專利名稱：晶體硅太陽(yáng)能電池的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種太陽(yáng)能電池，尤其涉及一種晶體硅(單晶硅或多晶硅)太陽(yáng) 能電池。
背景技術(shù)：
目前，通常的晶體硅太陽(yáng)能電池10，如圖1所示，其典型結(jié)構(gòu)包括正面柵狀金屬 電極12、減反射及鈍化層13、n+型重?fù)诫s層14、p型輕摻雜晶體硅襯底16、背面電極17，其 中，正面柵狀金屬電極12必須通過燒結(jié)工藝來穿透減反射及鈍化層13，并與n+型重?fù)诫s層 14形成歐姆接觸；n+型重?fù)诫s層14是在p型輕摻雜晶體硅襯底16的一個(gè)表面上通過擴(kuò)散、 離子注入或外延等方法形成的，并且，n+型重?fù)诫s層14和p型輕摻雜晶體硅襯底16構(gòu)成同 質(zhì)P_n結(jié)，并在其交界處形成p_n結(jié)耗盡區(qū)(cbpletion region) 15 ；減反射及鈍化層13由 一種或多種非晶或多晶絕緣薄膜構(gòu)成并起著減反射的作用；P型輕摻雜晶體硅襯底16與背 面電極17形成歐姆接觸。太陽(yáng)光線11經(jīng)過減反射及鈍化層13入射到該電池內(nèi)，被晶體硅 吸收后產(chǎn)生電子_空穴對(duì)，進(jìn)而產(chǎn)生光生電動(dòng)勢(shì)，由此，晶體硅太陽(yáng)能電池就可以完成將光 能轉(zhuǎn)換為電能的功能。上述電池是一 p型晶體硅太陽(yáng)能電池，也可以在n型晶體硅襯底上制作太陽(yáng)能電 池，其結(jié)構(gòu)與上述電池的結(jié)構(gòu)類似。圖1所示通常的晶體硅太陽(yáng)能電池，其理論上的最大的轉(zhuǎn)換效率約是29%左右， 但由于存在各種損耗，這個(gè)轉(zhuǎn)換效率是達(dá)不到的，這些損耗主要是光學(xué)損失和電學(xué)損失。其 中，光學(xué)損失主要包括由于電池表面對(duì)光的反射所引起的反射損失和由于金屬前電極的遮 擋造成電池吸收光的有效面積下降所引起的遮擋損失；電學(xué)損失主要包括由于載流子的復(fù) 合所造成的復(fù)合損失和由于引出電極(正面柵狀金屬電極12以及背面電極17)之間的等 效串聯(lián)電阻所引起的歐姆損失。在這些損失中，如何降低復(fù)合損失是提高晶體硅太陽(yáng)能電 池性能的主要難點(diǎn)之一。對(duì)于通常的晶體硅太陽(yáng)能電池10來說，目前面臨的技術(shù)難題是1、在通常的晶體硅太陽(yáng)能電池10中，正面柵狀金屬電極12必須與n+型重?fù)诫s層 14形成歐姆接觸，而這是通過700 900°C的高溫?zé)Y(jié)工藝來完成的。在半導(dǎo)體技術(shù)中，我 們已經(jīng)清楚，當(dāng)金屬燒結(jié)或合金溫度在400°C左右時(shí)就會(huì)對(duì)晶體硅中的少子壽命有影響，因 而700 900°C的高溫?zé)Y(jié)工藝勢(shì)必會(huì)大大降低晶體硅中的少子壽命，進(jìn)而大大增加復(fù)合 損失。對(duì)這一問題的通常解決辦法是采用光刻技術(shù)，但這會(huì)大大增加成本。2、在不增加電池的歐姆損失的前提下，降低電池的金屬前電極的遮擋損失與降低 電池的載流子的復(fù)合損失是有矛盾的。這個(gè)矛盾的另一種表述是，在不增加電池的金屬前 電極的遮擋損失的前提下，降低電池的歐姆損失與降低電池的載流子的復(fù)合損失是有矛盾 的。在通常的晶體硅太陽(yáng)能電池10中，n+型重?fù)诫s層14要完成3個(gè)功能a、吸收光 子以產(chǎn)生電子_空穴對(duì)；b、將載流子輸運(yùn)到正面柵狀金屬電極12中去的橫向?qū)щ姽δ?；c、 形成p-n結(jié)以分離電子-空穴對(duì)。若要降低遮擋損失，就要減少正面柵狀金屬電極12的電極條數(shù)，而這增加了電極之間的距離，要想保持歐姆損失不變，就必須降低n+型重?fù)诫s層14 的方塊電阻，進(jìn)而必須增加n+型重?fù)诫s層14的摻雜濃度，而這又會(huì)增加n+型重?fù)诫s層14 中的復(fù)合損失。上述矛盾，在公開號(hào)為CN1416179A的中國(guó)專利申請(qǐng)中已被提出，并給出了如圖2 所示的實(shí)用新型20來解決這一矛盾，該實(shí)用新型20包括金屬電極22、高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜 導(dǎo)電層23、高電阻透明導(dǎo)電膜阻擋層24、n型摻雜層25、p型晶體硅襯底27、背電極28，n 型摻雜層25和p型晶體硅襯底27在它們之間的交界處形成p-n結(jié)耗盡區(qū)26，該實(shí)用新型 20旨在通過采用高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層23和高電阻透明導(dǎo)電膜阻擋層24組合成的復(fù)合 膜——透明導(dǎo)電膜前電極來取代上述的柵狀金屬電極和減反射層，以達(dá)到增加入射光的通 過、降低表層電阻的目的。上述專利的技術(shù)方案確實(shí)在降低遮擋損失(增加了光的有效入射面積)、降低歐 姆損失(降低表層電阻)等方面具有積極的技術(shù)效果，然而，現(xiàn)通過研究發(fā)現(xiàn)，它會(huì)同時(shí)帶 來其他問題，即帶來大量的復(fù)合損失，從而使整個(gè)晶體硅太陽(yáng)能電池的損耗增加，原因如 下1、高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜的特性決定了它并不能簡(jiǎn)單、直接地在晶體硅太陽(yáng)能電池得 到應(yīng)用。高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜在太陽(yáng)能電池中的應(yīng)用被發(fā)現(xiàn)，最先是被應(yīng)用于非晶或多晶薄 膜太陽(yáng)能電池，由于高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層是高摻雜的簡(jiǎn)并半導(dǎo)體，因此由于高摻雜會(huì) 產(chǎn)生強(qiáng)烈的復(fù)合過程，并且它又是非晶或多晶薄膜，其中由于晶格的嚴(yán)重錯(cuò)位會(huì)形成大量 的載流子的復(fù)合中心，對(duì)于非晶或多晶薄膜太陽(yáng)能電池，由于其各個(gè)層次都是非晶或多晶 薄膜，其中由晶格錯(cuò)位所造成的復(fù)合中心隨處可見，因而透明導(dǎo)電膜中的由于同樣原因產(chǎn) 生的復(fù)合中心就變得無關(guān)緊要。而在晶體硅太陽(yáng)能電池中，由于晶體硅中各個(gè)層次的晶格 都比較完整，其中由此產(chǎn)生的復(fù)合損失是比較小的，如果在其中采用高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜，透 明導(dǎo)電膜中由晶格錯(cuò)位所造成的復(fù)合中心的復(fù)合作用就變得非常突出，將會(huì)造成非常大的 復(fù)合損失。2、高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層23是一個(gè)比n+型重?fù)诫s層14更“死”的“死層”，其 產(chǎn)生的復(fù)合損失比n+型重?fù)诫s層14要大得多，它既包含了由于高摻雜所產(chǎn)生的復(fù)合損失， 這一點(diǎn)與n+型重?fù)诫s層中的“死層”是一樣的，同時(shí)又包含了 n+型重?fù)诫s層14所沒有的， 由于晶格的嚴(yán)重錯(cuò)位所形成的大量的載流子的復(fù)合中心所造成的更大的復(fù)合損失，所有這 些會(huì)將連接著透明導(dǎo)電膜前電極的晶體硅摻雜層中所產(chǎn)生的幾乎所有的電子-空穴對(duì)復(fù) 合損失掉。下面的分析是假定高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層23是n型的，若該導(dǎo)電層是p型，或 者n型摻雜層25和p型晶體硅襯底27分別改成p型的和n型的，其分析方法基本相似。由前述可知，高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層23是一個(gè)會(huì)產(chǎn)生大量復(fù)合損失的透明導(dǎo) 電膜，如果有電子-空穴對(duì)或空穴從其它區(qū)域注入到該薄膜中，則會(huì)在該薄膜中非常迅速 地復(fù)合損失掉。而對(duì)于n+型重?fù)诫s層14，由于其晶格比較完整，并且通過良好的表面鈍化， 因而只有高摻雜和少量的復(fù)合中心所引起的復(fù)合損失，而這些比高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層 23所引起的復(fù)合損失就要少得多。因此，當(dāng)太陽(yáng)光線21照射到該實(shí)用新型20時(shí)，晶體硅就會(huì)產(chǎn)生電子_空穴對(duì)并形成光生電動(dòng)勢(shì)，按照上述專利(公開號(hào)為CN1416179A)中的說法，高電阻透明導(dǎo)電膜阻擋層 24對(duì)電子或空穴的運(yùn)動(dòng)幾乎不起阻礙作用，因而n型摻雜層25所產(chǎn)生的電子-空穴對(duì)中的 大部分電子會(huì)因晶體硅中形成的光生電動(dòng)勢(shì)做漂移(drift)運(yùn)動(dòng)而穿過高電阻透明導(dǎo)電 膜阻擋層24并注入到n型高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層23中去，另外，n型摻雜層25和p_n結(jié) 耗盡區(qū)26都因吸收光而產(chǎn)生電子_空穴對(duì)，其空穴濃度的變化是連續(xù)和緩慢的，而所形成 的光電動(dòng)勢(shì)的電壓比較小，一般小于0. 