對(duì)平坦基板進(jìn)行單面濕化學(xué)處理的裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及液體輔助的平坦基板的處理領(lǐng)域。本實(shí)用新型特別涉及在單面濕化學(xué)處理中改善上述基板的背面保護(hù)。一種對(duì)平坦基板進(jìn)行單面濕化學(xué)處理的裝置，所述平坦基板（2）的單面濕化學(xué)處理裝置具有：收納處理液（F）的處理槽（7）；沿輸送平面（8）向預(yù)定的輸送方向水平引導(dǎo)基板（2）沿處理液（F）的表面通過(guò)該處理槽（7）的輸送裝置（4）；至少一個(gè)配置在所述輸送平面（8）的上側(cè)、向基板（2）的非處理面垂直供給排氣（3）的機(jī)器（1）。
【專利說(shuō)明】對(duì)平坦基板進(jìn)行單面濕化學(xué)處理的裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及液體輔助的平坦基板的處理領(lǐng)域。本實(shí)用新型特別涉及在單面濕化學(xué)處理中改善上述基板的背面保護(hù)。
【背景技術(shù)】
[0002]例如硅片等平坦基板用于形成例如太陽(yáng)電池之類的多種電氣零部件或電子零部件的基礎(chǔ)。在制造中，通常在多個(gè)濕化學(xué)處理步驟對(duì)基板進(jìn)行處理，所述濕化學(xué)處理步驟例如為鋸斷后的預(yù)清洗、蝕刻、利用摻雜液的處理等。
[0003]往往希望基板的表面和背面具有不同特性。因此，需要對(duì)各個(gè)面施以不同處理，以下將此稱為“單面處理”。
[0004]在單面處理中，應(yīng)當(dāng)考慮保護(hù)基板的非處理面免受另一面的處理的影響。對(duì)此，現(xiàn)有技術(shù)中公知各種方法。
[0005]基于此，可以在處理基板前用硬保護(hù)層覆蓋非處理側(cè)。然后必須再除去該保護(hù)層。此種情況下，使基板完全浸潰在處理介質(zhì)中。但是，實(shí)施該附加步驟耗費(fèi)時(shí)間和成本，并且有可能由于該附加步驟而導(dǎo)致?lián)p傷被臨時(shí)保護(hù)的一側(cè)。
[0006]沿處理液表面引導(dǎo)基板的單面處理公開(kāi)于出版物EP1733418B1中。但是，實(shí)際上已經(jīng)明確:在基板之間上升的微小氣泡、飛沫，特別是反應(yīng)氣體有可能到達(dá)不應(yīng)被處理的表面。
[0007]另外，出版物DE102009050845中公開(kāi)了以下信息:在單面處理中使用液態(tài)保護(hù)層代替上述硬保護(hù)層是公知的。但是，該公知手段的缺點(diǎn)在于，液體的使用關(guān)系到成本，并且對(duì)原處理液產(chǎn)生影響(稀釋)。
[0008]使用出版物EP12175872中公開(kāi)的方法及裝置，利用與輸送方向相反的水平空氣流，能夠更好地從處理液的上側(cè)區(qū)域輸出蒸汽或氣體。但是，此種情況下，不能排除以下情形，即，由于朝向預(yù)定方向的(空氣的)流動(dòng)，不需要的氣體或蒸汽逐漸集中到輸送氣體內(nèi)，特別是在這樣的設(shè)備的下游側(cè)區(qū)域，最終導(dǎo)致基板表面的不當(dāng)損傷。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0009]因此，本實(shí)用新型的課題是更好地保護(hù)平坦基板的非處理面，使其免受處理帶來(lái)的損傷，特別是免受上述基板的單面濕化學(xué)處理體系中的反應(yīng)氣體的影響。
[0010]其他課題是提供一種用于平坦基板的單面濕化學(xué)處理的連續(xù)設(shè)備，該連續(xù)設(shè)備更好地保護(hù)平坦基板的非處理面免受處理帶來(lái)的損傷。
[0011]本實(shí)用新型的裝置用于平坦基板的單面濕化學(xué)處理。該裝置具有用于收納處理液的處理槽和輸送裝置，該輸送裝置發(fā)揮以下作用，即，用于沿輸送平面向預(yù)定的輸送方向水平引導(dǎo)基板沿處理液表面通過(guò)處理槽。換言之，該裝置特別適于在連續(xù)系統(tǒng)中對(duì)平坦基板進(jìn)行單面濕化學(xué)處理。
