層窗為該末端介層窗，分配一第一權(quán)重至該介層窗；假如該介層窗并非為該末端介層窗，分配一第二權(quán)重至該介層窗；以及進(jìn)行一分配步驟，以分配觸及所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示的每個(gè)介層窗至該二介層窗掩膜的其中一者，使得具有該第一權(quán)重的介層窗被給予較高的優(yōu)先順序，以將具有該第一權(quán)重的介層窗分配至正確的介層窗掩膜上。該正確的介層窗掩膜乃對準(zhǔn)其一金屬掩膜，而在此金屬掩膜上具有與該第一權(quán)重介層窗有觸及或連接的金屬結(jié)構(gòu)。
[0018]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
[0019]前述的方法，其中所述的末端介層窗置放在該底下金屬結(jié)構(gòu)的一處之上的介層窗，且該底下金屬結(jié)構(gòu)的該處具有小于一設(shè)定的寬度。
[0020]前述的方法，其中所述的設(shè)定的寬度約為90納米。
[0021]前述的方法，其還包括:在該分配步驟完成之后，將所有介層窗完成涂色，而完成掩膜分配。
[0022]前述的方法，其中所述的第一權(quán)重大于該第二權(quán)重。
[0023]前述的方法，其還包括:分配所述介層窗的底下金屬結(jié)構(gòu)的每一者至二金屬掩膜的其中一者，且其中所述底下金屬結(jié)構(gòu)藉由雙重介層窗掩膜圖案化技術(shù)圖案化的一金屬層的一部分。
[0024]前述的方法,其還包括:將每一所述金屬掩膜分別對齊所述介層窗掩膜的其中一者；以及將二個(gè)金屬掩膜彼此對齊。
[0025]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及有益效果:本發(fā)明藉由建立介層窗層的介層窗掩膜的分配并考慮與其底下或其上的金屬層的金屬掩膜的關(guān)聯(lián)，來減少對齊(或重疊)錯(cuò)誤，并增加金屬結(jié)構(gòu)的上的介層窗的置放性，進(jìn)而使得介層窗具有如較低的介層窗阻抗以及較高的優(yōu)良率等較佳的性能。
[0026]上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0027]圖1A繪示根據(jù)特定實(shí)施例的二相鄰金屬結(jié)構(gòu)示意圖。
[0028]圖1B繪示根據(jù)特定實(shí)施例的二相鄰介層窗結(jié)構(gòu)示意圖。
[0029]圖1C繪示根據(jù)特定實(shí)施例的二相鄰金屬結(jié)構(gòu)與介層窗結(jié)構(gòu)示意圖。
[0030]圖1D繪示根據(jù)特定實(shí)施例的介層窗層的掩膜分配的工藝流程圖。
[0031]圖1E繪示根據(jù)特定實(shí)施例的三相鄰介層窗示意圖。
[0032]圖2A繪示根據(jù)特定實(shí)施例的二金屬掩膜與二介層窗掩膜之間的六種可能的對準(zhǔn)關(guān)系不意圖。
[0033]圖2B繪示根據(jù)特定實(shí)施例的藉由二不同掩膜圖案化的金屬結(jié)構(gòu)示意圖。
[0034]圖2C繪示根據(jù)特定實(shí)施例的金屬層的二圖案化掩膜與一介層窗掩膜之間重疊誤差的關(guān)系不意圖。
[0035]圖2D繪示根據(jù)特定實(shí)施例的金屬層以及介層窗層之間的重疊誤差。
[0036]圖3A繪示根據(jù)特定實(shí)施例的金屬層與介層窗層的雙重圖案化掩膜的三種重疊關(guān)系不意圖。
[0037]圖3B繪示根據(jù)特定實(shí)施例的基材上的多個(gè)金屬結(jié)構(gòu)以及多個(gè)介層窗結(jié)構(gòu)示意圖。
[0038]圖3C繪示根據(jù)特定實(shí)施例的藉由金屬層與介層窗層的DPT圖案化的結(jié)構(gòu)間的重
疊誤差示意圖。
[0039]圖3D繪示根據(jù)特定實(shí)施例的雙重圖案化中介層窗層的分配掩膜的工藝流程圖。
[0040]圖4A繪示根據(jù)特定實(shí)施例的基材上的二金屬結(jié)構(gòu)以及四介層窗示意圖。
[0041]圖4B繪示根據(jù)特定實(shí)施例的介層窗層的分配掩膜的工藝流程圖。
[0042]圖5繪示根據(jù)特定實(shí)施例的電腦系統(tǒng)示意圖。
[0043]101:金屬結(jié)構(gòu)102:金屬結(jié)構(gòu)
[0044]103:金屬線104:金屬線
[0045]105:角落106:角落
[0046]111:介層窗112:介層窗
[0047]151:金屬結(jié)構(gòu)152:金屬結(jié)構(gòu)
[0048]153:介層窗154:介層窗
[0049]155:介層窗156:直線
[0050]157:直線170:工藝流程
[0051]171-175:操作181:金屬結(jié)構(gòu)
[0052]182:金屬結(jié)構(gòu)183:介層窗
[0053]185:虛線301-307:金屬結(jié)構(gòu)
[0054]311-320:介層窗結(jié)構(gòu)350:工藝流程
[0055]351-354:操作401:金屬結(jié)構(gòu)
[0056]402:金屬結(jié)構(gòu)411-414:介層窗
[0057]422:實(shí)體輪廓線422:實(shí)體輪廓線
[0058]432:虛線輪廓線434:虛線輪廓線
[0059]444:虛線450:工藝流程
[0060]451-458:操作464:虛線
[0061]500:電腦系統(tǒng)501:處理器
[0062]503:存儲器次系統(tǒng)505:儲存次系統(tǒng)
[0063]507:使用者接口次系統(tǒng)509:匯流排次系統(tǒng)
[0064]D1-D3:寬度E:重疊誤差
[0065]M_1:金屬掩膜M_2:金屬掩膜
[0066]M_A:金屬掩膜M_B:金屬掩膜
[0067]P:最小節(jié)距Pl:節(jié)距
[0068]P2:節(jié)距P3:節(jié)距
[0069]P4:節(jié)距S:最小空間
[0070]S1:空間S2:空間
[0071]S31:空間S32:空間
[0072]V_1:介層窗掩膜V_2:介層窗掩膜[0073]V_A:介層窗掩膜V_B:介層窗掩膜【具體實(shí)施方式】