7V，其驅(qū)動(dòng)能力比較小，因而n型摻雜層25所產(chǎn)生的 空穴向P_n結(jié)耗盡區(qū)26所做的擴(kuò)散(diffusion)運(yùn)動(dòng)和漂移運(yùn)動(dòng)就要緩慢得多，而由于n 型高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層23不會(huì)因吸收光而產(chǎn)生電子-空穴對(duì)，其中原有的空穴濃度很 低，n型摻雜層25所產(chǎn)生的空穴的濃度與n型高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層23中的空穴濃度 就因此而存在巨大的濃度差，因而在n型摻雜層25中靠近透明導(dǎo)電膜前電極的區(qū)域所產(chǎn)生 的電子-空穴對(duì)中的空穴就會(huì)因這一巨大的濃度差所引起的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)而迅速穿過高電阻 透明導(dǎo)電膜阻擋層24并注入到n型高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層23中去，并與其中的電子迅 速?gòu)?fù)合掉，這樣就會(huì)使得n型高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層23中的空穴濃度依然是很低的，同 時(shí)使得在n型摻雜層25中靠近透明導(dǎo)電膜前電極的區(qū)域的空穴濃度迅速降低，而這又會(huì)使 得n型摻雜層25的內(nèi)部所產(chǎn)生的電子_空穴對(duì)中的空穴迅速擴(kuò)散到在n型摻雜層25中靠 近透明導(dǎo)電膜前電極的區(qū)域，這種連鎖反應(yīng)會(huì)使得n型摻雜層25中一個(gè)少子擴(kuò)散長(zhǎng)度的區(qū) 域所產(chǎn)生的電子-空穴對(duì)中的大部分空穴會(huì)因擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)而迅速穿過高電阻透明導(dǎo)電膜阻 擋層24并注入到n型高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層23中去，并與其中電子迅速?gòu)?fù)合掉，而上述 n型摻雜層25 —般是通過液態(tài)源擴(kuò)散的，其結(jié)深小于1 P m，其少子壽命約為十幾微妙，因而 其少子擴(kuò)散長(zhǎng)度至少是幾十微米，這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于其結(jié)深。因此，n型摻雜層25所產(chǎn)生的幾乎所 有電子_空穴對(duì)會(huì)分別因漂移運(yùn)動(dòng)和擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)而迅速穿過高電阻透明導(dǎo)電膜阻擋層24并 注入到n型高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層23中去，并在其中被非常迅速地復(fù)合掉。在上面的敘述中沒有提及由于晶體硅表面復(fù)合中心所造成的復(fù)合損失，是因?yàn)檫@ 種損失比上述的損失要小得多。另外晶體硅中的復(fù)合過程對(duì)上面的分析沒有影響。相對(duì)于1 y m的深結(jié)，500nm的結(jié)深應(yīng)該算是淺結(jié)。以結(jié)深為500nm的采用上述專 利技術(shù)的晶體硅太陽(yáng)能電池(以下簡(jiǎn)稱專利電池)為例，由于采用了高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜， 在柵線密度為最小(1.25條/cm)的情況，其遮擋損失較通常的晶體硅太陽(yáng)能電池降低約 3. 1%，即該專利電池會(huì)多吸收3. 的光子數(shù)，500nm的結(jié)深意味著該專利電池中的n型擴(kuò) 散層要吸收17. 4%的光子數(shù)，由于一個(gè)光子最多只能產(chǎn)生一對(duì)電子_空穴對(duì)，即光子數(shù)直 接對(duì)應(yīng)于電子-空穴對(duì)數(shù)，而該專利電池中由于透明導(dǎo)電膜前電極造成的復(fù)合損失會(huì)使得 這些被吸收的幾乎所有的光子變得毫無用處，因此，去掉因降低遮擋損失而多吸收的光子 數(shù)，500nm結(jié)深的專利電池會(huì)多出接近14. 8%的復(fù)合損失，如果結(jié)深再增大，其復(fù)合損失也 會(huì)更大，這樣高的復(fù)合損失反而會(huì)使該專利電池的轉(zhuǎn)換效率低于具有同樣結(jié)深的通常的晶 體硅太陽(yáng)能電池，這是因?yàn)?，?duì)于通常的晶體硅太陽(yáng)能電池10，通過改善其n+型重?fù)诫s層 14的摻雜結(jié)構(gòu)，例如，降低其摻雜濃度，使其約為5X1018/cm3，并使該層有足夠小的方塊電 阻以完成導(dǎo)電功能，甚至不惜增加結(jié)深來達(dá)到這一目的，同時(shí)采用合適的減反射及鈍化膜， 例如半絕緣的氮化硅膜，以最大限度的降低表面復(fù)合損失，則該通常的晶體硅太陽(yáng)能電池 中的n+型重?fù)诫s層所產(chǎn)生的電子_空穴對(duì)就會(huì)有大部分沒有被損失掉。綜上所述，如果僅僅將高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜直接應(yīng)用于晶體硅太陽(yáng)能電池中，并不
5能有效解決通常的晶體硅太陽(yáng)能電池中所存在的問題，在對(duì)P_n結(jié)的結(jié)構(gòu)沒有做具體說明 的情況下，有時(shí)反而會(huì)增大復(fù)合損失，從而降低電池的轉(zhuǎn)換效率。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于解決上述申請(qǐng)之缺陷，揭露晶體硅太陽(yáng)能電池的復(fù)合損失 的產(chǎn)生機(jī)理，以提供一種既能降低電池的歐姆損失，也能降低遮擋損失與復(fù)合損失的晶體 硅太陽(yáng)能電池。本實(shí)用新型之一采用的技術(shù)方案為，一種晶體硅太陽(yáng)能電池，其結(jié)構(gòu)依次為正面 柵狀金屬電極32、窗口層33、第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35、第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底 37、第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38、背面電極39，其中，一種選擇是，若第一導(dǎo)電類型為p型，則 第二導(dǎo)電類型為n型，另一種選擇是，若第一導(dǎo)電類型為n型，則第二導(dǎo)電類型為p型。所述的第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37是指摻有第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)的晶體 硅，且是輕度摻雜的，它有兩個(gè)基本是平的主表面。光線31經(jīng)過窗口層33入射到該電池內(nèi)， 被作為吸收層的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35、第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37、第一導(dǎo)電 類型重?fù)诫s層38所吸收并產(chǎn)生電子_空穴對(duì)，進(jìn)而產(chǎn)生光生電動(dòng)勢(shì)。本實(shí)用新型的技術(shù)方案的一個(gè)最主要的改進(jìn)是，所述的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層 (35)是通過燒結(jié)合金、擴(kuò)散、外延、離子注入或浸入式等離子體注入(Plasma Immersion Ion Implantation)等的方法在所述的第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底(37)的一個(gè)主表 面上形成的并摻入第二導(dǎo)電類型雜質(zhì)的晶體硅，并與所述的第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯 底(37) —起構(gòu)成同質(zhì)p-n結(jié)，并在它們之間的交界處形成p-n結(jié)耗盡區(qū)36，可以要求，其 摻雜濃度彡5X1018/cm3，優(yōu)選彡5X1019/cm3，其厚度彡400nm，優(yōu)選為10 300nm，更優(yōu)選 為10 200nm，當(dāng)然，在保證上述厚度的前提下，并確保不引進(jìn)過多缺陷和過多不需要的雜 質(zhì)的情況下，盡量提高第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35的摻雜濃度將會(huì)獲得更佳的實(shí)施效果，特 別是當(dāng)所述第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35的導(dǎo)電類型與所述窗口層33的導(dǎo)電類型不一樣的時(shí) 候，尤為如此。在下面的實(shí)施例中未給出結(jié)深為200nm的例子，但是，厚度為lOOnm的第二導(dǎo)電類 型重?fù)诫s層35約吸收7%左右的光子能量，厚度為200nm的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35約吸 收12%左右的光子能量，即，后者的電池的轉(zhuǎn)換效率與前者相比最多降低5%左右的比例， 因此，具有厚度為200nm的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35的本實(shí)用新型的電池也是可行的。