[0012]為了保護(hù)平坦基板的非處理面(即上表面)免于接觸出現(xiàn)在處理液上側(cè)的氣體及/或蒸汽(反應(yīng)氣體、來(lái)自處理液的蒸汽)，本實(shí)用新型的裝置具有至少一個(gè)配置在輸送平面上側(cè)(即，處理液的液平面的上側(cè))、朝向基板的非處理面垂直供給排氣的機(jī)器。
[0013]換言之，該裝置具有如下零部件，該零部件從上方向基板表面供給氣體狀流體，從基板表面吹散在基板的側(cè)方上升的微小氣泡、從這些微小氣泡逸出的反應(yīng)氣體、反應(yīng)液的蒸汽、或與空氣中的氧反應(yīng)而形成的氣體。由此，保護(hù)非處理表面免受上述氣體帶來(lái)的損傷。不需要使用保護(hù)用液體或固體。因此，能夠減少保護(hù)所需的操作步驟，進(jìn)而還能節(jié)約單面濕化學(xué)處理所需的時(shí)間和成本。
[0014]此種情況下，重要的是能夠以垂直方向供給排氣這一點(diǎn)。由此,能夠有效地避免如沿大致水平方向、特別是與輸送方向相反方向前進(jìn)的排氣流的情況那樣，氣體及/或蒸汽在排氣內(nèi)逐漸集中的情形。顯然準(zhǔn)確地賦予氣流垂直方向在結(jié)構(gòu)上并非總是可能的。因此，從定義上而言，偏離垂直方向(鉛直方向)某種程度，例如偏離鉛直方向-30?+30度，優(yōu)選-10?+10度，也可視為垂直方向。
[0015]優(yōu)選的是，輸送裝置具有在輸送方向上前后配置的多個(gè)輥。此種情況下，以輥的上緣部與處理液的液平面一致的方式將輥配置在處理槽內(nèi)，所以，使得在輸送中僅將基板的應(yīng)當(dāng)被處理的下表面承載在輥上，與處理液接觸。
[0016]輸送裝置的其他實(shí)施方式為傳送帶(belt)、卡盤(pán)(chuck)或者所謂的“流體墊(cushion)”、即由流體支承的墊，基板能夠在該流體墊上沿裝置浮動(dòng)式輸送。
[0017]優(yōu)選的是，用于沿垂直方向供給排氣的機(jī)器(以下簡(jiǎn)稱為“機(jī)器”)具有一個(gè)供給口。能夠如上所述地從該供給口供給排氣。
[0018]但是，特別優(yōu)選的是，該機(jī)器具有多個(gè)供給口。這些供給口可以圖案化配置或者隨機(jī)分布地配置在該機(jī)器的下表面。多個(gè)供給口可以由噴嘴實(shí)現(xiàn)，即使自基板的上表面到該機(jī)器自身的下表面的間隔比較大，所述噴嘴也能夠準(zhǔn)確地賦予氣流方向。
[0019]為了用于供給排氣，例如可以使用由燒結(jié)材料形成的透氣性板。
[0020]供給口可以形成為圓形、橢圓形或狹縫狀。狹縫狀的供給口可以朝向(在俯視圖中觀察時(shí))輸送方向或相對(duì)于輸送方向朝向橫向。也可以是不同形狀的組合。由此能夠多樣分配流出的排氣。例如，有時(shí)希望向一個(gè)軌道的中央部提供比邊緣部區(qū)域更大的排氣體積量。在最簡(jiǎn)單的例子中，通過(guò)不同大小的孔或不同孔密度(每單位面積的供給口)來(lái)實(shí)現(xiàn)該希望。
[0021]在其他實(shí)施方式中，機(jī)器的寬度超過(guò)基板寬度O?10%。由此，保證基板上表面的邊緣區(qū)域也能夠流入足夠多的排氣。擇一或附加的是，供給口可以恰好在邊緣部區(qū)域具有側(cè)傾角度，由此，能夠更好地將從供給口流出的排氣從基板中心輸出。
[0022]該機(jī)器具有多個(gè)供給口的情況下，在其他優(yōu)選的實(shí)施方式中，在輸送方向觀察時(shí)，這些供給口能夠分區(qū)段(segment)選擇性地關(guān)閉。這意味著在機(jī)器的整個(gè)寬度上延伸的多個(gè)區(qū)段集體由可打開(kāi)或關(guān)閉的多個(gè)供給口形成。此種情況下，僅在區(qū)段的下側(cè)確實(shí)存在基板時(shí)，該區(qū)段才供給排氣。由此，保證排氣不流入處理液表面上的兩個(gè)基板之間的間隙而產(chǎn)生波，和/或不會(huì)使不需要的氣體朝基板移動(dòng)。
[0023]為了檢測(cè)出基板或基板間的間隙的位置，例如可以使用多個(gè)非接觸式傳感器。此種情況下，這些非接觸式傳感器控制所述區(qū)段的打開(kāi)或關(guān)閉。
