專利名稱：真空繼電器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及"種繼電器，尤其是一種真空繼電器。
背景技術(shù)：
目前，市面上現(xiàn)有的真空繼電器主要由真空室、傳動(dòng)部分 和線圈組成，繼電器的耐壓性除了取決于真空室內(nèi)觸點(diǎn)的間隙 外，還取決于真空室外接觸點(diǎn)桿間的絕緣距離，現(xiàn)有的繼電器 的真空室的側(cè)壁截面多為圓形、方形等形狀，在真空室截面最 大外徑設(shè)定的情況下，其接觸點(diǎn)桿間的絕緣距離即被限定了。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型為了解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是 真空繼電器，包括真空室，若干接觸點(diǎn)桿密封穿設(shè)在真空 室的側(cè)壁上，以裝配方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，各接觸點(diǎn)桿之間的真空室側(cè) 壁外側(cè)形成若干縱向的凸肋，所述接觸點(diǎn)桿之間的真空室側(cè)壁 的外周截面成波紋狀。
所述真空室的側(cè)壁上穿設(shè)有三個(gè)接觸點(diǎn)桿。 所述各接觸點(diǎn)桿之間的真空室側(cè)壁外側(cè)的凸肋為三個(gè)。 本實(shí)用新型的有益效果是由于接觸點(diǎn)桿之間的真空室側(cè) 壁外側(cè)形成若干縱向的凸肋，接觸點(diǎn)桿之間的真空室側(cè)壁的外 周截面成波紋狀，這樣就使真空室外接觸點(diǎn)桿之間的絕緣距離由原先平整的弧線距離或直線距離變?yōu)榍€距離，大大增大了 兩接觸點(diǎn)桿之間的絕緣距離，因此使繼電器的耐壓性相應(yīng)的得 到了較大幅度的提高。


圖1為本實(shí)用新型的剖面示意圖2為本實(shí)用新型所對(duì)比的原有技術(shù)的剖面示意圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例真空繼電器，包括真空室，若干接觸點(diǎn)桿l密封 穿設(shè)在真空室2的側(cè)壁上，以裝配方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，各接觸點(diǎn)桿l
之間的真空室2側(cè)壁外側(cè)形成若干縱向的凸肋3，所述接觸點(diǎn) 桿1之間的真空室2側(cè)壁的外周截面成波紋狀。 所述真空室2的側(cè)壁上穿設(shè)有三個(gè)接觸點(diǎn)桿1。 所述各接觸點(diǎn)桿1之間的真空室2側(cè)壁外側(cè)的凸肋3為三個(gè)。
由于接觸點(diǎn)桿1之間的真空室2側(cè)壁外側(cè)形成若干縱向的 凸肋3，接觸點(diǎn)桿1之間的真空室2側(cè)壁的外周截面成波紋狀， 這樣就使真空室2外接觸點(diǎn)桿1之間的絕緣距離由原先平整的 弧線距離或直線距離變?yōu)榍€距離，大大增大了兩接觸點(diǎn)桿1 之間的絕緣距離，因此使繼電器的耐壓性相應(yīng)的得到了較大幅 度的提高。
權(quán)利要求1、一種真空繼電器，包括真空室，若干接觸點(diǎn)桿(1)密封穿設(shè)在真空室(2)的側(cè)壁上，其特征在于以裝配方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，各接觸點(diǎn)桿之間的真空室側(cè)壁外側(cè)形成若干縱向的凸肋(3)，所述接觸點(diǎn)桿之間的真空室側(cè)壁的外周截面成波紋狀。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空繼電器，其特征在于所 述真空室的側(cè)壁上穿設(shè)有三個(gè)接觸點(diǎn)桿。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空繼電器，其特征在于: 所述各接觸點(diǎn)桿之間的真空室側(cè)壁外側(cè)的凸肋為三個(gè)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種真空繼電器，包括真空室，若干接觸點(diǎn)桿密封穿設(shè)在真空室的側(cè)壁上，以裝配方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，各接觸點(diǎn)桿之間的真空室側(cè)壁外側(cè)形成若干縱向的凸肋，所述接觸點(diǎn)桿之間的真空室側(cè)壁的外周截面成波紋狀，這樣就使真空室外接觸點(diǎn)桿之間的絕緣距離由原先平整的弧線距離或直線距離變?yōu)榍€距離，大大增大了兩接觸點(diǎn)桿之間的絕緣距離，因此使繼電器的耐壓性相應(yīng)的得到了較大幅度的提高。
文檔編號(hào)H01H50/00GK201374285SQ20092003568
公開日2009年12月30日 申請(qǐng)日期2009年3月16日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月16日
發(fā)明者尹劍平, 張立云, 覃奀壵, 賈冰冰, 浩 黃 申請(qǐng)人:昆山國(guó)力真空電器有限公司