本實(shí)用新型之一通過制作厚度足夠“薄”(厚度< 400nm)和摻雜濃度足夠“濃”(摻 雜濃度彡5X1018/cm3)的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35以后，具有如下優(yōu)點(diǎn)1、所述的摻雜濃度足夠“濃”的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35會(huì)在p-n結(jié)的冶金結(jié) (metallurgical junction)及其附近(p_n結(jié)耗盡區(qū)35)形成一個(gè)足夠強(qiáng)的電場(chǎng)，它會(huì)最 大程度地阻止P-n結(jié)耗盡區(qū)36和第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37所產(chǎn)生的電子(對(duì)于 n型襯底)或空穴(對(duì)于p型襯底)進(jìn)入到所述窗口層33內(nèi)而被復(fù)合掉。換句話說，由于 在p-n結(jié)耗盡區(qū)35內(nèi)形成一個(gè)足夠強(qiáng)的電場(chǎng)，所述窗口層33只能將所述第二導(dǎo)電類型重 摻雜層35所產(chǎn)生的電子-空穴對(duì)復(fù)合損失掉，而對(duì)p-n結(jié)耗盡區(qū)36、第一導(dǎo)電類型輕摻雜 晶體硅襯底37和第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38所產(chǎn)生的電子-空穴對(duì)的復(fù)合損失被降低到很 小的程度。[0026]現(xiàn)在考慮一用p型晶體硅襯底制作的本實(shí)用新型之一的電池，對(duì)于用n型晶體硅 襯底制作的本實(shí)用新型之一的電池可以做同樣分析。當(dāng)太陽(yáng)光線31經(jīng)過窗口層33入射到 電池內(nèi)，通過與背景技術(shù)中類似的分析可知，所述第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35中因吸收光所 產(chǎn)生的幾乎所有電子_空穴對(duì)會(huì)注入到所述窗口層33而被復(fù)合損失掉；而對(duì)于p-n結(jié)耗盡 區(qū)36中因吸收光所產(chǎn)生的電子-空穴對(duì)，其中的電子會(huì)因p-n結(jié)耗盡區(qū)36的內(nèi)建電勢(shì)做指 向窗口層33的漂移運(yùn)動(dòng)，而其中的空穴除了會(huì)因p-n結(jié)耗盡區(qū)36與第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s 層35之間存在的空穴濃度差做指向窗口層33的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)以外，同時(shí)還會(huì)因p-n結(jié)耗盡區(qū) 36的內(nèi)建電勢(shì)做遠(yuǎn)離窗口層33的漂移運(yùn)動(dòng)，因而其中的空穴是否會(huì)進(jìn)入第二導(dǎo)電類型重 摻雜層35就有賴于p-n結(jié)耗盡區(qū)36的內(nèi)建電場(chǎng)的大小及分布，若該電場(chǎng)較強(qiáng)，則其中的空 穴就會(huì)因較強(qiáng)的漂移運(yùn)動(dòng)而注入到第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37，若該電場(chǎng)較弱，則 其中的空穴就會(huì)因較強(qiáng)的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)而注入到第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35，進(jìn)而被窗口層33 復(fù)合損失掉；而對(duì)于第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37因吸收光所產(chǎn)生的電子_空穴對(duì)， 其中的電子會(huì)因P-n結(jié)耗盡區(qū)36中靠近第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37的區(qū)域的電子 濃度的下降而做擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)以及因光生電動(dòng)勢(shì)而做漂移運(yùn)動(dòng)并注入到P-n結(jié)耗盡區(qū)36，而其 中的空穴則要看P-n結(jié)耗盡區(qū)36中靠近第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37的區(qū)域的空穴 濃度是否下降而是否注入到P-n結(jié)耗盡區(qū)36，因而也有賴于p-n結(jié)耗盡區(qū)36的內(nèi)建電場(chǎng)的 大小及分布。當(dāng)?shù)诙?dǎo)電類型重?fù)诫s層35摻雜濃度足夠“濃”時(shí)，就會(huì)形成單邊突變結(jié) (one-side abrupt junction)，p_n結(jié)耗盡區(qū)35內(nèi)就會(huì)形成一個(gè)足夠強(qiáng)的電場(chǎng)，該“足夠強(qiáng) 的電場(chǎng)”就象一面“墻” 一樣，它會(huì)最大程度地阻止P-n結(jié)耗盡區(qū)36、第一導(dǎo)電類型輕摻雜 晶體硅襯底37和第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38所產(chǎn)生的空穴注入到第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35 中去，進(jìn)而這些被阻止的空穴也就不能被窗口層33的復(fù)合中心復(fù)合掉。2、所述第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35的厚度足夠“薄”，使得第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層 35因吸收光而產(chǎn)生的載流子的數(shù)量很少，進(jìn)而由窗口層33和第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35造 成的復(fù)合損失被降到很低。由于第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35的厚度足夠薄，這樣第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35所 吸收的太陽(yáng)光的光子數(shù)達(dá)到可以忽略的程度，粗略的計(jì)算表明，lOnm厚的第二導(dǎo)電類型重 摻雜層35只能吸收大約0. 6%的太陽(yáng)光子數(shù)，30nm厚的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35只能吸 收大約1.7%的太陽(yáng)光子數(shù)，這樣少的吸收比例還不足電池對(duì)光的反射損失(約為2%)，而 lOOnm厚的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35只能吸收大約5 %的太陽(yáng)光子數(shù)，與本實(shí)用新型之一 中通過將金屬電極的間距做到8mm以后所降低的遮擋損失(約為3.2%)相當(dāng)，進(jìn)而大部分 的光子都被P-n結(jié)耗盡區(qū)36和第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37吸收，因此，即使第二導(dǎo) 電類型重?fù)诫s層35吸收的光子所產(chǎn)生的電子_空穴對(duì)，由于濃度差全部被注入到窗口層33 內(nèi)，并被其復(fù)合中心損失掉，其造成的復(fù)合損失對(duì)于電池的整體損耗而言也是微不足道的。由上不難看出，在本實(shí)用新型之一中，所述的摻雜濃度足夠“濃”的第二導(dǎo)電類型 重?fù)诫s層35會(huì)形成單邊突變結(jié)，它會(huì)在p-n結(jié)耗盡區(qū)36中形成一個(gè)足夠強(qiáng)的電場(chǎng)以盡可 能地阻止P-n結(jié)耗盡區(qū)36、所述第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37和第一導(dǎo)電類型重?fù)?雜層38所產(chǎn)生的電子(對(duì)于n型襯底)或空穴(對(duì)于p型襯底)注入到所述第二導(dǎo)電類 型重?fù)诫s層35中去，使得在本實(shí)用新型之一的電池中只有第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35所產(chǎn)