[0074]為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對依據(jù)本發(fā)明提出的介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法其【具體實(shí)施方式】、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說明如后。
[0075]以下的例示性實(shí)施例的敘述應(yīng)搭配相應(yīng)的圖式做閱讀，此些圖式系整個(gè)敘述的一部分。在以下的敘述中，相關(guān)的術(shù)語如「較低」、「較高」、「水平」、「垂直」、「在某某之上」、「在某某之下」、「向上」、「向下」、「上面」和「下面」，以及其衍生物(如:「水平地」、「向下地」、「向上地」，等等)，均應(yīng)被解釋為指隨后描述的方向，或是討論中的圖式所顯示的方向。此些相關(guān)的術(shù)語是為了敘述方便，且不需要前述的裝置依特定方向建構(gòu)或操作。與附著、耦合、以及類似相關(guān)的術(shù)語，如連接和內(nèi)部連接，指通過介入性結(jié)構(gòu)直接或非直接固定或附著結(jié)構(gòu)物和其他另一結(jié)構(gòu)物的關(guān)系，若無另外明確的敘述，則此關(guān)系和可移動式或剛性附著或關(guān)系相同。
[0076]IC布局包括位于多個(gè)材料層之上的多個(gè)圖案。相鄰元件之間距離可能太小而無法位于同一掩膜上，但距離不這么小則無法超越技術(shù)節(jié)點(diǎn)(Node)的性能。相鄰元件可違反單一掩膜規(guī)則，且需要以二不同掩膜加以印刷以確保良好的解析度。以充份的空間分隔的結(jié)構(gòu)并未違反GO規(guī)則(GO-Rules)，且可利用相同的掩膜加以圖案化。GO規(guī)則規(guī)定以分隔掩膜印刷相鄰結(jié)構(gòu)的條件。圖1A繪示根據(jù)特定實(shí)施例的二相鄰金屬結(jié)構(gòu)101與102。金屬結(jié)構(gòu)101與102以空間「SI」加以分隔，其中空間SI小于「S」，「S」乃介于金屬結(jié)構(gòu)之間且允許以單一掩膜圖案化的最小空間。在特定的實(shí)施例中，最小空間S與上述金屬結(jié)構(gòu)的寬度有關(guān)，且對于具有較窄的寬度的金屬結(jié)構(gòu)來說，最小空間S需要更大一些。例如，對于金屬結(jié)構(gòu)的寬度小于約46納米(nm)的金屬結(jié)構(gòu)來說，最小空間S可為約76nm，而對于金屬結(jié)構(gòu)的寬度等于或大于約46nm的金屬結(jié)構(gòu)來說，最小空間S可為約58nm。因此，以「金屬掩膜_1」來圖案化金屬結(jié)構(gòu)101，并以「金屬掩膜_2」來圖案化金屬結(jié)構(gòu)102，反之亦可。根據(jù)特定的實(shí)施例，以二個(gè)不同的掩膜圖案化此二相鄰金屬結(jié)構(gòu)使得二相鄰金屬線103與104、以及相鄰的角落105與106具有良好的解析度。
[0077]圖1B繪示根據(jù)特定實(shí)施例的二相鄰介層窗111與112。介層窗111與112的節(jié)距，或介于介層窗111與112的中心之間的距離為「P1」，其中節(jié)距Pl小于「P」，「P」乃使用單一掩膜圖案化二相鄰介層窗結(jié)構(gòu)來規(guī)定的最小節(jié)距。在特定的實(shí)施例中，最小節(jié)距P位于從約70nm至約120nm的范圍中。因此，以「介層窗掩膜_1」(以介層窗中的交線加以標(biāo)示)來圖案化介層窗111，并以「介層窗掩膜_2」來圖案化介層窗112，反之亦可。根據(jù)特定的實(shí)施例，以二個(gè)不同的掩膜圖案化此二相鄰介層窗結(jié)構(gòu)，使得二介層窗111與112具有良好的解析度，其中介層窗111與112由被認(rèn)為是微小的(小于上述最小節(jié)距P的限制)的節(jié)距Pl加以分隔。
[0078]為了形成使用DPT的結(jié)構(gòu)，材料層的布局以二種顏色加以標(biāo)示。上述二種顏色中的每一種對應(yīng)于二圖案化掩膜其中特定的一者。材料層的結(jié)構(gòu)分配至上述二種顏色的其中一者。根據(jù)特定的實(shí)施例，將具有相同顏色的結(jié)構(gòu)圖案化于相同的掩膜上。結(jié)構(gòu)的顏色(或掩膜)的分配通常發(fā)生在上述布局完成之后。根據(jù)特定的實(shí)施例，可使用設(shè)計(jì)規(guī)則核對器(Design Rule Checker ；DRC)來系統(tǒng)化地鑒別違反GO掩膜分離(GO-Mask-Split)規(guī)則的結(jié)構(gòu)。設(shè)定并使用計(jì)算方式(Algorithms)來分配已鑒定的結(jié)構(gòu)至上述二種顏色的其中一種，亦即上述二圖案化掩膜的其中一者。
[0079]DRC軟件可藉由顯示符合上述掩膜分離規(guī)則，且需要在一布局設(shè)計(jì)中以二分離掩膜加以圖案化的所有相鄰結(jié)構(gòu)，而系統(tǒng)化地檢測掩膜分離規(guī)則。根據(jù)特定的實(shí)施例，設(shè)計(jì)者使用設(shè)計(jì)規(guī)則語言[例如標(biāo)準(zhǔn)驗(yàn)證規(guī)則格式(Standard Verification Rule Format ；SVRF)或軟件特定的工具命令語言(Tool Command Language ；TCL)]來輸入必要的掩膜分離規(guī)則。上述掩膜分離規(guī)則可規(guī)定特定空間(Spatial)關(guān)系標(biāo)準(zhǔn)以做為GO空間，例如線對線距離(Run-To-Run Distance)、角落至角落(Corner-To-Corner)距離、一端至另一端(End-To-End)距離或直線至角落(Run-To-End)距離。上述掩膜分離規(guī)則亦可規(guī)定特定節(jié)距關(guān)系的標(biāo)準(zhǔn)，以做為GO空間，例如金屬節(jié)距或介層窗節(jié)距。