[0024]另外，在其他實(shí)施方式中，該機(jī)器能夠沿輸送方向移動(dòng)。由此，能夠得到上述作用效果。因此，顯然裝置特別優(yōu)選具有多個(gè)用于沿垂直方向供給排氣的機(jī)器，這些機(jī)器在一個(gè)軌道的上側(cè)前后配置。由于該機(jī)器不位于基板之間的間隙，所以，不會(huì)向間隙供給排氣。此種情況下，該機(jī)器的移動(dòng)與基板同步進(jìn)行。
[0025]另外，在其他實(shí)施方式中，該機(jī)器還具有多個(gè)用于例如排氣、處理液的蒸汽及/或反應(yīng)氣體等氣體和蒸汽的吸氣口。上述吸氣口可優(yōu)選配置在該機(jī)器下表面的供給口之間。
[0026]利用上述“一體化”的吸氣口，可以根據(jù)情況省去另外配置的吸氣裝置，或者可以明顯縮小另外配置的吸氣裝置的尺寸。另外，有害氣體完全不會(huì)到達(dá)遠(yuǎn)離基板的范圍，這也有利于保護(hù)操作者和機(jī)械。
[0027]擇一或附加的是，吸氣口可以配置在該機(jī)器側(cè)面的邊緣部區(qū)域、側(cè)邊緣部及/或上表面。由此，機(jī)器下表面的用來(lái)供給排氣的中央?yún)^(qū)域基本上被騰出。此種情況下，氣流連續(xù)或供給口相對(duì)于吸氣口的結(jié)構(gòu)分離是比較簡(jiǎn)單的。
[0028]通常，連續(xù)設(shè)備具有多個(gè)軌道。此種情況下，裝置優(yōu)選具有與軌道數(shù)對(duì)應(yīng)的數(shù)量的并列配置的機(jī)器，該機(jī)器垂直供給排氣。顯然可以每條軌道間斷形成多個(gè)機(jī)器，但是，在定義時(shí)，稱為每條軌道一個(gè)機(jī)器。
[0029]在各機(jī)器之間，優(yōu)選保持I?200mm的間隔。由此，被排出的不需要的氣體與排氣一同在機(jī)器之間的區(qū)域上升，從而能夠以大流量輸出。
[0030]作為排氣，尤其可以考慮空氣、保護(hù)氣體及其混合物。
[0031]排氣量?jī)?yōu)選調(diào)節(jié)至在基板和機(jī)器之間的空隙的最小流速為0.lm/s,而最大流速不超過(guò)15m/s。優(yōu)選流速為lm/s。
[0032]在裝置的其他實(shí)施方式中，該裝置具有吸氣裝置，或與該裝置對(duì)應(yīng)地配置吸氣裝置。該吸氣裝置超過(guò)所設(shè)置的上述吸氣口，但是，可有利地與這些吸氣口連接。吸氣裝置主要用于除去在垂直供給排氣的機(jī)器的側(cè)面上升的負(fù)載排氣。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0033]圖1表示本實(shí)用新型的對(duì)平坦基板進(jìn)行單面濕化學(xué)處理的裝置之一例。
[0034]附圖標(biāo)記說(shuō)明
[0035]I垂直供給排氣的機(jī)器、機(jī)器
[0036]2基板、平坦基板
[0037]3 排氣
[0038]4輸送裝置
[0039]5 軌道
[0040]6 供給 口
[0041]7處理槽
[0042]8輸送平面
[0043]F處理液
【具體實(shí)施方式】
[0044]下面說(shuō)明本實(shí)用新型的裝置的使用。
[0045]該裝置用于保護(hù)平坦基板的非處理面不與處理液上側(cè)產(chǎn)生的氣體及/或蒸汽接觸，此種情況下，從配置在輸送平面上側(cè)的機(jī)器向基板的非處理面供給排氣。
[0046]為了避免重復(fù)，關(guān)于裝置的特征請(qǐng)參考上述說(shuō)明。
[0047]優(yōu)選的是，僅向基板的上表面供給排氣，而不向處理液的露出面供給排氣。由此，不必?fù)?dān)心排氣在二個(gè)基板之間的間隙與處理液的表面接觸而產(chǎn)生波，并且/或者可以保證使不需要的氣體不向基板移動(dòng)。
[0048]這通過(guò)在結(jié)構(gòu)上能分區(qū)段選擇性地進(jìn)行關(guān)閉的供給口及/或機(jī)器在輸送方向上的移動(dòng)性來(lái)實(shí)現(xiàn)(參考上述內(nèi)容)。