7生的電子_空穴對(duì)能夠被窗口層33和第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35復(fù)合損失掉，所述厚度足 夠“薄”的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35又使得該層所吸收的光子數(shù)達(dá)到可以忽略的程度，這 樣，使得在本實(shí)用新型之一的電池中只有位于上述的“墻”的一面——第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s 層35因吸收少量太陽(yáng)光所產(chǎn)生的電子_空穴對(duì)會(huì)進(jìn)入到窗口層33被復(fù)合損失掉，而位于 “墻”的另一面一p-n結(jié)耗盡區(qū)36(大部分)、第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37和第一導(dǎo) 電類型重?fù)诫s層38所吸收的大量光子則不會(huì)被窗口層33復(fù)合損失掉，從而使復(fù)合損失大 大降低，這就可以使通常的晶體硅太陽(yáng)能電池的性能得到明顯的改善。作為本實(shí)用新型之一的進(jìn)一步改進(jìn)在本實(shí)用新型之一中，所述的窗口層33沒有采用上述的專利(CN1416179A)中所 使用的名稱“高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層”，是因?yàn)?，本?shí)用新型之一認(rèn)為，凡是具備所述的窗 口層33所具有的特征的化合物半導(dǎo)體非晶或多晶薄膜就可以作為所述的窗口層33來使 用，就能夠發(fā)揮上述的專利(CN1416179A)中所提到的那幾種高電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層所 能發(fā)揮的作用，即一是導(dǎo)電的，這使得通常晶體硅太陽(yáng)能電池的n+型重?fù)诫s層14所必須 具備的橫向?qū)щ姽δ?，在本?shí)用新型之一中則是不必要的，該功能可由窗口層33來完成； 二是對(duì)太陽(yáng)光幾乎是透明的，這使得無論是“厚”還是“薄”的窗口層33都對(duì)可見太陽(yáng)光幾 乎沒有損失，進(jìn)而可以兼顧電池的歐姆損失和遮擋損失的降低，而所述的第二導(dǎo)電類型重 摻雜層35只需完成“形成p-n結(jié)”這一個(gè)功能就可以了，因此，所有這些就足以確保本實(shí)用 新型之一能夠采用上述的P-n結(jié)的結(jié)構(gòu)，而上述的專利(CN1416179A)中所提到的那幾種高 電導(dǎo)透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電層也是一些化合物半導(dǎo)體非晶或多晶薄膜。綜上所述，這些所述的窗 口層33所具有的特征是所述的窗口層33主要是由一種或多種化合物半導(dǎo)體的非晶或多 晶薄膜構(gòu)成，或者主要是由多層一種或多種化合物半導(dǎo)體的非晶或多晶薄膜復(fù)合而成，可 以要求，其對(duì)AMI. 5條件下的太陽(yáng)光譜中波長(zhǎng)在0. 39 1. 1 y m范圍內(nèi)的太陽(yáng)光的平均透 過率彡70%，優(yōu)選彡85%，所述的晶體硅太陽(yáng)能電池的每平方厘米上的串聯(lián)電阻< 4Q，優(yōu) 選< 3 Q，更優(yōu)選< 2 Q，通過這一參數(shù)來反映對(duì)窗口層33的導(dǎo)電能力的要求，當(dāng)然，在可能 的情況下，上述的串聯(lián)電阻是越小越好，平均透過率是越大越好。前述已經(jīng)表明所述的窗口層33必須起著載流子的輸運(yùn)功能，而這就必然會(huì)對(duì)所 述的晶體硅太陽(yáng)能電池的串聯(lián)電阻產(chǎn)生影響，本實(shí)用新型只是將通常的晶體硅太陽(yáng)能電池 中的各個(gè)層次所起的各種必要功能進(jìn)行了重新分配，并未改變電池的串聯(lián)電阻——這一綜 合參數(shù)必須滿足的要求，這一綜合參數(shù)的要求是任何晶體硅太陽(yáng)能電池都必須滿足的，而 且只要所述的窗口層33的導(dǎo)電能力能夠滿足電池的串聯(lián)電阻的要求，就不會(huì)引起過大的 歐姆損失，而對(duì)電池的其它因素沒有任何影響，因此讓所述的晶體硅太陽(yáng)能電池的串聯(lián)電 阻的要求來間接反映對(duì)窗口層33的導(dǎo)電能力的要求是可行的。所述的晶體硅太陽(yáng)能電池 的每平方厘米上的串聯(lián)電阻指的是所述的晶體硅太陽(yáng)能電池的串聯(lián)電阻與該電池的面積 的乘積，任何太陽(yáng)能電池都可以看作是許多小塊電池的并聯(lián)，因而該整塊電池的串聯(lián)電阻 即為這些小塊電池的串聯(lián)電阻的并聯(lián)，因此，所述的晶體硅太陽(yáng)能電池的串聯(lián)電阻與該電 池的面積的乘積即是面積為1平方厘米的與該電池具有同樣結(jié)構(gòu)的太陽(yáng)能電池的串聯(lián)電 阻。一般情況下，通常的晶體硅太陽(yáng)能電池10的每平方厘米上的串聯(lián)電阻約為1.5Q，其 變化很小，粗略的計(jì)算機(jī)模擬計(jì)算表明，當(dāng)這個(gè)阻值為2Q時(shí)，電池的轉(zhuǎn)換效率降低的比例 約為4%，當(dāng)這個(gè)阻值為3Q時(shí)，電池的轉(zhuǎn)換效率降低的比例約為9%左右，當(dāng)這個(gè)阻值為4Q時(shí)，電池的轉(zhuǎn)換效率降低的比例約為15%左右，因此，可以將這些數(shù)據(jù)作為本實(shí)用新型 的要求，即，所述的晶體硅太陽(yáng)能電池的每平方厘米上的串聯(lián)電阻彡4Q，優(yōu)選彡3Q，更優(yōu) 選彡2Q。對(duì)透過率的要求則因?yàn)樵谠O(shè)計(jì)晶體硅太陽(yáng)能電池時(shí)，只需考慮波長(zhǎng)在0.39 1. lym范圍內(nèi)的太陽(yáng)光，即要求晶體硅太陽(yáng)能電池中晶體硅上的薄膜對(duì)該范圍的太陽(yáng) 光幾乎是透明的，上面的敘述還要求該薄膜是導(dǎo)電的，即要求該薄膜至少是透明導(dǎo)電膜 (TransparentConducting Oxide, TCO)，而目前一般要求透明導(dǎo)電膜對(duì)波長(zhǎng)在0. 39 1. 1 y m范圍內(nèi)的太陽(yáng)光的平均透過率彡75 %，優(yōu)選彡85 %，因此，本實(shí)用新型之一也將此 作為對(duì)所述的窗口層33的要求。實(shí)際上平均透過率> 70%也是可以的，因?yàn)?，在制作晶體 硅太陽(yáng)能電池的時(shí)候，一般都要將晶體硅的表面進(jìn)行織構(gòu)化處理，即將晶體硅的表面做成 倒金字塔結(jié)構(gòu)，因而，光線在被電池反射以前都至少要被吸收兩次，這樣，電池的反射損失 就小于9%，實(shí)驗(yàn)表明，本實(shí)用新型之一的電池轉(zhuǎn)換效率比通常晶體硅太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效 率至少高出10%以上，因此本實(shí)用新型之一采用平均透過率彡70%的窗口層33是可行的。為了確保所述的窗口層33的平均透過率> 70%，所述的窗口層33還必須有減反 射功能，因此，在確定了何種材料作為所述的窗口層33來使用時(shí)，也即確定了其中的各種 薄膜的折射率，此時(shí)還必須使該薄膜的厚度滿足減反射條件。當(dāng)然，組成所述的窗口層33的化臺(tái)物半導(dǎo)體的非晶或多晶薄膜，可以為滿 足上述特征的金屬氧化物和金屬硫化物半導(dǎo)體非晶或多晶薄膜，如Sn02:F、ZnO:Al、 In203:Sn(IT0)、Zn2Sn04、Sn02:Ga、ZnS:Al、Sn02、ZnO、ZnS 等非晶或多晶薄膜，這些膜的平均 透過率> 85%，當(dāng)把這些膜組成復(fù)合膜時(shí)，這些復(fù)合膜的方塊電阻可以做到< 150Q/ 口。 在一般情況下，用上述薄膜制成的電池的每平方厘米上的串聯(lián)電阻<2Q，上述的金屬氧化 物半導(dǎo)體非晶或多晶薄膜即含有通常所說的透明導(dǎo)電膜。上述表明，在本實(shí)用新型之一的技術(shù)方案中，所述的厚度足夠“薄”和摻雜濃度足 夠“濃”的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35能夠降低所述的“透明”且“導(dǎo)電”的窗口層33帶來的 復(fù)合損失，而所述的“透明”且“導(dǎo)電”的窗口層33又會(huì)降低所述的厚度足夠“薄”和摻雜 濃度足夠“濃”的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35帶來的歐姆損失，并同時(shí)降低所述正面柵狀金 屬電極32帶來的遮擋損失，因而，所述的厚度足夠“薄”和摻雜濃度足夠“濃”的第二導(dǎo)電 類型重?fù)诫s層35和所述的“透明”且“導(dǎo)電”的窗口層33互為前提，互為結(jié)果，彼此相互支 持，缺一不可，但它們都是通常的晶體硅太陽(yáng)能電池的性能得以明顯改善的必要前提，都是 本實(shí)用新型之一的必要前提。而在上述的專利(公開號(hào)為CN1416179A)中，淺結(jié)是采用透 明導(dǎo)電膜前電極以后的結(jié)果之一，因而對(duì)P_n結(jié)的結(jié)構(gòu)不需要做任何說明。所述正面柵狀金屬電極32與所述的窗口層33相連接并形成歐姆接觸，并與通常 的晶體硅太陽(yáng)能電池的正面柵狀金屬電極12有著類似的形狀，可以采用同樣的材料，也可 以采用其它的材料(見下面的敘述)，但是，由于采用了所述的窗口層33，其電阻率可以做 得比較低，所述的正面柵狀金屬電極32的間距就可以更大些，例如，通常的晶體硅太陽(yáng)能 電池的正面柵狀金屬電極的金屬柵線的間距一般選為2 3mm，而本實(shí)用新型之一所述的 正面柵狀金屬電極32的間距則可以選為2 8mm之間，或更大一些，這樣，正面柵狀金屬電 極32的金屬柵線的數(shù)量就減少了，進(jìn)而晶體硅太陽(yáng)能電池的遮擋損失就降低了。所述背面電極39與所述第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38相連接并形成歐姆接觸。[0040]在本實(shí)用新型之一的技術(shù)方案中，由于采用了窗口層33，使得正面柵狀金屬電極 32沒有必要與第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35直接形成歐姆接觸，只要與窗口層33形成歐姆接 觸就可以了，進(jìn)而，若正面柵狀金屬電極32采用與通常的晶體硅太陽(yáng)能電池相同的材料來 制作，同時(shí)，窗口層33選擇的合適，例如高純IT0，燒結(jié)工藝就可以在500°C左右的溫度下完 成，因?yàn)椋藭r(shí)高純IT0薄膜具有阻止或部分阻止雜質(zhì)對(duì)晶體硅的沾污和在晶體硅中引入 缺陷的能力。