專(zhuān)利名稱(chēng)：一種帶超聲或兆聲振子的異丙醇干燥機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及用于拋光硅片清洗領(lǐng)域，尤其涉及一種帶超聲或兆聲振子的異丙醇干燥機(jī)。
背景技術(shù)：
拋光硅片是集成電路產(chǎn)業(yè)最重要的基礎(chǔ)材料，電路被加工在拋光硅片的表面。隨著集成電路的特征線寬越來(lái)越小，拋光硅片的拋光表面允許殘留的顆粒的數(shù)量和直徑越來(lái)越小。拋光硅片在拋光后一般經(jīng)過(guò)一次清洗和最終清洗等兩次清洗來(lái)使表面顆粒和 表面金屬指標(biāo)達(dá)到用戶(hù)的要求。拋光硅片的最終清洗一般要經(jīng)過(guò)經(jīng)過(guò)裝片、酸洗(HF)、快速高純水沖洗(QDR)、一號(hào)液清洗(SCl)、高純水溢流(0F)、二號(hào)液清洗(SC2)、快速高純水沖洗(QDR)、高純水溢流和浸泡(F/R)、甩干或異丙醇干燥、取片等步驟完成最終清洗過(guò)程。甩干是使拋光硅片在離心力的作用下去除表面吸附水而干燥的方法。異丙醇(異丙醇)干燥是使拋光硅片表面在異丙醇蒸汽和氮?dú)獾淖饔孟赂稍锏姆椒?。拋光硅片被拋光后，被置于清洗片架?nèi)進(jìn)行一次清洗和最終清洗，一般每個(gè)片架裝25片拋光娃片,現(xiàn)在常用的拋光娃片的尺寸一般為4、5、6、8、12英寸。為保護(hù)拋光表面不被相互擦傷，片架內(nèi)的拋光硅片相互之間被片架的隔離片隔離。在拋光硅片的異丙醇干燥過(guò)程中中，拋光硅單晶片正面和背面與片架的隔離片接觸處的狹縫內(nèi)會(huì)有水殘留。殘留的水被熱的氮?dú)夂彤惐蓟旌蠚怏w吹干后會(huì)在拋光硅片表面的邊沿留下水跡，水跡的位置會(huì)有高密度的表面顆粒存在，使拋光硅片達(dá)不到表面顆粒的指標(biāo)要求。水跡的存在會(huì)降低拋光硅片最終清洗的異丙醇干燥步驟的成品率，該步的成品率現(xiàn)在一般只能達(dá)到85-90%。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種帶超聲或兆聲振子的異丙醇干燥機(jī)。帶超聲或兆聲振子的異丙醇干燥機(jī)包括噴嘴、蓋子、溢流槽、支撐架、水槽、振子、進(jìn)氣管，方形水槽的上端邊沿為溢流槽，在水槽內(nèi)下部安裝有支撐架，超聲或兆聲振子粘接在水槽的底部下方，水槽的上端安裝有蓋子，蓋子的上方安裝有進(jìn)氣管，蓋子內(nèi)安裝有噴嘴，支撐架上設(shè)有清洗片架。所述的水槽的材料為石英玻璃。所述超聲振子的頻率為28kHz或40kHz，超聲振子的功率約為50 100W，兆聲振子的頻率大于I兆Hz，兆聲振子的功率約為50 100W，每個(gè)清洗片架下安裝2 6個(gè)振子。本實(shí)用新型能夠顯著降低拋光硅片經(jīng)熱氮?dú)夂彤惐蓟旌蠚怏w干燥后在表面邊沿留下水跡的機(jī)會(huì)，顯著提高拋光硅片異丙醇干燥步驟的成品率。

[0009]圖I是帶超聲或兆聲振子的異丙醇干燥機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是帶超聲或兆聲振子的異丙醇干燥機(jī)側(cè)視圖；圖中，拋光硅片I、清洗片架2、噴嘴3、蓋子4、溢流槽5、支撐架6、高純水7、水槽
8、振子9、進(jìn)氣管10
具體實(shí)施方式
如圖1、2所示，帶超聲或兆聲振子的拋光硅片異丙醇干燥機(jī)包括噴嘴3、蓋子4、溢流槽5、支撐架6、水槽8、振子9、進(jìn)氣管10，方形水槽8的上端邊沿為溢流槽5，在水槽8內(nèi)下部安裝有支撐架6，超聲或兆聲振子9粘接在水槽8的底部下方，水槽8的上端安裝有蓋子4，蓋子4的上方安裝有進(jìn)氣管10，蓋子4內(nèi)安裝有噴嘴3，支撐架6上設(shè)有清洗片架2。所述的水槽8的材料為石英玻璃。所述超聲振子的頻率為28kHz或40kHz，超聲振子的功率約為50 100W，兆聲振子的頻率大于I兆Hz，兆聲振子的功率約為50 100W，每個(gè)清洗片架2下安裝2 6個(gè)振子。