[0049]更優(yōu)選的是，使用由機(jī)器進(jìn)一步提供的吸氣口，對(duì)存在于輸送平面上側(cè)的氣體及/或蒸汽進(jìn)行抽吸。由此，能夠?qū)⒇?fù)載排氣前進(jìn)的自由距離的長(zhǎng)度控制在最小值(參考上述內(nèi)容)。
[0050]本實(shí)用新型在上述基板的單面濕化學(xué)處理中改善平坦基板的非處理面的保護(hù)，使其免受損傷，特別是免受反應(yīng)氣體的損傷。
[0051]在唯一的圖1中，示意性地表示連續(xù)設(shè)備中的多個(gè)本實(shí)用新型的機(jī)器I。
[0052]在作為輥構(gòu)成的輸送裝置4上，平坦基板2位于三個(gè)軌道上。在濕化學(xué)處理中，這些基板2在連續(xù)設(shè)備(圖示中為處理槽7)內(nèi)于輸送平面8上，沿著朝向圖平面內(nèi)側(cè)的輸送方向被輸送。
[0053]處理液F的液平面與在本實(shí)施方式中作為輸送裝置4使用的輥的上緣部一致，所以，實(shí)質(zhì)上能夠進(jìn)行基板2的單面處理。
[0054]在基板2的上側(cè)，配置有多個(gè)用于保護(hù)平坦基板2的非處理面的本實(shí)用新型的機(jī)器I。排氣3從位于機(jī)器I下表面的多個(gè)供給口 6流出。排氣3的流路如圖1中的箭頭所
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[0055]由附圖可知，排氣3相對(duì)于基板2的上表面以大致垂直方向流動(dòng)。在基板2的上表面改變方向后，排氣3再次向上流向側(cè)面，從而避免再次與基板上表面接觸。由此，可以保證不必?fù)?dān)心在改變方向時(shí)已經(jīng)與反應(yīng)氣體接觸的排氣3污染基板2的非處理面。
[0056]最后，負(fù)載排氣3向上方逸出，并于該處被吸氣裝置(未圖示)從連續(xù)設(shè)備的范圍中除去。
[0057]基板上表面和供給口 6之間的間隔X優(yōu)選為I?20mm，特別優(yōu)選為7mm。
【權(quán)利要求】
1.一種對(duì)平坦基板(2)進(jìn)行單面濕化學(xué)處理的裝置，其特征在于，具有:收納處理液(F)的處理槽(7);沿輸送平面(8)向預(yù)定的輸送方向水平引導(dǎo)基板(2)沿處理液(F)的表面通過(guò)該處理槽(7 )的輸送裝置(4 );至少一個(gè)配置在所述輸送平面(8 )的上側(cè)、向基板(2 )的非處理面垂直供給排氣(3)的機(jī)器(I)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述輸送裝置(4)具有在輸送方向前后配置的多個(gè)輥。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置，其中，垂直供給排氣(3)的所述機(jī)器(I)具有一個(gè)供給口(6)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)具有多個(gè)供給口(6)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中，所述供給口(6)形成為圓形、橢圓形或狹縫狀。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中，所述供給口(6)形成為圓形、橢圓形或狹縫狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1、2、5和6中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)的寬度超過(guò)所述基板(2)的寬度O~10%。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)的寬度超過(guò)所述基板(2)的寬度O ~10%。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)的寬度超過(guò)所述基板(2)的寬度O ~10%。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)的供給口(6)在沿輸送方向觀察時(shí)，能夠分區(qū)段選擇性地關(guān)閉。