[0080]根據(jù)特定的實(shí)施例，DRC軟件接著取具有標(biāo)準(zhǔn)格式[例如圖形化數(shù)據(jù)系統(tǒng)IKGraphic Data System II ;OTSII)]的布局輸入，并產(chǎn)生一輸出，藉此顯示GO空間的所有空間關(guān)系。常用的DRC軟件包括明導(dǎo)國際(Mentor Graphics)公司所提供的Calibre軟件、新思科技(Synopsys)公司所提供的Hercules軟件、益華國際電腦科技(Cadence DesignSystems)公司所提供的Diva軟件、Dracula軟件、Assura軟件及PVS軟件。
[0081]根據(jù)特定的實(shí)施例，假如布局無法分離成二掩膜，上述問題可藉由改變布局設(shè)計(jì)而獲得解決。上述布局設(shè)計(jì)通常藉由檢閱過來自于DRC軟件的GO空間輸出的設(shè)計(jì)者以手動方式加以改變。改變布局設(shè)計(jì)是耗時(shí)的，因?yàn)樵O(shè)計(jì)者著眼于最小化設(shè)計(jì)的總體積，而改變通常會影響其他材料層中的結(jié)構(gòu)。在選定最佳方式之前，設(shè)計(jì)者必須評估許多其他的修正。此外，許多修正并不需要解析特定的循環(huán)(Loop)組合。因此，需要能夠有效率地解析DPT約束沖突(Constraint Violation)的改善方法。
[0082]藉由在金屬線上形成介層窗來建立內(nèi)連接結(jié)構(gòu)。為了確保能夠建立電性連接，介層窗需置放在金屬結(jié)構(gòu)上，且與上述的金屬結(jié)構(gòu)之間具有充份的接觸。圖1C繪示根據(jù)特定實(shí)施例的金屬結(jié)構(gòu)與介層窗結(jié)構(gòu)的俯視示意圖。圖1C繪示二金屬結(jié)構(gòu)151與152，其以空間「S2」加以分隔，其中空間S2小于金屬的空間「S」的GO規(guī)則。因此，以二個(gè)不同的金屬掩膜來圖案化金屬結(jié)構(gòu)151與152。第IC圖亦繪示三個(gè)介層窗153、154及155。介層窗153及154具有節(jié)距「P2」，而介層窗154及155具有節(jié)距「P3」。節(jié)距P2及P3小于為介層窗而規(guī)定的最小節(jié)距「P」。由于違反介層窗的GO規(guī)則，因而以二個(gè)不同的掩膜來圖案化介層窗153及154。同樣的，以二個(gè)不同的掩膜來印刷介層窗154及155,藉以滿足介層窗153與154以及介層窗154及155均需二個(gè)不同掩膜的需求。因此,介層窗153與155以相同的掩膜圖案化，其中此掩膜不同于介層窗154的掩膜。
[0083]圖1D繪示根據(jù)特定實(shí)施例的介層窗層的掩膜分離的工藝流程170。在操作171中，當(dāng)針對介層窗的GO掩膜分離規(guī)則(例如GO空間與GO節(jié)距)檢測介層窗布局時(shí)，產(chǎn)生違反標(biāo)示，藉以標(biāo)示符合介層窗的GO掩膜分離規(guī)則的結(jié)構(gòu)。違反標(biāo)示的范例可為連接二結(jié)構(gòu)的直線，其中上述二結(jié)構(gòu)違反GO節(jié)距或GO空間。
[0084]此后，工藝流程170進(jìn)行至操作172，以決定介層窗結(jié)構(gòu)是否觸及上述的違反標(biāo)示。針對觸及上述違反標(biāo)示的介層窗結(jié)構(gòu)，以二種顏色其中一種對上述介層窗結(jié)構(gòu)涂色，上述二種顏色象征(或鑒別)二介層窗掩膜。根據(jù)特定的實(shí)施例，圖1E繪示由于違反GO掩膜分離規(guī)則而由直線156所連接的介層窗153及154。同樣的,介層窗154及155由其他直線157所連接。特定的計(jì)算方式包括于操作173中，藉以決定分配哪一介層窗至第一掩膜(顏色「紅色」)，并分配其他介層窗至第二掩膜(顏色「藍(lán)色」)。在圖1D所示的范例中，可在操作174中分配介層窗以將其涂色成「紅色」(對應(yīng)于「掩膜I」)，或可在操作175中分配介層窗以將其涂色成「藍(lán)色」(對應(yīng)于「掩膜2」)。在圖1D所示的例示性實(shí)施例中，未違反任何GO掩膜分離規(guī)則的介層窗被分配至「藍(lán)色」。此外，未違反GO掩膜分離規(guī)則的介層窗可被分配至「紅色」，端視涂色規(guī)則而定。圖1E繪示，將介層窗153與155分配至顏色「紅色」，且將介層窗154分配至顏色「藍(lán)色」。在第IE圖中，顏色的分配滿足介層窗153與154以及介層窗154及155需分別藉由不同掩膜圖案化的需求。
[0085]針對DPT的工藝，材料層的第二圖案化掩膜可對齊上述材料層的第一圖案化掩膜，例如金屬掩膜_2對齊金屬掩膜_1，或介層窗掩膜_2對齊介層窗掩膜_1。此外，第一介層窗掩膜對齊二金屬掩膜的其中一者，其中金屬掩膜用來圖案化位于上述介層窗之下的金屬。重疊(Overlay)控制定義了圖案至圖案(Pattern-To-Pattern)對齊的控制。根據(jù)特定的實(shí)施例，圖2A繪不在金屬層的二金屬掩膜(11_2與11_1)與介層窗層的二介層窗掩膜(V_2與V_l)之間的六種可能的對齊關(guān)系。這六種可能的關(guān)系(以「/」標(biāo)志來表示)包括:
[0086]1.Μ_2 對齊 M_l;
[0087]2.V_1 對齊 M_1 ；
[0088]3.V_1 對齊 Μ_2 ；
[0089]4.V_2 對齊 M_1 ；
[0090]5.V_2 對齊 M_2 ；以及
[0091]6.V_2 對齊 V_l。
[0092]因?yàn)槲挥诮饘賹又系慕閷哟皩有枰膫€(gè)掩膜，故僅有三種可能的對齊排列。如以上所述，其中一種可能的對齊方案使用如下三種對齊排列(在圖2A中以「O」標(biāo)志來表示)O
[0093]1.Μ_2 對齊 M_l;
[0094]2.V_2 對齊 V_1 ；以及
[0095]3.V_1 對齊 M_1。
