一種水膜生成裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種水膜生成裝置，它由水箱、PLC、直流電源、中間繼電器、時(shí)間繼電器、傳感器、供水管、電磁閥、滴水管、滴水管箱組成；水箱通過供水管與滴水管連接，電磁閥設(shè)在供水管中，滴水管設(shè)在滴水管箱下部，傳感器設(shè)在滴水管箱側(cè)壁，PLC分別與傳感器、直流電源、中間繼電器電連接，中間繼電器與時(shí)間繼電器電連接，時(shí)間繼電器與電磁閥電連接。它的效果在于：能在硅片正面表面生成一均勻的拱狀水膜，該拱狀水膜有很好的張力，可以阻止酸液對(duì)硅片邊緣的侵蝕，防止刻蝕邊的產(chǎn)生，提高硅片質(zhì)量。
【專利說明】一種水膜生成裝置
[0001]【技術(shù)領(lǐng)域】:本實(shí)用新型涉及一種在太陽(yáng)能硅片酸刻蝕加工中對(duì)硅片表面布上水膜防止酸液侵蝕硅片的水膜生成裝置。
[0002]【背景技術(shù)】:現(xiàn)有太陽(yáng)能電池硅片在酸刻蝕加工中，為保護(hù)硅片不受溢出的酸液在正面產(chǎn)生刻蝕邊，會(huì)在硅片正面覆蓋一層水膜，該水膜在一定程度上可保護(hù)溢出的酸液不能在硅片正面產(chǎn)生刻蝕邊?，F(xiàn)有在硅片正面生成一層覆蓋水膜的裝置，如名稱為“一種具有噴霧功能的濕法刻蝕”其專利號(hào)為201220362016.3的專利技術(shù)，它主要是在硅片正面上方設(shè)有一噴霧裝置，通過噴霧裝置向硅片正面噴灑霧狀的水滴而形成一個(gè)薄水膜層來(lái)達(dá)到保護(hù)硅片正面不受酸液刻蝕。該種通過噴霧而產(chǎn)生水膜的裝置在使用中存在的不足是:它僅是在硅片正面形成一個(gè)很薄的水平水膜層，它對(duì)溢上硅片正面的酸液阻力上，酸液容易侵入到硅片的正面而產(chǎn)生刻蝕邊。
[0003]
【發(fā)明內(nèi)容】
:本實(shí)用新型的目的在于，針對(duì)現(xiàn)有太陽(yáng)能電池硅片在酸刻蝕加工中所存在的上述不足，而提出一種在硅片正面生成一層拱狀水膜，可有效保護(hù)硅片正面不受溢出酸液侵蝕而產(chǎn)生刻蝕邊的水膜生成裝置。
[0004]通過下述技術(shù)方案可實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型目的，一種水膜生成裝置，其特征在于，它由水箱、PLC、直流電源、中間繼電器、時(shí)間繼電器、傳感器、供水管、電磁閥、滴水管、滴水管箱組成；水箱通過供水管與滴水管連接，電磁閥設(shè)在供水管中，滴水管設(shè)在滴水管箱下部，傳感器設(shè)在滴水管箱側(cè)壁，PLC分別與傳感器、直流電源、中間繼電器電連接，中間繼電器與時(shí)間繼電器電連接，時(shí)間繼電器與電磁閥電連接。
[0005]為利于在硅片正面生成拱狀水膜，滴水管以對(duì)應(yīng)的硅片為單元進(jìn)行布置，每個(gè)單元為4根，4根滴水管按方形排布。
[0006]為利于在娃片正面生成均勻的拱狀水膜，滴水管前端為斜口，其斜角為45?60°，斜面朝向方形排布的中心。
[0007]本實(shí)用新型的效果在于:它能在硅片正面表面生成一均勻的拱狀水膜，該拱狀水膜有很好的張力，可以阻止酸液對(duì)硅片邊緣的侵蝕，防止刻蝕邊的產(chǎn)生，提高硅片質(zhì)量，據(jù)統(tǒng)計(jì)，安裝本裝置前，每個(gè)作業(yè)班因刻蝕邊過寬產(chǎn)生的返工片大約有2%0，安裝后本裝置后，該情況基本消除；另外PECVD鍍膜后返工片率也由10%。降到2%0 ;該效果的產(chǎn)生在于，本裝置中設(shè)有PLC和滴水管，PLC對(duì)滴水管向硅片正面滴水的時(shí)間進(jìn)行了設(shè)定，使得滴水將整個(gè)硅片正面布滿而快要溢出時(shí)停止，這時(shí)，在硅片正面也就形成了一個(gè)拱狀的水膜，它有很好的張力，可有效保護(hù)硅片正面不受溢出酸液侵蝕而產(chǎn)生刻蝕邊；另外，本裝置中滴水管的布置和前端斜面結(jié)構(gòu)也有利于拱狀水膜的均勻形成。
[0008]下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步闡述:
【專利附圖】

【附圖說明】:
[0009]附圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0010]附圖2為本實(shí)用新型的電路方框結(jié)構(gòu)示意圖?！揪唧w實(shí)施方式】:
[0011]參見附圖1、2，一種水膜生成裝置，它由水箱1、PLC2、直流電源3、中間繼電器4、時(shí)間繼電器5、傳感器6、供水管7、電磁閥8、滴水管9、滴水管箱10組成；水箱I通過供水管7與滴水管9連接，電磁閥8設(shè)在供水管7中，滴水管9設(shè)在滴水管箱10下部，傳感器6設(shè)在滴水管箱10側(cè)壁，PLC2分別與傳感器6、直流電源3、中間繼電器4電連接，中間繼電器4與時(shí)間繼電器5電連接，時(shí)間繼電器5與電磁閥電8連接。為利于在硅片正面生成拱狀水膜，滴水管9以對(duì)應(yīng)的硅片為單元進(jìn)行布置，每個(gè)單元為4根，4根滴水管9按方形排布。為使在硅片正面生成一層均勻的拱狀水膜，滴水管9前端為斜口，其斜角為45?60°，斜面朝向方形排布的中心。
【權(quán)利要求】
1.一種水膜生成裝置，其特征在于，它由水箱、PLC、直流電源、中間繼電器、時(shí)間繼電器、傳感器、供水管、電磁閥、滴水管、滴水管箱組成；水箱通過供水管與滴水管連接，電磁閥設(shè)在供水管中，滴水管設(shè)在滴水管箱下部，傳感器設(shè)在滴水管箱側(cè)壁，PLC分別與傳感器、直流電源、中間繼電器電連接，中間繼電器與時(shí)間繼電器電連接，時(shí)間繼電器與電磁閥電連接。
2.按權(quán)利要求1所述的一種水膜生成裝置，其特征在于，滴水管以對(duì)應(yīng)的硅片為單元進(jìn)行布置，每個(gè)單元為4根，4根滴水管按方形排布。
3.按權(quán)利要求1或2所述的一種水膜生成裝置，其特征在于，滴水管前端為斜口，其斜角為45?60°，斜面朝向方形排布的中心。
【文檔編號(hào)】H01L31/18GK203521449SQ201320563206
【公開日】2014年4月2日 申請(qǐng)日期:2013年9月6日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月6日
【發(fā)明者】王許輝, 陳淳 申請(qǐng)人:江西瑞晶太陽(yáng)能科技有限公司