11.根據(jù)權(quán)利要求5、6、8和9中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)的供給口(6)在沿輸送方向觀察時(shí)，能夠分區(qū)段選擇性地關(guān)閉。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)的供給口(6)在沿輸送方向觀察時(shí)，能夠分區(qū)段選擇性地關(guān)閉。
13.根據(jù)權(quán)利要求1、2、5、6、8-10和12中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)能夠沿輸送方向移動(dòng)。
14.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)能夠沿輸送方向移動(dòng)。
15.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)能夠沿輸送方向移動(dòng)。
16.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)能夠沿輸送方向移動(dòng)。
17.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)能夠沿輸送方向移動(dòng)。
18.根據(jù)權(quán)利要求1、2、5、6、8-10和12、14_17中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)還具有氣體和蒸汽用的吸氣口。
19.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)還具有氣體和蒸汽用的吸氣口。
20.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)還具有氣體和蒸汽用的吸氣口。
21.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)還具有氣體和蒸汽用的吸氣口。
22.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)還具有氣體和蒸汽用的吸氣口。
23.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置，其中，所述機(jī)器(I)還具有氣體和蒸汽用的吸氣口。
24.根據(jù)權(quán)利要求18所述的裝置，其中，所述吸氣口配置在所述機(jī)器(I)的側(cè)面邊緣部區(qū)域、側(cè)邊緣部及/或上表面。
25.根據(jù)權(quán)利要求19-23中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述吸氣口配置在所述機(jī)器(I)的側(cè)面邊緣部區(qū)域、側(cè)邊緣部及/或上表面。
26.根據(jù)權(quán)利要求1、2、5、6、8-10、12、14-17和19-24中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，設(shè)置多個(gè)軌道(5)，并且具有與這些軌道(5)的數(shù)量對(duì)應(yīng)數(shù)量的、并列配置的機(jī)器(1)，所述機(jī)器(I)垂直供給排氣(3)。
27.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中，設(shè)置多個(gè)軌道(5)，并且具有與這些軌道(5)的數(shù)量對(duì)應(yīng)數(shù)量的、并列配置的機(jī)器(I)，所述機(jī)器(I)垂直供給排氣(3 )。
28.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中，設(shè)置多個(gè)軌道(5)，并且具有與這些軌道(5)的數(shù)量對(duì)應(yīng)數(shù)量的、并列配置的機(jī)器(I)，所述機(jī)器(I)垂直供給排氣(3 )。