[0096]未被選擇以做為對齊所需的其他三種關(guān)系將受到非直接重疊控制。重疊控制遭遇些許程度的重疊誤差(標(biāo)示為「E」)。重疊誤差「E」反映了工具的重疊性能。根據(jù)特定的實(shí)施例，圖2B繪示金屬結(jié)構(gòu)181 (以金屬掩膜M_1圖案化)，以及另一金屬結(jié)構(gòu)182 (以金屬掩膜M_2圖案化)。在圖2B的實(shí)施例中，金屬掩膜M_2是對齊金屬掩膜11_1。如以上所述，重疊可能遭遇重疊誤差「E」。圖2B繪示了，由于重疊誤差，金屬結(jié)構(gòu)182已位移了重疊誤差「E」的量，其中虛線185是金屬結(jié)構(gòu)182應(yīng)有的金屬邊界。圖2B亦繪示被圖案化于金屬結(jié)構(gòu)181之上的介層窗183。介層窗183藉由介層窗掩膜V_1加以圖案化,其中介層窗掩膜V_1對齊金屬掩膜M_l。介層窗183亦可能遭遇具有重疊誤差「Ε」的最大量的重疊誤差。因?yàn)榻閷哟?83并未對齊金屬結(jié)構(gòu)182,在統(tǒng)計(jì)上,介于介層窗183與金屬結(jié)構(gòu)182之間的最大重疊誤差可能為1.414倍的重疊誤差「Ε」或萬倍的重疊誤差「Ε」。根據(jù)特定的實(shí)施例，圖2C繪示金屬掩膜M_l、金屬掩膜11_2與介層窗掩膜V_1之間重疊誤差的關(guān)系。圖2C繪示，介于由金屬掩膜M_2與金屬掩膜M_1圖案化的金屬結(jié)構(gòu)之間的最大的重疊誤差可為錯(cuò)誤「E」，且介于由介層窗掩膜V_1圖案化的介層窗與由金屬掩膜1_1圖案化的金屬結(jié)構(gòu)之間的重疊誤差的最大量亦可為錯(cuò)誤「E」。因此，在統(tǒng)計(jì)上，介于由介層窗掩膜V_1圖案化的介層窗與由金屬掩膜1_2圖案化的金屬結(jié)構(gòu)之間的重疊誤差(非直接重疊)的最大量可能為1.414倍的重疊誤差「E」或#倍的重疊誤差「E」。
[0097]根據(jù)特定的實(shí)施例，圖2D繪示介于由金屬掩膜M_1與M_2圖案化的金屬結(jié)構(gòu)，以及由介層窗掩膜[1與V_2圖案化的介層窗結(jié)構(gòu)之間的重疊誤差。以上所使用的雙重圖案化方案，以金屬掩膜M_2對齊金屬掩膜M_l、介層窗掩膜V_2對齊介層窗掩膜V_l、以及介層窗掩膜V_1對齊金屬掩膜M_1而描述如上。圖2D繪不，由于非直接重疊，介于金屬掩膜M_2
與介層窗掩膜V_1之間的重疊誤差為七倍的重疊誤差「E」，或?yàn)?.414倍的重疊誤差「Ε」，
且介于介層窗掩膜V_2與金屬掩膜M_1之間的重疊誤差亦為2倍的重疊誤差「E」。因?yàn)榻饘傺谀_2對齊金屬掩膜M_l、介層窗掩膜V_1對齊金屬掩膜M_l、而介層窗掩膜V_2對齊介層窗掩膜V_l,故介于金屬掩膜M_2與介層窗掩膜V_2之間的重疊誤差為VJ/f咅的重疊誤差「E」，或1.732倍的重疊誤差「E」。上述的分析顯示非直接重疊導(dǎo)致過度的重疊誤差，針對置放在金屬結(jié)構(gòu)之上的介層窗，這重疊誤差可能變成嚴(yán)重的問題，且需加以降低。
[0098]如以上圖1C中所示，為了電性連接，介層窗153、154及155置放在金屬結(jié)構(gòu)151與152上。根據(jù)特定的實(shí)施例，為了確保介層窗能有充份的置放面積，鄰近介層窗處的狹窄金屬結(jié)構(gòu)被擴(kuò)大了。圖1C繪示，金屬結(jié)構(gòu)151與152環(huán)繞介層窗153、154及155的部分被制造的較廣，藉以符合設(shè)定用來確保介層窗的充份置放面積的設(shè)計(jì)規(guī)則。對于確保良好的電性連接來說，位于金屬結(jié)構(gòu)之上的介層窗的置放是關(guān)鍵的。然而，對于先進(jìn)技術(shù)來說，這樣的擴(kuò)大可能發(fā)生無法于晶片上允許較高的元件密度。根據(jù)特定的實(shí)施例，圖3A繪示用來確保良好的介層窗對金屬的置放性的三種重疊關(guān)系。這三種重疊關(guān)系包括:
[0099]1.Μ_2 對齊 M_l;
[0100]2.V_1 對齊 M_1 ;以及
[0101]3.V_2 對齊 M_2。
[0102]在以上所述圖3A的實(shí)施例中，將觸及或連接(Intercept)位于底下的金屬層的介層窗分配至相關(guān)的金屬掩膜。例如，觸及或連接由金屬掩膜M_1圖案化的金屬結(jié)構(gòu)上的介層窗由相同的掩膜(介層窗掩膜V_l)圖案化。因?yàn)榻閷哟把谀_1對齊金屬掩膜M_l,且由于直接對齊，故位于由金屬掩膜M_1圖案化的金屬結(jié)構(gòu)之上的介層窗具有最佳的可能性，來適當(dāng)?shù)刂梅旁谄湎碌慕饘俳Y(jié)構(gòu)之上。同樣的，位于由金屬掩膜M_2圖案化的金屬結(jié)構(gòu)之上的介層窗，應(yīng)可由不同的介層窗掩膜V_2來加以圖案化,其中介層窗掩膜V_2對齊金屬掩膜M_2的圖案。
[0103]根據(jù)特定的實(shí)施例，圖3B繪示多個(gè)金屬結(jié)構(gòu)301至307、以及多個(gè)介層窗結(jié)構(gòu)311至320。圖3B繪示，金屬結(jié)構(gòu)301、303、304、306及307由M_A掩膜加以圖案化，而金屬結(jié)構(gòu)302及305由M_B掩膜加以圖案化。M_A及M_B掩膜的分配以GO規(guī)則為基礎(chǔ)。介于金屬結(jié)構(gòu)301與302之間的空間S31，與介于金屬結(jié)構(gòu)302、303、304、306與307之間的空間S32小于GO規(guī)則的最小空間S。因此，上述金屬結(jié)構(gòu)分配至不同的金屬掩膜(如以上所述)。介層窗311至320繪示于圖3B中，且置放在不同的金屬結(jié)構(gòu)之上。根據(jù)與其下的金屬層的相交(或置放)狀況，介層窗311至320分配置二個(gè)不同的介層窗掩膜。例如，介層窗311至313、316、317、319與320分配至V_A掩膜，其中V_A掩膜對齊M_A掩膜；而介層窗314、315與318分配至V_B掩膜，其中V_B掩膜對齊M_B掩膜。這樣的掩膜分配方案改善了置放的可能性并最小化置放失誤(Mis-Landing)。
[0104]根據(jù)特定的實(shí)施例，圖3C繪示介于由不同的金屬與介層窗掩
