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吸附傳輸機構的制作方法

文檔序號:7136069閱讀:197來源:國知局
專利名稱:吸附傳輸機構的制作方法
技術領域
本實用新型吸附傳輸機構,尤其涉及一種針對硅片的新型吸附傳輸機構。
背景技術
太陽能硅片自動生產(chǎn)加工過程中,普遍要求在對硅片進行搬運傳送時保證硅片的姿態(tài)及位置準確,因為硅片質(zhì)量輕,厚度小,所以在高速傳送過程中很容易造成其姿態(tài)及位置變化,這就影響了后續(xù)工序中對硅片的檢測及加工精度。現(xiàn)有的吸附機構無法解決以上問題。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型在于克服已有技術的缺點,提供一種保證皮帶帶動硅片高速運動過 程中硅片姿態(tài)一致及位置的準確的吸附傳輸機構。本實用新型的吸附傳輸機構,它包括左、右傳送皮帶主動輪和與所述的左、右傳送皮帶主動輪分別相對設置的左、右傳送皮帶從動輪,所述的左傳送皮帶主動輪和左傳送皮帶從動輪之間通過兩條間隔設置的左傳送皮帶轉(zhuǎn)動相連,所述的右傳送皮帶主動輪和右傳送皮帶從動輪之間通過兩條間隔設置的右傳送皮帶轉(zhuǎn)動相連,所述的左、右傳送皮帶分別設置在位于左、右傳送皮帶下方的一個吸附板開設的凹槽內(nèi),在所述的吸附板上沿硅片運動的方向分別開有多個吸附孔。本實用新型機構提供了一種采用真空吸附原理增大硅片與傳送皮帶之間接觸壓力的結(jié)構,該結(jié)構可以增加硅片與傳送皮帶之間的接觸壓力以增大兩者之間的摩擦力,從而保證皮帶帶動硅片高速運動過程中硅片姿態(tài)一致及位置的準確。本機構工作過程中吸附板,傳送皮帶及其上方的硅片形成一個相對封閉的真空腔體,在真空腔體及外界大氣壓之間的壓差作用下硅片與皮帶之間的接觸壓力增大,從而增大了硅片與傳送皮帶之間的摩擦力,這樣在傳送皮帶高速運動過程中,硅片在摩擦力的作用下與傳送皮帶之間很難有相對運動,從而有效地避免了硅片傳送過程中的姿態(tài)及位置變化。

圖1是本實用新型的吸附傳輸機構的整體結(jié)構示意圖;圖2是圖1所示的整體結(jié)構的前側(cè)剖面示意圖;圖3是圖2所示結(jié)構中的真空腔體部分的局部放大示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明。如圖1所示的本實用新型的吸附傳輸機構,它包括左傳送皮帶主動輪1、右傳送皮帶主動輪10,與所述的左、右傳送皮帶主動輪分別相對設置的左傳送皮帶從動輪5和右傳送皮帶從動輪11,所述的左傳送皮帶主動輪和左傳送皮帶從動輪之間通過間隔設置的傳送皮帶2、3轉(zhuǎn)動相連,所述的右傳送皮帶主動輪10和右傳送皮帶從動輪11之間通過兩條間隔設置的右傳送皮帶7、8轉(zhuǎn)動相連,所述的左、右傳送皮帶分別設置在位于左、右傳送皮帶下方的一個吸附板6開設的凹槽內(nèi),在所述的吸附板上沿硅片9運動的方向分別開有多個吸附孔4。如圖1所示的本吸附定位機構的整體結(jié)構示意圖,吸附孔4,優(yōu)選的在位于兩條左傳送皮帶之間的吸附板6的前后部以及位于兩條右傳送皮帶之間的吸附板6的前后部分別設置2組吸附孔,共4組吸附孔。使用中吸附孔通過管路和真空發(fā)生部件相連,以提供真空環(huán)境。如圖2所示是本吸附定位機構的整體結(jié)構前側(cè)切面示意圖,該圖顯示了形成真空腔體的具體結(jié)構組成。圖3所示是圖2中真空腔體部分的局部放大示意圖,該圖顯示了形成真空腔體的詳細結(jié)構,工作狀態(tài)下,硅片9與兩個左傳送皮帶2,3之間接觸形成一個封閉的空間12,吸 附孔4向內(nèi)吸入空氣,造成封閉的空間12氣壓降低,從而使之成為一個低壓的真空腔體。本機構的動作過程如下如圖1所示正常工作過程中,兩個傳送皮帶驅(qū)動輪I帶動四根傳送皮帶2,3,7,8高速運動,當有硅片9運動到吸附孔上方時,吸附孔抽走空氣,封閉的空間12即真空腔體形成并發(fā)揮作用,使硅片緊緊貼合在傳送皮帶上,使之隨傳送皮帶高速運動過程中姿態(tài)一致且相對于皮帶的位置準確。以上是以太陽能硅片作為對象對本吸附定位機構進行的說明,其原理同樣適用于太陽能電池片及其他輕薄片狀物體的傳送搬運過程。
權利要求1.吸附傳輸機構,它包括左、右傳送皮帶主動輪和與所述的左、右傳送皮帶主動輪分別相對設置的左、右傳送皮帶從動輪,所述的左傳送皮帶主動輪和左傳送皮帶從動輪之間通過兩條間隔設置的左傳送皮帶轉(zhuǎn)動相連,所述的右傳送皮帶主動輪和右傳送皮帶從動輪之間通過兩條間隔設置的右傳送皮帶轉(zhuǎn)動相連,其特征在于所述的左、右傳送皮帶分別設置在位于左、右傳送皮帶下方的一個吸附板開設的凹槽內(nèi),在所述的吸附板上沿硅片運動的方向分別開有多個吸附孔。
2.根據(jù)權利要求1所述的吸附傳輸機構,其特征在于在位于兩條左傳送皮帶之間的吸附板的前后部以及位于兩條右傳送皮帶之間的吸附板的前后部分別設置組吸附孔。
專利摘要本實用新型公開了吸附傳輸機構,它包括左、右傳送皮帶主動輪和與所述的左、右傳送皮帶主動輪分別相對設置的左、右傳送皮帶從動輪,所述的左傳送皮帶主動輪和左傳送皮帶從動輪之間通過兩條間隔設置的左傳送皮帶轉(zhuǎn)動相連,所述的右傳送皮帶主動輪和右傳送皮帶從動輪之間通過兩條間隔設置的右傳送皮帶轉(zhuǎn)動相連,所述的左、右傳送皮帶分別設置在位于左、右傳送皮帶下方的一個吸附板開設的凹槽內(nèi),在所述的吸附板上沿硅片運動的方向分別開有多個吸附孔。本機構可以增加硅片與傳送皮帶之間的接觸壓力以增大兩者之間的摩擦力,從而保證皮帶帶動硅片高速運動過程中硅片姿態(tài)一致及位置的準確。
文檔編號H01L21/677GK202855723SQ201220550568
公開日2013年4月3日 申請日期2012年10月24日 優(yōu)先權日2012年10月24日
發(fā)明者董維來, 孫紅喆, 劉海珊, 孫建忠 申請人:天津源天晟光伏設備有限公司
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