甚至，若正面柵狀金屬電極32和背面電極39都選擇合適的導(dǎo)電漿料，例如含 有合成樹脂的金屬導(dǎo)電漿料，這種漿料在通常的晶體硅太陽(yáng)能電池中是不能使用的，就可 以在150°C或以下的溫度進(jìn)行燒結(jié)或固化工藝，若窗口層33選擇的合適，例如高純IT0，甚 至可以對(duì)這種漿料在300°C或以下的溫度進(jìn)行燒結(jié)或固化工藝，以確保正面柵狀金屬電極 32與窗口層33以及第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38與背面電極39形成歐姆接觸。如此低的溫 度處理對(duì)晶體硅中的少子壽命幾乎沒有影響。所有這些就解決了在背景技術(shù)中提出的在通 常的晶體硅太陽(yáng)能電池中存在的第一個(gè)問題。也正由于此，使得即使本實(shí)用新型之一中第 二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35的厚度增加到400nm甚至更厚，本實(shí)用新型之一的電池性能與通常 的晶體硅太陽(yáng)能電池的性能相比也會(huì)相差不大，這是因?yàn)椋m然本實(shí)用新型之一中的第二 導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35的光電轉(zhuǎn)換性能很低，但p-n結(jié)耗盡區(qū)36、第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體 硅襯底37和第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38的少子壽命卻遠(yuǎn)高于通常的晶體硅太陽(yáng)能電池的相 同或類似區(qū)域的少子壽命，進(jìn)而，P-n結(jié)耗盡區(qū)36、第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37和第 一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38的光電轉(zhuǎn)換性能會(huì)遠(yuǎn)高于通常的晶體硅太陽(yáng)能電池的相同或類似 區(qū)域的性能。所述的第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38主要是由一種或多種摻有第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)的 半導(dǎo)體組成，或者主要是由多層一種或多種摻有第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)的半導(dǎo)體復(fù)合而成，它 可以是通過燒結(jié)合金、擴(kuò)散、外延、離子注入或浸入式等離子體注入等的方法在所述的第一 導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37的另一個(gè)主表面上摻入第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)而形成的，也可 以是通過物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)或涂膜等方法形成于第一導(dǎo)電類型輕 摻雜晶體硅襯底37的另一個(gè)主表面之上的摻有第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)的非晶或多晶半導(dǎo)體， 當(dāng)然，還可以通過其它的方法予以制作，所述的第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38的摻雜濃度以輕 度重?fù)诫s為宜，例如，可以是彡5X1018/cm3，引進(jìn)這一層的主要目的是為了讓正面柵狀金屬 電極32與窗口層33以及第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38與背面電極39形成歐姆接觸能在低溫 (例如150°C )下進(jìn)行更為方便，以及在某些情況下形成背面場(chǎng)?；诒緦?shí)用新型之一的技術(shù)方案的一些其他變化，如可以將第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s 層38刪除掉，讓第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37和背面電極39直接連接并形成歐姆接 觸，這樣做以后，上述的本實(shí)用新型的特征幾乎不會(huì)受到影響；或者，若所述的第一導(dǎo)電類 型重?fù)诫s層38是通過物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)或涂膜等方法形成于第一 導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37的另一個(gè)主表面之上的摻有第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)的非晶或多 晶半導(dǎo)體，則還可以在所述的第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37和所述的第一導(dǎo)電類型 重?fù)诫s層38之間插入一層氧化硅薄膜或摻氫的非晶硅薄膜或摻氮的非晶硅薄膜或摻氫摻 氮的非晶硅薄膜以起著鈍化表面以及阻止雜質(zhì)和缺陷從背面進(jìn)入晶體硅中去的作用。在本實(shí)用新型之一的技術(shù)方案中，由于窗口層33是與第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35 直接連接，就要求在制作窗口層33的時(shí)候應(yīng)盡量避免額外的不需要的雜質(zhì)的沾污，即盡量避免額外的不需要的雜質(zhì)進(jìn)入P_n結(jié)耗盡區(qū)36，或者進(jìn)入到p-n結(jié)耗盡區(qū)36、第一導(dǎo)電類 型輕摻雜晶體硅襯底37和第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38中去的雜質(zhì)及其數(shù)量不至于降低電池 的轉(zhuǎn)換效率，或降低的少，這就要求制作窗口層33的環(huán)境是高級(jí)別的超凈環(huán)境，所采用的 原材料是高純度的，至少是99. 999%或以上的純度，這與電池的制作過程密切相關(guān)，當(dāng)然， 若超凈環(huán)境的級(jí)別越高，原材料的純度越高，則所制作出來的電池的轉(zhuǎn)換效率就越高，另 外，若窗口層33中的某些組成元素對(duì)晶體硅中的少子壽命有明顯的影響，則同時(shí)還要求這 些元素在晶體硅中有比較慢的熱擴(kuò)散速度，使這些元素在窗口層33的制作過程中不至于 擴(kuò)散到P-n結(jié)耗盡區(qū)36中去，或者擴(kuò)散到p-n結(jié)耗盡區(qū)36、第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯 底37和第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38中去的元素及其數(shù)量不至于降低電池的轉(zhuǎn)換效率，或降 低的少。正由于這些，本實(shí)用新型之一的技術(shù)方案的電池會(huì)有較高的光電轉(zhuǎn)換性能，但這些 也是對(duì)本實(shí)用新型之一的技術(shù)方案的比較高的限制，這無疑增加了制作成本。通常市售的制作窗口層33的材料的純度都是比較低的，例如IT0，其純度一般為 99. 99%，其中鐵元素(Fe)的含量接近lOppm，濃度接近lC^/cm3，若在150°C的條件下處理 30分鐘，鐵在硅中擴(kuò)散的深度可達(dá)lym，因此，若采用這樣的材料來制作本實(shí)用新型之一 的技術(shù)方案的電池，其轉(zhuǎn)換效率就會(huì)非常低，因?yàn)槿翳F在晶體硅中的含量達(dá)到1015/cm3，就 會(huì)對(duì)電池的性能產(chǎn)生壞的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果也證明了上面的描述。為解決上述問題，特提出本實(shí)用新型之二的技術(shù)方案，如圖4所示，即在本實(shí)用新 型之一的基礎(chǔ)上，在所述的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35和窗口層33之間插入一層雜質(zhì)缺陷 阻擋層34，以便改進(jìn)上述的本實(shí)用新型之一的不足之處。下面所述的“雜質(zhì)”是指能夠降低晶體硅中少子壽命并能降低采用本實(shí)用新型的 技術(shù)方案制作的太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率的那些雜質(zhì)。首先，雜質(zhì)缺陷阻擋層34主要是由一種或多種物質(zhì)的薄膜組成，或者，主要是由 多層一種或多種物質(zhì)的薄膜復(fù)合而成。其次可以要求雜質(zhì)缺陷阻擋層34和窗口層43作為一個(gè)整體幾乎是“透明的”， 即對(duì)AMI. 5條件下的太陽(yáng)光譜中波長(zhǎng)在0. 39 1. 1 y m范圍內(nèi)的太陽(yáng)光的平均透過率 彡70%，優(yōu)選彡85%，且是導(dǎo)電的，即所述的晶體硅太陽(yáng)能電池的每平方厘米上的串聯(lián)電 阻< 4 Q，優(yōu)選< 3 Q，更優(yōu)選< 2 Q。對(duì)于選取這些參數(shù)的描述與本實(shí)用新型之一的技術(shù)方 案幾乎完全一樣。再次可以要求，雜質(zhì)缺陷阻擋層34應(yīng)能在電池的制作過程中阻止或部分阻止雜 質(zhì)對(duì)晶體硅的沾污以及在晶體硅中引入缺陷，之所以有這樣的要求，是因?yàn)?，晶體硅中的雜 質(zhì)和缺陷一般是由電池的制作過程引入的。制作雜質(zhì)缺陷阻擋層34和窗口層33的方法 一般有高溫氧化擴(kuò)散、物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)、溶膠凝膠、涂膜等方法， 制作正面柵狀金屬電極32和背面電極39的方法一般有物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉 積(CVD)、涂膜、絲網(wǎng)印刷及燒結(jié)等方法，而這些就包含由熱效應(yīng)引起的雜質(zhì)擴(kuò)散和由此引 起的缺陷、由膜和晶體硅之間的應(yīng)力差別所造成的應(yīng)力損傷帶來的缺陷以及由電磁效應(yīng)引 起的雜質(zhì)離子注入和等離子體損傷，因此，上述要求包含兩層意思一層是，在制作雜質(zhì)缺 陷阻擋層34的時(shí)候，工藝過程本身應(yīng)能阻止雜質(zhì)對(duì)晶體硅的沾污以及在晶體硅中引入缺 陷，或者，所能沾污的雜質(zhì)在晶體硅中的擴(kuò)散速度應(yīng)足夠低或者其數(shù)量應(yīng)足夠少，以及在晶 體硅中所能引入的缺陷的數(shù)量應(yīng)足夠少，使得在電池制作過程完成以后，進(jìn)入到晶體硅中