B (亦可稱之為M_A掩膜、M_B掩膜、V_A掩膜及V_B掩膜)圖案化的結(jié)構(gòu)之間的重疊誤差。以上所使用的雙重圖案化方案，以M_B掩膜對齊M_A掩膜、V_A掩膜對齊M_A掩膜、以及V_B掩膜對齊M_B掩膜而描述如上。圖3C繪示，由于直接重疊，介于V_A掩膜與M_A掩膜之間的重疊誤差為重疊誤差「E」，且介于V_B掩膜與M_B掩膜之間的重疊誤差亦為重疊誤差「E」，其中此重疊誤差遠(yuǎn)小于圖2A至圖2D所示的方案的1.732倍的重疊誤差「E」。因?yàn)樗杏蒝_A掩膜圖案化的介層窗相交于由M_A掩膜圖案化的金屬結(jié)構(gòu)，故沒有理由需考慮介于V_B掩膜與M_A掩膜之間的重疊誤差。同樣的，沒有理由需考慮介于介于V_A掩膜與M_B掩膜之間的重疊誤差。
[0105]上述的分析顯不，與金屬掩膜相關(guān)的介層窗掩膜分離提供較佳的重疊誤差。非直接重疊導(dǎo)致過度的重疊誤差。藉由對齊介層窗掩膜及與其相關(guān)的金屬掩膜，將可改善介層窗的優(yōu)良率。根據(jù)特定的實(shí)施例，圖3D繪示雙重圖案化中介層窗層的分配掩膜的工藝流程350。在底下的金屬層(位于介層窗層底下的材料層)的掩膜分配完成之后，開始操作工藝流程350。在操作351中，檢測介層窗，藉此決定介層窗需分配至哪一掩膜以進(jìn)行圖案化。在操作352中，做出該介層窗是否觸及或連接在某特定金屬掩膜(例如金屬的掩膜A)上的金屬結(jié)構(gòu)有關(guān)的決定。假如答案為是，將上述介層窗分配至操作353，藉此以代表「介層窗掩膜A」的「顏色A」加以涂色，其中介層窗掩膜A對齊金屬的掩膜A。反之，上述介層窗分配至操作354，藉此以代表「介層窗掩膜B」的「顏色B」加以涂色，其中介層窗掩膜B對齊金屬的掩膜B。
[0106]假如滿足特定標(biāo)準(zhǔn)或設(shè)計(jì)規(guī)則的限制，在不違背的情況下，以上所述針對位于金屬層之上的介層窗層的掩膜分配方案，可應(yīng)用至所有介層窗與金屬結(jié)構(gòu)。設(shè)計(jì)規(guī)則的限制列示如下:
[0107]1.位于相同的金屬結(jié)構(gòu)之上的介層窗不應(yīng)具有小于節(jié)距「P」的節(jié)距，藉以確保位于相同的金屬結(jié)構(gòu)之上的介層窗不會違反介層窗GO節(jié)距；以及
[0108]2.針對位于分離的金屬結(jié)構(gòu)之上的介層窗的介層窗GO空間規(guī)則，其應(yīng)較金屬GO空間規(guī)則更為松散(Looser)，藉此確保當(dāng)金屬結(jié)構(gòu)并未違反金屬GO空間規(guī)則時(shí)(亦即可由單一掩膜加以印刷)，介層窗亦未違反介層窗GO空間規(guī)則，且可印刷至與上述金屬掩膜相關(guān)的單一掩膜之上。
[0109]以上所述的第一限制允許位于相同的金屬結(jié)構(gòu)之上的所有介層窗能分配至相同的介層窗掩膜。假如介于位于相同的金屬結(jié)構(gòu)之上的介層窗之間的節(jié)距小于節(jié)距「P」，上述介層窗違反介層窗節(jié)距的GO規(guī)則，且被分離至不同的掩膜，此與上述建議的方案抵觸。第二限制允許位于相鄰金屬結(jié)構(gòu)之上的介層窗并未違反介層窗空間的GO規(guī)則，其中相鄰金屬結(jié)構(gòu)并未違反金屬空間的GO規(guī)則。
[0110]以上所述的對齊方法將減少對齊(或重疊)錯(cuò)誤，且增加金屬結(jié)構(gòu)之上的介層窗的置放性。在特定的實(shí)施例中，以上所述的二設(shè)計(jì)規(guī)則限制(Restraints)可能被視為太過嚴(yán)格，且可能無法加以遵循。在這樣的狀況下，設(shè)定并使用計(jì)算方式以處理違反介層窗的GO掩膜分離規(guī)則的狀況，其中GO掩膜分離規(guī)則可例如包括介層窗之間的介層窗節(jié)距與空間的規(guī)則。[0111]根據(jù)特定的實(shí)施例，圖4A繪示金屬結(jié)構(gòu)401與402，以及介層窗411至414。金屬結(jié)構(gòu)(或線)401的寬度Dl較金屬結(jié)構(gòu)(或線)402的寬度D2為寬。根據(jù)以上所述的掩膜分配計(jì)算方式，假如金屬結(jié)構(gòu)401分配至M_01掩膜，置放于金屬結(jié)構(gòu)401之上的介層窗411與412將被分配至與M_01掩膜對齊的V_01掩膜。同樣的，置放于金屬結(jié)構(gòu)402 (其分配至M_02掩膜)之上的介層窗413與414將被分配至與M_02掩膜對齊的V_02掩膜。然而，由于具有小于規(guī)格(Specification)的節(jié)距「P3」，介層窗411與412違反了節(jié)距的GO規(guī)則。因此，無論是介層窗411或412，其將被分配至不同的掩膜。例如，介層窗412分配至V_02掩膜。因?yàn)閂_02掩膜并未對齊M_01掩膜，潛在的重疊誤差(統(tǒng)計(jì)上為1.414倍的重疊誤差「E」)將大于V_01掩膜對齊M_01掩膜的重疊誤差「E」。圖4A繪示介層窗412的實(shí)體輪廓線422以做為預(yù)計(jì)的介層窗位置，而虛線輪廓線432做為印刷的位置。因?yàn)榻饘俳Y(jié)構(gòu)(或線)401較廣的，故印刷的介層窗412的印刷虛線輪廓線432完全置放于金屬結(jié)構(gòu)401之上(或之內(nèi))。
[0112]由于具有小于規(guī)格的節(jié)距「P4」，介層窗413與414亦違反了節(jié)距的GO掩膜分離規(guī)則。因此，無論是介層窗413或414，其被分配至不同的掩膜。例如，介層窗414分配至V_01掩膜。因?yàn)閂_01掩膜并未對齊M_02掩膜，潛在的重疊誤差(統(tǒng)計(jì)上為1.414倍的重疊誤差「E」)將大于V_02掩膜對齊M_02掩膜的重疊誤差「E」。根據(jù)特定的實(shí)施例，圖4A繪示介層窗414的實(shí)體輪廓線424以做為預(yù)計(jì)的介層窗位置，而虛線輪廓線434做為印刷的位置。因?yàn)猷徑诮閷哟?14的金屬結(jié)構(gòu)(或線)402(其具有寬度D2)較鄰近于介層窗413的金屬結(jié)構(gòu)402(其具有寬度D3)來得窄，故印刷的介層窗414的虛線輪廓線434的一部分置放于金屬結(jié)構(gòu)402之外(或之內(nèi))。不完整的置放可導(dǎo)致高阻抗(Resistance)或較差的粘著(Adhesion)被覆性(Coverage)、及/或介層窗阻障層(Barrier),其可導(dǎo)致內(nèi)連接可靠度(Reliability)的問題。在其他特定的實(shí)施例中，以虛線444印刷介層窗414,其中虛線444置放于金屬結(jié)構(gòu)402的印刷線(虛線464)末端外。因?yàn)榻饘俳Y(jié)構(gòu)402較窄，其可能遭遇「線末端縮減(Line End Shortening)」的問題,其位于金屬末端的縮減及磨圓(Rounded)的金屬輪廓，此為印刷與蝕刻的結(jié)果。不完整的置放亦可能導(dǎo)致高介層窗阻抗，或甚至是介層窗414與金屬結(jié)構(gòu)402之間的無法連接。