本實(shí)用新型的工作過(guò)程如下先將拋光硅片I連同清洗片架2置于水槽8內(nèi)的支撐架6上，在水槽8內(nèi)注滿(mǎn)高純水7，使拋光硅片I及其清洗片架2被高純水7完全淹沒(méi)，多余高純水從溢流槽5溢流，通電開(kāi)啟超聲或兆聲振子9，從干燥機(jī)底部緩慢排水，使液面高度以設(shè)定速度緩慢降低。在液面降低的同時(shí)從上部的氮?dú)夂彤惐嫉膰娮?向拋光硅片I及其清洗片架2噴冷的氮?dú)夂彤惐蓟旌蠚怏w，當(dāng)液面與拋光硅片脫離接觸后，斷電關(guān)閉超聲或兆聲振子9，開(kāi)始從氮?dú)夂彤惐嫉膰娮?向拋光硅片I及其清洗片架2噴熱的氮?dú)夂彤惐蓟旌蠚怏w使硅片表面干燥，排凈干燥機(jī)內(nèi)的水，繼續(xù)從氮?dú)夂彤惐嫉膰娮?向拋光硅片I及其清洗片架2噴熱的氮?dú)夂彤惐蓟旌蠚怏w直至硅片表面和片架表面完全干燥，打開(kāi)蓋子4取出硅片，完成干燥步驟。在液面高度以設(shè)定速度降低的過(guò)程中，在從氮?dú)夂彤惐紘娮?向拋光硅片I及其清洗片架2噴出的冷氮?dú)夂彤惐蓟旌蠚怏w的吹掃及超聲或兆聲的微振動(dòng)的共同作用下，拋光硅片I的正面和背面與清洗片架2接觸處的狹縫內(nèi)殘留水的機(jī)會(huì)大大降低，拋光硅片I經(jīng)后續(xù)熱氮?dú)夂彤惐蓟旌蠚怏w干燥后表面邊沿留下水跡的機(jī)會(huì)顯著降低。實(shí)際得到的拋光硅片異丙醇干燥步驟的成品率可以達(dá)到95%以上。
權(quán)利要求1.一種帶超聲或兆聲振子的異丙醇干燥機(jī)，其特征在于包括噴嘴(3)、蓋子(4)、溢流槽(5)、支撐架￠)、水槽(8)、振子(9)、進(jìn)氣管(10)，方形水槽(8)的上端邊沿為溢流槽(5)，在水槽(8)內(nèi)下部安裝有支撐架￠)，超聲或兆聲振子(9)粘接在水槽(8)的底部下方，水槽(8)的上端安裝有蓋子(4)，蓋子(4)的上方安裝有進(jìn)氣管(10)，蓋子(4)內(nèi)安裝有噴嘴(3)，支撐架(6)上設(shè)有清洗片架(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種帶超聲或兆聲振子的異丙醇干燥機(jī)，其特征在于所述的水槽(8)的材料為石英玻璃。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種帶超聲或兆聲振子的異丙醇干燥機(jī)，其特征在于所述超聲振子的頻率為28kHz或40kHz，超聲振子的功率約為50 100W，兆聲振子的頻率大于I兆Hz，兆聲振子的功率約為50 100W，每個(gè)清洗片架(2)下安裝2 6個(gè)振子。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種帶超聲或兆聲振子的異丙醇干燥機(jī)。它包括噴嘴、蓋子、溢流槽、支撐架、水槽、振子、進(jìn)氣管，方形水槽的上端邊沿為溢流槽，在水槽內(nèi)下部安裝有支撐架，超聲或兆聲振子粘接在水槽的底部下方，水槽的上端安裝有蓋子，蓋子的上方安裝有進(jìn)氣管，蓋子內(nèi)安裝有噴嘴，支撐架上設(shè)有清洗片架。所述的水槽的材料為石英玻璃。所述超聲振子的頻率為28kHz或40kHz，超聲振子的功率約為50～100W，兆聲振子的頻率大于1兆Hz，兆聲振子的功率約為50～100W，每個(gè)清洗片架下安裝2～6個(gè)振子。本實(shí)用新型能夠顯著降低拋光硅片經(jīng)熱氮?dú)夂彤惐蓟旌蠚怏w干燥后在表面邊沿留下水跡的機(jī)會(huì)，顯著提高拋光硅片異丙醇干燥步驟的成品率。
文檔編號(hào)H01L21/02GK202662573SQ20112054301
公開(kāi)日2013年1月9日 申請(qǐng)日期2011年12月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月22日
發(fā)明者田達(dá)晰, 李剛, 徐國(guó)科, 張世波, 林曉華, 王昆鵬, 歷惠宏, 李自炳 申請(qǐng)人:浙江金瑞泓科技股份有限公司