11去的雜質(zhì)及其數(shù)量以及缺陷的數(shù)量不至于降低電池的轉(zhuǎn)換效率，或降低的少；另一層是，在 此后面的電池制作過程中，所能沾污的雜質(zhì)和引入的缺陷在雜質(zhì)缺陷阻擋層34中的擴(kuò)散 速度應(yīng)足夠低，使得在電池制作過程完成以后，雜質(zhì)和缺陷不能穿過雜質(zhì)缺陷阻擋層34，或 者穿過以后，進(jìn)入到晶體硅中去的雜質(zhì)及其數(shù)量以及缺陷的數(shù)量不至于降低電池的轉(zhuǎn)換效 率，或降低的少。從上面的描述可以看出，導(dǎo)致晶體硅太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)換效率下降的雜質(zhì)的沾污和缺 陷的引入是和制作該電池的工藝過程密切相關(guān)的，而控制這些工藝過程的方法一般是控制 與這些工藝過程密切相關(guān)的各種宏觀條件，但雜質(zhì)的沾污和缺陷的引入?yún)s是一些微觀活 動(dòng)，其隨機(jī)性非常大，因此要想絕對(duì)避免雜質(zhì)的沾污和缺陷的引入幾乎是不可能的，或者需 要花費(fèi)非常大的代價(jià)；另外，導(dǎo)致晶體硅太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)換效率下降的雜質(zhì)和缺陷是與其種 類和數(shù)量密切相關(guān)的，現(xiàn)在已經(jīng)清楚，對(duì)于晶體硅太陽(yáng)能電池而言，當(dāng)鉭、鉬、鈮、鋯、鎢、鈦、 釩等元素的濃度超過1013/Cm3時(shí)即對(duì)電池的轉(zhuǎn)換效率產(chǎn)生影響，當(dāng)鎳、鋁、鈷、鐵、錳、鉻等元 素的濃度超過1015/cm3時(shí)也會(huì)對(duì)電池的轉(zhuǎn)換效率產(chǎn)生影響；第三，電池的光電轉(zhuǎn)換性能是 對(duì)各種有影響的因素的一個(gè)綜合反映，而這些因素彼此之間往往又是相互矛盾的，例如，若 所選擇的雜質(zhì)缺陷阻擋層34對(duì)雜質(zhì)的沾污有非常強(qiáng)的阻擋能力，就意味著這種雜質(zhì)缺陷 阻擋層34是非常致密的，因而其應(yīng)力與晶體硅的應(yīng)力的差別往往就非常大，進(jìn)而會(huì)帶來非 常多的由應(yīng)力損傷所造成的缺陷。綜上所述，選擇雜質(zhì)缺陷阻擋層34的原則是所選擇的 雜質(zhì)缺陷阻擋層34在電池的制作過程中應(yīng)能盡量阻止雜質(zhì)對(duì)晶體硅的沾污以及在晶體硅 中引入缺陷，并且這種盡量的阻止能力應(yīng)與工藝過程以及雜質(zhì)和缺陷在晶體硅和雜質(zhì)缺陷 阻擋層34中的行為相匹配，以盡量提高電池的光電轉(zhuǎn)換性能或使電池的光電轉(zhuǎn)換性能達(dá) 到最大化。所有上述以及本實(shí)用新型允許在很低的溫度(例如150°C的溫度)下進(jìn)行金屬電 極的燒結(jié)或固化工藝，使得對(duì)組成雜質(zhì)缺陷阻擋層34的物質(zhì)的選擇有一個(gè)比較寬的范圍對(duì)于導(dǎo)體膜，例如鈦鎢合金(TiW)等薄膜，它們?cè)诎雽?dǎo)體技術(shù)中被用作金屬阻擋 層，當(dāng)其厚度減小到5 lOnm的時(shí)候，或者再厚一些，就對(duì)太陽(yáng)光幾乎是“透明的”，因此它 們可以用作組成雜質(zhì)缺陷阻擋層34的物質(zhì)。對(duì)于半導(dǎo)體膜，可選的膜就比較多了。化合物半導(dǎo)體薄膜，特別是所有不含有害雜 質(zhì)或所含有害雜質(zhì)數(shù)量較少的透明導(dǎo)電膜或電阻膜，例如Sn02:F、Zn0:Al、In203:Sn(IT0)、 Sn02 Ga、Zn2Sn04、ZnS: A1、Sn02、ZnO、ZnS、GaN、A1N、TiN 等都可以用作組成雜質(zhì)缺陷阻擋層 34的物質(zhì)。對(duì)于絕緣或半絕緣膜，可選的膜也比較多。在半導(dǎo)體技術(shù)中用作表面鈍化的薄膜， 例如Ti02、A1203、氮化鍺、氧化硅、硼硅玻璃、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、摻氫非晶硅、摻氮非晶 硅、摻氫摻氮非晶硅、氮化硅等，當(dāng)這些薄膜的厚度減小到5 lOnm的時(shí)候，或者再厚一些， 由于存在量子隧穿現(xiàn)象(quantum tunneling phenomenon)，它們對(duì)載流子的阻礙作用就非 常小了，因此，它們都可以用作組成雜質(zhì)缺陷阻擋層34的物質(zhì)。若按上述方法選擇雜質(zhì)缺陷阻擋層34，則對(duì)窗口層33中的雜質(zhì)含量就可以不作 要求。雖然本實(shí)用新型之二增加了制作雜質(zhì)缺陷阻擋層34的步驟，但這相對(duì)于低電阻的高 純度的窗口層33的制作卻要容易得多，而窗口層33也要比窗口層33容易制作一些，因此， 通過合理選擇雜質(zhì)缺陷阻擋層34，本實(shí)用新型之二的制作成本反而比本實(shí)用新型之一的制
12作成本要低些。另外，對(duì)于合適的雜質(zhì)缺陷阻擋層34，例如，氮化硅膜，由于其有很強(qiáng)的阻擋 作用，本實(shí)用新型之二的金屬電極燒結(jié)工藝可以在600°C或甚至更高的溫度下進(jìn)行?；诒緦?shí)用新型之二的一些其他變化，還可以在第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38和背 面電極39之間插入一層與雜質(zhì)缺陷阻擋層34同樣的或類似的薄膜，它也起著阻止雜質(zhì)和 缺陷向晶體硅中擴(kuò)散的目的。本實(shí)用新型相對(duì)于通常晶體硅太陽(yáng)能電池10有如下改進(jìn)1、通常晶體硅太陽(yáng)能電池10的結(jié)深一般為300 500nm，這一部分將吸收16% 23%的光子能量，其中至少有一部分會(huì)損失掉，而在本實(shí)用新型中，這一部分就幾乎沒有損失。2、對(duì)于晶體硅太陽(yáng)能電池，其中的少子壽命是一個(gè)關(guān)鍵參數(shù)，它直接決定了光生 電流的大小。對(duì)于通常晶體硅太陽(yáng)能電池10，即使采用了半導(dǎo)體級(jí)的晶體硅片，其少子壽命 比太陽(yáng)能級(jí)的晶體硅片的少子壽命高出幾十至幾百倍，也無法做出高轉(zhuǎn)換效率的電池，其 主要原因之一就是采用了高溫?zé)Y(jié)工藝，以使金屬電極穿過減反射膜，這會(huì)在晶體硅中引 入大量的雜質(zhì)和缺陷，進(jìn)而大幅度降低少子壽命，而在本實(shí)用新型中，這部分損失會(huì)降低到 最低限度。3、由于采用了透明且導(dǎo)電的窗口層，這會(huì)降低由于柵狀金屬電極引起的遮擋損 失，其比例接近4%。對(duì)于本實(shí)用新型的兩個(gè)技術(shù)方案，通過合理選擇其中各層的各項(xiàng)參數(shù)及其制作工 藝，即可有效降低通常的晶體硅太陽(yáng)能電池的遮擋損失、復(fù)合損失和歐姆損失，并且維持反 射損失不變或變化較小，進(jìn)而本實(shí)用新型的電池的轉(zhuǎn)換效率肯定高于通常的晶體硅太陽(yáng)能 電池的轉(zhuǎn)換效率，其高出的比例至少是10%以上，通過技術(shù)的改進(jìn)甚至可以提高20%以 上。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型之一、本實(shí)用新型之二和本實(shí)用新型 的制造方法做進(jìn)一步說明。