[0113]因此，位于較窄的金屬結(jié)構(gòu)的介層窗(例如介層窗414)的重疊誤差(或未對齊)可加以最小化。位于較窄的金屬結(jié)構(gòu)(或金屬線)上的介層窗稱之為「末端介層窗(EndVias)」，例如介層窗414,而當(dāng)介層窗位于較廣的金屬結(jié)構(gòu)上時(shí),則稱之為「長線型介層窗(Run Vias)」，例如介層窗413。在特定的實(shí)施例中，位于金屬結(jié)構(gòu)上且具有小于特定寬度(例如90nm)的介層窗，則稱之為「末端介層窗」。為了增加有效(Working)介層窗的數(shù)量并減少潛在的可靠度問題，「末端」介層窗應(yīng)以高于「線」介層窗的優(yōu)先順序來加以處理，藉此使其能在圖案化過程中對齊金屬掩膜。因此，介層窗414 (末端介層窗)分配至V_02掩膜以對齊M_02掩膜，而介層窗413 (操作介層窗)分配至V_01掩膜，其中V_01掩膜并未對齊皿_02掩膜。如圖4A所不,介層窗413未完全置放于金屬結(jié)構(gòu)402的內(nèi)的風(fēng)險(xiǎn)較小于介層窗414。
[0114]根據(jù)特定的實(shí)施例，圖4B繪示介層窗的分配掩膜的工藝流程450。在操作451中，當(dāng)針對介層窗的GO掩膜分離規(guī)則檢測介層窗布局時(shí)，產(chǎn)生違反標(biāo)示，藉以標(biāo)示違反介層窗的GO掩膜分離規(guī)則的結(jié)構(gòu)。如上所述，介層窗的GO掩膜分離規(guī)則可包括GO空間及/或GO節(jié)距規(guī)則。此后，工藝流程450進(jìn)行至操作452，以決定介層窗結(jié)構(gòu)是否觸及上述的違反標(biāo)示。針對觸及上述違反標(biāo)示的介層窗結(jié)構(gòu)，在操作453中做出與介層窗是否為末端介層窗有關(guān)的另一決定。針對未觸及上述違反標(biāo)示的介層窗結(jié)構(gòu)，工藝流程450進(jìn)行至操作454，基于那一個(gè)金屬掩膜上的金屬線與該介層窗有連接來分配介層窗掩膜?；氐讲僮?53,假如介層窗為末端介層窗，工藝流程450進(jìn)行至操作455，針對做為末端介層窗，將較高權(quán)重(Weight)分配至此介層窗，或此介層窗接收一較高權(quán)重。上述分配給末端介層窗的權(quán)重較大，藉此在掩膜分離中給予更多的重要性與更高的優(yōu)先順序，進(jìn)而允許末端介層窗被分配至對齊金屬結(jié)構(gòu)的介層窗掩膜，其中該金屬結(jié)構(gòu)已經(jīng)被分配至金屬的二張掩膜中。此一優(yōu)先(Preferential)掩膜分配使得介層窗能較佳地被置放在金屬結(jié)構(gòu)上、較低的介層窗阻抗以及較高的優(yōu)良率。在特定的實(shí)施例中，末端介層窗分離至不同的分類(Categories)，且相較于低風(fēng)險(xiǎn)的長線型(run)介層窗，高風(fēng)險(xiǎn)的末端介層窗具有較高的權(quán)重(或較高的優(yōu)先順序)。
[0115]假如介層窗并非末端介層窗，而為線介層窗，則工藝流程450進(jìn)行至操作456，此介層窗被分配予(或接收)一權(quán)重。因?yàn)榫€介層窗在介層窗置放上具有較低的風(fēng)險(xiǎn)，故其中的權(quán)重低于末端介層窗的權(quán)重。在介層窗被分配權(quán)重之后，工藝流程450進(jìn)行至操作457，以介層窗分離計(jì)算方式為基礎(chǔ)，將介層窗分配至不同的掩膜(上述二掩膜的其中一個(gè))。上述計(jì)算方式于分離掩膜時(shí)考慮上述介層窗的權(quán)重。在分配與底下金屬結(jié)構(gòu)的金屬掩膜對齊的介層窗掩膜時(shí)，給予末端介層窗(具有較高的權(quán)重)較高的優(yōu)先順序。此后，工藝流程450進(jìn)行至操作458，將上述的介層窗涂以二種顏色的其中一種，其中上述二種顏色代表二分離掩膜。上述操作454亦進(jìn)行至操作458。
[0116]以上所述方法的實(shí)施例的重點(diǎn)在于，依照與底下金屬層的兩金屬掩膜的關(guān)聯(lián)性來建立介層窗層的介層窗掩膜的分配。此外，介層窗層的掩膜分配亦可與上方金屬層的金屬掩膜相關(guān)聯(lián)。介層窗層的介層窗不僅需要置放在底下金屬層之上，且亦需要由上方金屬層來覆蓋。因此，以上所述的操作457可加以修正，以藉由計(jì)算方式來分配介層窗掩膜，其中上述計(jì)算方式將上方金屬層的金屬掩膜的分離考慮在內(nèi)。同樣的，以上所述的操作352亦可加以修正成，以基于上方金屬層的金屬掩膜分配的介層窗分配的決定為基礎(chǔ)。
[0117]根據(jù)各種實(shí)施例的一觀點(diǎn)，提供一種DPT中的介層窗與金屬層的分配掩膜的系統(tǒng)。此系統(tǒng)可包括電腦可讀取儲存媒體、耦合以讀取上述儲存媒體的處理器、以及輸出裝置。上述的處理器可為檢測GO掩膜分離規(guī)則及/或設(shè)計(jì)規(guī)則的特殊目的電腦的一部分，其中上述特殊目的電腦配置以進(jìn)行在此所揭露的各種方法。上述的電腦可讀取儲存媒體可包括一個(gè)或多個(gè)隨機(jī)存取存儲器(Random Access Memory ;RAM)、唯讀存儲器(Read OnlyMemory ;R0M)、電子可抹拭唯讀存儲器(EEPROM)、硬盤機(jī)(Hard Disk Drive ;HDD)、光盤機(jī)(CD-ROM、DVD-ROM或BD-R0M)、快閃存儲器(Flash Memory)或類似的儲存媒體。在特定的實(shí)施例中，上述的電腦可讀取儲存媒體包括任何形式的非過渡性(Non-Transitory)媒體。上述輸出裝置可為顯示器(Display)、打印機(jī)(Printer)或電腦儲存媒體。上述系統(tǒng)更可包括，在一個(gè)或多個(gè)布局的疊代解析(Iterative Resolution)過程中輸入布局?jǐn)?shù)據(jù)及/或輸入調(diào)整至布局?jǐn)?shù)據(jù)中的輸入裝置。