29.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中，設(shè)置多個(gè)軌道(5)，并且具有與這些軌道(5)的數(shù)量對(duì)應(yīng)數(shù)量的、并列配置的機(jī)器(I)，所述機(jī)器(I)垂直供給排氣(3 )。
30.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其中，設(shè)置多個(gè)軌道(5)，并且具有與這些軌道(5)的數(shù)量對(duì)應(yīng)數(shù)量的、并列配置的機(jī)器(I)，所述機(jī)器(I)垂直供給排氣(3 )。
31.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置，其中，設(shè)置多個(gè)軌道(5)，并且具有與這些軌道(5)的數(shù)量對(duì)應(yīng)數(shù)量的、并列配 置的機(jī)器(I)，所述機(jī)器(I)垂直供給排氣(3 )。
32.根據(jù)權(quán)利要求18所述的裝置，其中，設(shè)置多個(gè)軌道(5)，并且具有與這些軌道(5)的數(shù)量對(duì)應(yīng)數(shù)量的、并列配置的機(jī)器(I)，所述機(jī)器(I)垂直供給排氣(3 )。
33.根據(jù)權(quán)利要求25所述的裝置，其中，設(shè)置多個(gè)軌道(5)，并且具有與這些軌道(5)的數(shù)量對(duì)應(yīng)數(shù)量的、并列配置的機(jī)器(I)，所述機(jī)器(I)垂直供給排氣(3 )。
34.根據(jù)權(quán)利要求1、2、5、6、8-10、12、14-17、19-24、27-33中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，具有一個(gè)吸氣裝置或?qū)?yīng)配置一個(gè)吸氣裝置。
35.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中，具有一個(gè)吸氣裝置或?qū)?yīng)配置一個(gè)吸氣裝置。
36.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中，具有一個(gè)吸氣裝置或?qū)?yīng)配置一個(gè)吸氣裝置。
37.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中，具有一個(gè)吸氣裝置或?qū)?yīng)配置一個(gè)吸氣裝置。
38.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其中，具有一個(gè)吸氣裝置或?qū)?yīng)配置一個(gè)吸氣裝置。
39.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置，其中，具有一個(gè)吸氣裝置或?qū)?yīng)配置一個(gè)吸氣裝置。
40.根據(jù)權(quán)利要求18所述的裝置，其中，具有一個(gè)吸氣裝置或?qū)?yīng)配置一個(gè)吸氣裝置。
41.根據(jù)權(quán)利要求25所述的裝置，其中，具有一個(gè)吸氣裝置或?qū)?yīng)配置一個(gè)吸氣裝置。
42.根據(jù)權(quán)利要求26所述的裝置，其中，具有一個(gè)吸氣裝置或?qū)?yīng)配置一個(gè)吸氣裝置。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK203491226SQ201320554259
【公開(kāi)日】2014年3月19日 申請(qǐng)日期:2013年9月6日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月24日
【發(fā)明者】巴賴斯·德克, 卡爾滕巴赫·弗洛里安, 桑德·貝恩德-尤韋, 丁佩爾費(fèi)爾德·沃爾夫?qū)? 伯諾爾·迪特馬爾, 派蒂阿迪克斯·亞歷克西斯, 魏澤·凱特琳 申請(qǐng)人:睿納有限責(zé)任公司