圖1是通常的晶體硅太陽(yáng)能電池的示意圖；圖2是公開號(hào)為CN1416179A的前述專利的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本實(shí)用新型之一的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本實(shí)用新型之二的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1如圖3所示的一種晶體硅太陽(yáng)能電池30，其結(jié)構(gòu)依次為正面柵狀金屬電極32、窗 口層33、第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35、第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37、第一導(dǎo)電類型重 摻雜層38、背面電極39，其中，一種選擇是，若第一導(dǎo)電類型為p型，則第二導(dǎo)電類型為n 型，另一種選擇是，若第一導(dǎo)電類型為n型，則第二導(dǎo)電類型為P型，所述的第一導(dǎo)電類型輕 摻雜晶體硅襯底37是指摻有第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)的晶體硅，且是輕度摻雜的，它有兩個(gè)基本 是平的主表面。光線31經(jīng)過窗口層33入射到該電池內(nèi)，被作為吸收層的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35、第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37、第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38所吸收并產(chǎn)生電 子_空穴對(duì)，進(jìn)而產(chǎn)生光生電動(dòng)勢(shì)。第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35是通過燒結(jié)合金、擴(kuò)散、外延、離子注入或浸入式等離 子體注入(Plasma Immersion Ion Implantation)等的方法在所述的第一導(dǎo)電類型輕摻雜 晶體硅襯底37的一個(gè)主表面上形成的并摻入第二導(dǎo)電類型雜質(zhì)的晶體硅，并與所述的第 一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37 —起構(gòu)成同質(zhì)p-n結(jié)，并在它們之間的交界處形成p-n結(jié) 耗盡區(qū)36，可以要求，其摻雜濃度彡5X 1018/cm3,優(yōu)選彡5X 1019/cm3,其厚度彡400nm,優(yōu)選 為10 300nm，更優(yōu)選為10 200nm。窗口層33主要是由一種或多種化合物半導(dǎo)體的非晶或多晶薄膜構(gòu)成，或者主 要是由多層一種或多種化合物半導(dǎo)體的非晶或多晶薄膜復(fù)合而成，可以要求，其對(duì)AMI. 5 條件下的太陽(yáng)光譜中波長(zhǎng)在0. 39 1. lym范圍內(nèi)的太陽(yáng)光的平均透過率彡70%，優(yōu)選 彡85%，所述的晶體硅太陽(yáng)能電池的每平方厘米上的串聯(lián)電阻S4Q，優(yōu)選< 3Q，更優(yōu)選 < 2 Q，通過這一參數(shù)來反映對(duì)窗口層33的導(dǎo)電能力的要求，當(dāng)然，在可能的情況下，上述 的串聯(lián)電阻是越小越好，平均透過率是越大越好。組成所述的窗口層33的化合物半導(dǎo)體的非晶或多晶薄膜，可以為滿足上述特征 的金屬氧化物和金屬硫化物半導(dǎo)體非晶或多晶薄膜，如Sn02:F、ZnO:Al、ln203:Sn(IT0)、 Zn2Sn04、Sn02:Ga、ZnS: A1、Sn02、ZnO、ZnS等非晶或多晶薄膜，這些膜的平均透過率彡85%， 當(dāng)把這些膜組成復(fù)合膜時(shí)，這些復(fù)合膜的方塊電阻可以做到< 150Q/口。在一般情況下， 用上述薄膜制成的電池的每平方厘米上的串聯(lián)電阻<2Q，上述的金屬氧化物半導(dǎo)體非晶 或多晶薄膜即含有通常所說的透明導(dǎo)電膜。正面柵狀金屬電極32與所述的窗口層33相連接并形成歐姆接觸，并與通常的晶 體硅太陽(yáng)能電池的正面柵狀金屬電極12有著類似的形狀，但由于采用了所述的窗口層33， 其電阻率可以做得比較低，所述的正面柵狀金屬電極32的間距就可以更大些，例如，通常 的晶體硅太陽(yáng)能電池的正面柵狀金屬電極的金屬柵線的間距一般選為2 3mm，而本實(shí)施 例所述的正面柵狀金屬電極32的間距則可以選為2 8mm之間，或更大一些，這樣，正面柵 狀金屬電極32的金屬柵線的數(shù)量就減少了，進(jìn)而晶體硅太陽(yáng)能電池的遮擋損失就降低了。背面電極39與所述第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38相連接并形成歐姆接觸。由于采用了窗口層33，使得正面柵狀金屬電極32沒有必要與第二導(dǎo)電類型重?fù)?雜層35直接形成歐姆接觸，只要與窗口層33形成歐姆接觸就可以了，進(jìn)而，若正面柵狀金 屬電極32采用與通常的晶體硅太陽(yáng)能電池相同的材料來制作，同時(shí)，窗口層33選擇的合 適，例如高純IT0，燒結(jié)工藝就可以在500°C左右的溫度下完成，因?yàn)椋藭r(shí)高純IT0薄膜具 有阻止或部分阻止雜質(zhì)對(duì)晶體硅的沾污和在晶體硅中引入缺陷的能力。甚至，若正面柵狀 金屬電極32和背面電極39都選擇合適的導(dǎo)電漿料，例如含有合成樹脂的金屬導(dǎo)電漿料，這 種漿料在通常的晶體硅太陽(yáng)能電池中是不能使用的，就可以在150°C或以下的溫度進(jìn)行燒 結(jié)或固化工藝，若窗口層33選擇的合適，例如高純IT0，甚至可以對(duì)這種漿料在300°C或以 下的溫度進(jìn)行燒結(jié)或固化工藝，以確保正面柵狀金屬電極32與窗口層33以及第一導(dǎo)電類 型重?fù)诫s層38與背面電極39形成歐姆接觸。如此低的溫度處理對(duì)晶體硅中的少子壽命幾 乎沒有影響。所有這些就解決了在背景技術(shù)中提出的在通常的晶體硅太陽(yáng)能電池中存在的 第一個(gè)問題。也正由于此，使得即使本實(shí)用新型之一中第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35的厚度增加到400nm甚至更厚，本實(shí)用新型之一的電池性能與通常的晶體硅太陽(yáng)能電池的性能相比 也會(huì)相差不大，這是因?yàn)?，雖然本實(shí)用新型之一中的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35的光電轉(zhuǎn)換 性能很低，但P_n結(jié)耗盡區(qū)36、第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37和第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s 層38的少子壽命卻遠(yuǎn)高于通常的晶體硅太陽(yáng)能電池的相同或類似區(qū)域的少子壽命，進(jìn)而， p-n結(jié)耗盡區(qū)36、第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37和第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38的光電 轉(zhuǎn)換性能會(huì)遠(yuǎn)高于通常的晶體硅太陽(yáng)能電池的相同或類似區(qū)域的性能。所述的第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38主要是由一種或多種摻有第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)的 半導(dǎo)體組成，或者主要是由多層一種或多種摻有第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)的半導(dǎo)體復(fù)合而成，它 可以是通過燒結(jié)合金、擴(kuò)散、外延、離子注入或浸入式等離子體注入等的方法在所述的第一 導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37的另一個(gè)主表面上摻入第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)而形成的，也可 以是通過物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)或涂膜等方法形成于第一導(dǎo)電類型輕 摻雜晶體硅襯底37的另一個(gè)主表面之上的摻有第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)的非晶或多晶半導(dǎo)體， 第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38的摻雜濃度為彡5X1018/cm3，引進(jìn)這一層的主要目的是為了讓 正面柵狀金屬電極32與窗口層33以及第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38與背面電極39形成歐姆 接觸能在低溫(例如150°C )下進(jìn)行更為方便，以及在某些情況下形成背面場(chǎng)。實(shí)施例2整體結(jié)構(gòu)同實(shí)施例1，區(qū)別在于將第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38刪除掉，讓第一導(dǎo)電 類型輕摻雜晶體硅襯底37和背面電極39直接連接并形成歐姆接觸，這樣做以后，上述的本 實(shí)用新型的特征幾乎不會(huì)受到影響；或者，若所述的第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38是通過物理 氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)或涂膜等方法形成于第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯 底37的另一個(gè)主表面之上的摻有第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)的非晶或多晶半導(dǎo)體，則還可以在所 述的第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底37和所述的第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層38之間插入一層 氧化硅薄膜或摻氫的非晶硅薄膜或摻氮的非晶硅薄膜或摻氫摻氮的非晶硅薄膜以起著鈍 化表面以及阻止雜質(zhì)和缺陷從背面進(jìn)入晶體硅中去的作用。實(shí)施例3 如圖4所示，本實(shí)施例是在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，在所述的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層35 和窗口層33之間插入一層雜質(zhì)缺陷阻擋層34，以便改進(jìn)上述的本實(shí)用新型之一的不足之 處。