[0118]圖5繪示根據(jù)特定實(shí)施例的電腦系統(tǒng)500，其中電腦系統(tǒng)500可執(zhí)行以上所述方法的實(shí)施例。圖5繪示電腦系統(tǒng)500的一組態(tài)，其中電腦系統(tǒng)500包括耦合至存儲器次系統(tǒng)(Subsystem) 503的至少一可程序化(Programmable)處理器501。上述存儲器次系統(tǒng)503包括至少一種形式的存儲器，例如RAM及ROM等。上述電腦系統(tǒng)可包括儲存次系統(tǒng)505，其中儲存次系統(tǒng)505具有至少一磁碟機(jī)(Disk Drive)及/或⑶-ROM光盤機(jī)及/或DVD光盤機(jī)。在特定的執(zhí)行例中，可包括顯示器系統(tǒng)、鍵盤以及指示(Pointing)裝置來做為使用者接口次系統(tǒng)507的一部分，藉此提供使用者能夠手動輸入資訊。亦可包括輸入及輸出數(shù)據(jù)端口(Ports)。其他如網(wǎng)絡(luò)連接的元件以及各種裝置的接口等亦可包括于其中。上述電腦系統(tǒng)500的各種元件可用各種方式加以耦合，其中包括通過匯流排(Bus)次系統(tǒng)509。存儲器次系統(tǒng)503的存儲器可在特定時(shí)間容納一組指令的一部分或全部，其中當(dāng)這組指令執(zhí)行于電腦系統(tǒng)500中，這組指令執(zhí)行上述方法實(shí)施例的步驟。
[0119]以上所述的DPT的介層窗掩膜分離方法的實(shí)施例使得介層窗圖案化對齊底下或者上方的金屬層，藉此減少重疊誤差并增加介層窗置放性。假如相鄰的介層窗違反介層窗之間的空間或節(jié)距(或上述二者)的GO掩膜分離規(guī)則，因?yàn)槟┒私閷哟熬哂休^高的置放失誤的風(fēng)險(xiǎn)，故給予末端介層窗的掩膜分配較高的優(yōu)先順序，藉此確保末端介層窗的良好的置放性。上述與金屬層掩膜相關(guān)的介層窗掩膜分離方法使得介層窗具有較佳的性能，例如較低的介層窗阻抗，以及較高的介層窗優(yōu)良率。
[0120]在一實(shí)施例中，提供一種使用DPT分配介層窗層的介層窗圖案化掩膜的方法。此方法包括，決定某介層窗是否觸及或連接分配至第一金屬掩膜的底下金屬結(jié)構(gòu)。假如上述介層窗觸及或連接分配至第一金屬掩膜的底下金屬結(jié)構(gòu)，將這一介層窗分配至第一介層窗掩膜，且第一介層窗掩膜與第一金屬掩膜在工藝互相對齊。反之，將上述介層窗分配至第二介層窗掩膜，且第二介層窗掩膜與第二金屬掩膜互相對齊。
[0121]在另一實(shí)施例中，提供一種使用DPT分配介層窗層的介層窗圖案化掩膜的方法。此方法包括，產(chǎn)生介層窗層的介層窗的介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)不，且介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示連接違反至少一介層窗掩膜分離規(guī)則的介層窗。上述方法亦包括，決定介層窗是否觸及上述的介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示。假如介層窗并未觸及介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)不，根據(jù)上述介層窗與底下金屬結(jié)構(gòu)的那一掩膜連接來選擇介層窗掩膜。假如介層窗觸及介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示，進(jìn)行至下一個(gè)決定操作，藉以決定介層窗是否為末端介層窗。假如介層窗為末端介層窗，將第一權(quán)重分配至此介層窗，而假如介層窗并非為末端介層窗，則將第二權(quán)重分配至此介層窗。此方法更包括藉由一計(jì)算方式將上述的介層窗分配至二介層窗掩膜的其中一者，且上述計(jì)算方式給予具有第一權(quán)重的介層窗較高的優(yōu)先順序，以將此介層窗分配至對齊金屬結(jié)構(gòu)的介層窗掩膜，其中此介層窗置放于上述金屬結(jié)構(gòu)上。
[0122]在另一實(shí)施例中，提供一種使用DPT分配介層窗層的介層窗圖案化掩膜的方法。此方法包括，依照介層窗是否觸及或連接上方金屬結(jié)構(gòu)的第一金屬掩膜來進(jìn)行掩膜分配。假如上述介層窗觸及或連接分配至第一金屬掩膜的上方金屬結(jié)構(gòu)，將這一介層窗分配至第一介層窗掩膜，且在工藝上第一介層窗掩膜與第一金屬掩膜互相對準(zhǔn)。反之，將上述介層窗分配至第二介層窗掩膜，且第二介層窗掩膜與第二金屬掩膜互相對準(zhǔn)。
[0123]在另一實(shí)施例中，提供一種執(zhí)行一方法的電腦系統(tǒng)，上述的方法使用DPT來分配介層窗層的介層窗圖案化掩膜。此方法包括以下的操作:決定介層窗是否觸及或連接分配至第一金屬掩膜的底下金屬結(jié)構(gòu)；假如上述介層窗觸及或連接分配至第一金屬掩膜的底下金屬結(jié)構(gòu)，將這一介層窗分配至第一介層窗掩膜，其中第一介層窗掩膜與第一金屬掩膜互相對準(zhǔn)；反之,將上述介層窗分配至第二介層窗掩膜，其中第二介層窗掩膜與第二金屬掩膜互相對準(zhǔn)。
[0124]在又一實(shí)施例中，提供一種執(zhí)行指令的電腦可讀取儲存媒體，其中上述的指令用以執(zhí)行使用DPT分配介層窗層的介層窗圖案化掩膜的方法。此方法包括以下的操作:產(chǎn)生介層窗層的介層窗的介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)不，其中這一介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示連接違反至少一介層窗掩膜分離規(guī)則的介層窗；決定介層窗是否觸及上述的介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示；假如介層窗并未觸及介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示，根據(jù)上述介層窗與底下金屬結(jié)構(gòu)的那一掩膜連接來選擇介層窗掩膜；假如介層窗觸及介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示，進(jìn)行至下一個(gè)決定操作。上述的下一個(gè)決定操作包括以下的操作:決定上述介層窗是否為末端介層窗；假如介層窗為末端介層窗，將第一權(quán)重分配至此介層窗；假如介層窗并非為末端介層窗，則將第二權(quán)重分配至此介層窗；藉由一計(jì)算方式將上述的介層窗分配至二介層窗掩膜的其中一者，其中上述計(jì)算方式給予具有第一權(quán)重的介層窗較高的優(yōu)先順序，以將此介層窗分配至對準(zhǔn)金屬結(jié)構(gòu)的介層窗掩膜，其中此介層窗置放于上述對準(zhǔn)掩膜的金屬結(jié)構(gòu)上。
[0125]以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法，其特征在于其中該介層窗層的多個(gè)介層窗工藝上直接對準(zhǔn)置放在個(gè)別的底下金屬結(jié)構(gòu)之上，該方法使用一雙重介層窗掩膜圖案化技術(shù)，且該方法包括以下步驟: 產(chǎn)生該介層窗層的所述介層窗的多個(gè)介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示，其中所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示連接至少違反一介層窗掩膜分離規(guī)則的數(shù)個(gè)介層窗； 決定一介層窗是否觸及所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示； 假如該介層窗并未觸及所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示，分配該介層窗至二介層窗掩膜的其中一者，該者對準(zhǔn)一底下金屬層的一金屬掩膜，且該介層窗置放于該金屬掩膜某金屬結(jié)構(gòu)之上； 假如該介層窗觸及所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示其中一者，進(jìn)行一決定操作，以決定該介層窗是否為一末端介層窗； 假如該介層窗為該末端介層窗，分配一第一權(quán)重至該介層窗； 假如該介層窗并非為該末端介層窗，分配一第二權(quán)重至該介層窗；以及 進(jìn)行一分配步驟，以分配觸及所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示的每個(gè)介層窗至該二介層窗掩膜的其中一者，使得具有該第一權(quán)重的介層窗被給予較高的優(yōu)先順序，以將具有該第一權(quán)重的介層窗分配至正確的介層窗掩膜上，該正確的介層窗掩膜乃對準(zhǔn)其一金屬掩膜，而在此金屬掩膜上具有與該第一權(quán)重介層窗有觸及或連接的金屬結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于其中所述的末端介層窗置放在該底下金屬結(jié)構(gòu)的一處之上的介層窗，且該底下金屬結(jié)構(gòu)的該處具有小于一設(shè)定的寬度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于其中所述的設(shè)定的寬度為90納米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于其還包括: 在該分配步驟完成之后，將所有介層窗完成涂色，而完成掩膜分配。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于其中所述的第一權(quán)重大于該第二權(quán)重。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于其還包括: 分配所述介層窗的底下金屬結(jié)構(gòu)的每一者至二金屬掩膜的其中一者，且其中所述底下金屬結(jié)構(gòu)藉由雙重介層窗掩膜圖案化技術(shù)圖案化的一金屬層的一部分。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于其還包括:將每一所述金屬掩膜分別對齊所述介層窗掩膜的其中一者；以及 將二個(gè)金屬掩膜彼此對齊。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于其還包括: 限制觸及或連接相同的底下金屬結(jié)構(gòu)或上方金屬結(jié)構(gòu)的多個(gè)介層窗，使得所述介層窗具有等于或大于一距離的多個(gè)節(jié)距，其中該距離由一介層窗遮罩分離規(guī)則所規(guī)定，而具有小于該距離的節(jié)距且相鄰的其他多個(gè)介層窗分配至多個(gè)不同的介層窗遮罩。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于其還包括:定義位于多個(gè)不同的底下金屬結(jié)構(gòu)之上，或位于多個(gè)不同的上方金屬結(jié)構(gòu)之下，多個(gè)介層窗之間的空間的一介層窗掩膜分離規(guī)則；以及定義所述不同的底下金屬結(jié)構(gòu)或所述不同的上方金屬結(jié)構(gòu)之間的空間的一金屬掩膜分離規(guī)則。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于其中所述的介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示為直線。
【文檔編號】H01L21/31GK103956322SQ201410108600
【公開日】2014年7月30日 申請日期:2011年7月28日 優(yōu)先權(quán)日:2010年11月30日
【發(fā)明者】林本堅(jiān), 高蔡勝, 劉如淦, 黃文俊 申請人:臺灣積體電路制造股份有限公司