上述實(shí)施例所述的晶體硅太陽(yáng)能電池，均可由以下方法制備而得1、對(duì)提供的<100>晶向的第一導(dǎo)電類型輕摻雜的晶體硅片，在含有氫氧化鈉的溶 液中進(jìn)行化學(xué)拋光處理，去掉損傷層。2、在第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅片的兩個(gè)主表面上通過擴(kuò)散方法形成第一導(dǎo)電 類型重?fù)诫s層，而后將晶體硅片上的氧化硅膜去掉，可以要求其雜質(zhì)濃度彡5X1019/cm3，其 結(jié)深彡lym，若第一導(dǎo)電類型選擇的是p型，則摻雜劑材料可以是硼(B)，摻雜源優(yōu)選BBr3， 若第一導(dǎo)電類型選擇的是n型，則摻雜劑材料可以是磷(P)，摻雜源優(yōu)選P0C13。3、從所述的已形成第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層的晶體硅片的兩個(gè)主表面上選擇一個(gè) 作為背面，另一面則就是正面，將該背面用氧化硅膜或采用其他方法予以保護(hù)，再在含有硝 酸加氫氟酸的醋酸溶液或者其他可以腐蝕重?fù)诫s硅的溶液中將正面的第一導(dǎo)電類型重?fù)?雜層腐蝕掉，而后再在含有氫氧化鈉和異丙醇的溶液中將正面進(jìn)行織構(gòu)化處理，最后將晶體硅片上的保護(hù)層去掉。4、將兩片所述的在背面已形成第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層的晶體硅片的背面靠在一 起并同時(shí)放入擴(kuò)散爐中，對(duì)已進(jìn)行織構(gòu)化處理的正面通過擴(kuò)散方法形成第二導(dǎo)電類型重?fù)?雜層，可以要求其雜質(zhì)濃度彡5X1019/cm3，其結(jié)深彡lOOnm，表面的氧化硅膜的厚度在5 20nm之間，若第二導(dǎo)電類型選擇的是p型，則摻雜劑材料可以是硼(B)，摻雜源優(yōu)選BBr3，若 第二導(dǎo)電類型選擇的是n型，則摻雜劑材料可以是磷(P)，摻雜源優(yōu)選P0C13。5、在所述的晶體硅片的已形成第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層的正面上，通過物理氣相沉 積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)、溶膠凝膠或涂膜等方法，沉積一層窗口層。6、采用等離子刻蝕、激光刻蝕等方法將所述晶體硅片邊緣的摻雜層和各種膜都去 掉。7、通過絲網(wǎng)印刷，在所述晶體硅片背面的第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層上印刷一層大面 積金屬電極漿料，在所述晶體硅片正面的窗口層上印刷一層正面柵狀金屬電極漿料，通過 燒結(jié)工藝，在所述晶體硅片的背面形成大面積歐姆接觸層和金屬焊接層，并在所述晶體硅 片正面的窗口層上形成正面柵狀金屬電極歐姆接觸層和金屬焊接層。若所述的金屬電極漿 料選擇的是通常晶體硅太陽(yáng)能電池所使用的金屬導(dǎo)電漿料，則所述的燒結(jié)工藝的溫度可以 是550°C或以下的某些溫度；若所述的金屬電極漿料選擇的是含有合成樹脂的金屬導(dǎo)電漿 料，則所述的燒結(jié)工藝的溫度可以是150°C或以下的某些溫度。在上述步驟4中，由于是背靠背裝片，并且擴(kuò)散的溫度和時(shí)間都遠(yuǎn)低于步驟2中的 擴(kuò)散溫度和時(shí)間，因而，步驟4中的第二導(dǎo)電類型雜質(zhì)對(duì)步驟2中形成的第一導(dǎo)電類型重?fù)?雜層幾乎沒有影響，若步驟2中的摻雜濃度越高方塊電阻越小，則這種影響就越小。另外， 由于在上述步驟4中所產(chǎn)生的氧化硅膜的厚度非常小，由于存在量子隧穿現(xiàn)象，其對(duì)載流 子的運(yùn)動(dòng)幾乎沒有阻礙作用，但對(duì)雜質(zhì)和缺陷的熱擴(kuò)散具有一定的阻擋作用，因此，本制造 方法對(duì)本實(shí)用新型之一和本實(shí)用新型之二都適用，只是，在采用本制造方法來制造本實(shí)用 新型之一的電池時(shí)，可以讓晶體硅襯底處于較高的溫度下進(jìn)行窗口層和正、背面電極的制 作，例如300 550°C，而采用本制造方法來制造本實(shí)用新型之二的電池，晶體硅襯底就只 能處于較低的溫度下進(jìn)行窗口層和正、背面電極的制作，例如150°C左右，此時(shí)氧化硅膜作 為雜質(zhì)缺陷阻擋層來使用。在上述步驟2和步驟4中，之所以選擇BBr3、P0C13作為優(yōu)選摻 雜源，是因?yàn)檫@些源對(duì)晶體硅中的少子壽命有好處。若在上述制造方法中，不使用氧化硅膜作為阻擋層，則可將這層膜去掉，在步驟4 與步驟5之間增加一個(gè)制作雜質(zhì)缺陷阻擋層的步驟，這些雜質(zhì)缺陷阻擋層可以是A1203、摻 氮非晶硅、摻氫摻氮非晶硅、氮化硅等膜，其厚度約為5 20nm，因?yàn)檫@些膜的阻擋雜質(zhì)的 能力都要強(qiáng)于氧化硅膜。
1權(quán)利要求一種晶體硅太陽(yáng)能電池，其結(jié)構(gòu)依次為正面柵狀金屬電極(32)、窗口層(33)、第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層(35)、第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底(37)、背面電極(39)，其中，所述的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層(35)與所述的第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底(37)一起構(gòu)成同質(zhì)p n結(jié)，所述的窗口層(33)對(duì)AM1.5條件下的太陽(yáng)光譜中波長(zhǎng)在0.39～1.1μm范圍內(nèi)的太陽(yáng)光的平均透過率≥70％；所述的晶體硅太陽(yáng)能電池的每平方厘米上的串聯(lián)電阻≤4Ω。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽(yáng)能電池，其特征在于所述的第二導(dǎo)電類型重?fù)?雜層(35)的厚度彡400nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶體硅太陽(yáng)能電池，其特征在于所述的第二導(dǎo)電類型重?fù)?雜層(35)的厚度為10 200nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽(yáng)能電池，其特征在于所述的晶體硅太陽(yáng)能電池 的每平方厘米上的串聯(lián)電阻為< 3 Q。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽(yáng)能電池，其特征在于所述的窗口層(33)對(duì) AMI. 5條件下的太陽(yáng)光譜中波長(zhǎng)在0. 39 1. 1 y m范圍內(nèi)的太陽(yáng)光的平均透過率彡85%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽(yáng)能電池，其特征在于在窗口層(33)與第二導(dǎo) 電類型重?fù)诫s層(35)之間增加一層雜質(zhì)缺陷阻擋層(34)，所述的雜質(zhì)缺陷阻擋層(34)和 所述的窗口層(33)作為一個(gè)整體，該整體對(duì)AMI. 5條件下的太陽(yáng)光譜中波長(zhǎng)在0. 39 1. lym范圍內(nèi)的太陽(yáng)光的平均透過率彡70%。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的晶體硅太陽(yáng)能電池，其特征在于所述的雜質(zhì)缺陷阻擋層 (34)和所述的窗口層(33)作為一個(gè)整體，該整體對(duì)AM1.5條件下的太陽(yáng)光譜中波長(zhǎng)在 0. 39 1. lym范圍內(nèi)的太陽(yáng)光的平均透過率彡85%。
8.根據(jù)權(quán)利要求1 7任意一項(xiàng)所述的晶體硅太陽(yáng)能電池，其特征在于在背面電極 (39)與第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底(37)之間增加一層第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層(38)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種晶體硅太陽(yáng)能電池，其結(jié)構(gòu)依次為正面柵狀金屬電極、窗口層、第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層、第一導(dǎo)電類型輕摻雜晶體硅襯底、第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s層、背面電極，本實(shí)用新型通過設(shè)置“薄”且高摻雜的第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s層以及“透明”且“導(dǎo)電”的窗口層，本實(shí)用新型的晶體硅太陽(yáng)能電池結(jié)構(gòu)，能降低復(fù)合損失、歐姆損失和遮擋損失，可將其轉(zhuǎn)換效率提高至少10％以上。
文檔編號(hào)H01L31/0216GK201752016SQ200920122909
公開日2011年2月23日 申請(qǐng)日期2009年6月25日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月25日
發(fā)明者黃麟 申請(qǐng)人:黃麟