專利名稱：光盤記錄再現(xiàn)裝置和記錄方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光盤記錄再現(xiàn)裝置以及記錄方法，尤其是涉及以下所述的技術(shù)，即在控制半導(dǎo)體激光器以便對(duì)可記錄的光盤邊記錄，邊成為最佳的記錄激光器功率的ROPC上，為了防止由于光盤傾斜的影響導(dǎo)致不能加以ROPC控制的事態(tài)發(fā)生，通過針對(duì)ROPC用的激光器的發(fā)光功率在檢測(cè)傾斜異常、進(jìn)行傾斜控制后重新開始ROPC。
背景技術(shù)：
在用激光寫入CR-R類可記錄的光盤時(shí)，為了對(duì)光盤靈敏度波動(dòng)、光拾取器的激光特性或透鏡裝配精度的影響、記錄速度等影響的綜合評(píng)估，在數(shù)據(jù)寫入之前，作為在各個(gè)光盤的Lead-In Area(引入?yún)^(qū))內(nèi)周側(cè)上設(shè)置的試寫區(qū)域的功率校準(zhǔn)區(qū)(Power Calibration Area)(以下略寫為PCA)進(jìn)行試寫。
試寫階段地改變記錄速度和激光器記錄功率，進(jìn)行測(cè)試數(shù)據(jù)的寫入，評(píng)價(jià)從再現(xiàn)其測(cè)試數(shù)據(jù)時(shí)的來自光盤的比特(bit)部和組部的信號(hào)對(duì)稱性(不對(duì)稱性β)，以對(duì)稱性良好的記錄功率作為最佳記錄功率(Optimum Writing Power以下略稱為PWO)。
因此，為了跟隨由光盤內(nèi)的靈敏度波動(dòng)、溫度變化產(chǎn)生的激光波長(zhǎng)的偏移、由光盤內(nèi)傾斜變化等產(chǎn)生的最佳功率變化，將記錄脈沖的光盤反射光的非對(duì)稱性最佳化地邊記錄邊使記錄激光器功率成為最佳(Running Optimum Power Control以下略稱為ROPC)地加以控制。
圖4是涉及從記錄中光盤得到的反射光的接受光量、記錄激光器功率的特性圖，圖4(a)是示出接受光量隨時(shí)間的變化圖，圖4(b)是示出記錄激光器功率隨時(shí)間變化的圖。如圖4(b)所示，在可記錄的光盤上照射激光器功率進(jìn)行記錄時(shí)，在記錄時(shí)得到的反射光的接受光量如圖4(a)所示地變化。在圖上，特性曲線41示出記錄激光器功率適當(dāng)時(shí)的接受光量，特性曲線42示出記錄功率不足時(shí)的接受光量，特性曲線43示出記錄激光器功率過大時(shí)的接受光量。正如從這些特性曲線所看到的那樣，隨著記錄功率的增加，在B點(diǎn)的輸出(B電平)降低，如果記錄功率不足，則B電平增大。通過在該B點(diǎn)的非對(duì)稱性評(píng)價(jià)進(jìn)行功率的適當(dāng)化。
相反，在用傾斜傳感器進(jìn)行對(duì)光盤傾斜補(bǔ)償?shù)膫鹘y(tǒng)傾斜控制中，存在所謂不能控制記錄中傾斜的任務(wù)。例如，公開了如下技術(shù)，即使用將因記錄激光的照射而從光盤反射的返回激光通過受光元件進(jìn)行光電變換后的RF信號(hào)，進(jìn)行記錄中光盤的傾斜調(diào)整。例如，參照特開2001-184689號(hào)公報(bào)(第1頁(yè))。
此外，增加了將光盤裝置作為便攜用的用途。例如公開了如下的技術(shù)，即在攝像機(jī)內(nèi)藏使用時(shí)，為了感知在攝像機(jī)攝全景動(dòng)作時(shí)由于科里奧利力產(chǎn)生的光盤傾斜瞬時(shí)變大的狀況，所以設(shè)置判斷光拾取器內(nèi)受光元件的總光量的電路，控制向光盤的寫入。例如參照特開2002-74671號(hào)公報(bào)(第3頁(yè))。
在其一方面，記錄速度的高速化進(jìn)展，16倍速或24倍速已實(shí)用化，使記錄條件變得苛刻。此外，在最近作為可印式盤，普及有在CD-R盤上貼附印字用標(biāo)簽的盤。由于該光盤在印字前后產(chǎn)生傾斜錯(cuò)位，所以可散見按照傳統(tǒng)方式存在有嚴(yán)重的傾斜錯(cuò)位。
對(duì)于這樣的盤，如果是達(dá)到某種水平的傾斜錯(cuò)位的話，通過由ROPC控制效果產(chǎn)生的記錄功率上升，可以形成所希望深度的PIT，然而，在產(chǎn)生比其更大的傾斜錯(cuò)位時(shí)，成為激光傾斜入射狀態(tài)下的記錄，使功率最佳化，產(chǎn)生所謂只通過形成所希望深度的PIT不能維持記錄品質(zhì)的問題。因此，即使對(duì)于具有由通過ROPC控制不可維持寫入品質(zhì)的傾斜錯(cuò)位量的盤，也有迫切進(jìn)行能夠維持記錄品質(zhì)那樣新的控制。
根據(jù)第一發(fā)明，本發(fā)明提供一種光盤記錄再現(xiàn)裝置，控制記錄功率，使從記錄中的光盤的反射光得到的信號(hào)成為規(guī)定值，它包含如下裝置，即具有激光器的光拾取器，和判別記錄激光器功率是否超越規(guī)定值的激光器功率判斷裝置，和在通過前述激光器功率判斷裝置，判別為記錄功率超過規(guī)定值時(shí)，停止記錄的裝置，和在記錄中斷期間控制光拾取器傾斜角度的光拾取器控制裝置，和控制傾斜角度后，重新開始記錄的裝置。
根據(jù)第二發(fā)明，記錄方法包含如下步驟，即控制記錄功率的步驟，以便從記錄中的光盤的反射光得到的信號(hào)成為規(guī)定值，和在記錄激光器功率比規(guī)定值大時(shí)中斷記錄，以此作為再現(xiàn)狀態(tài)的步驟，和在前述再現(xiàn)狀態(tài)控制光拾取器傾斜角度的步驟，和重新開始記錄的步驟。
根據(jù)本發(fā)明，在判斷為產(chǎn)生不能維持記錄品質(zhì)程度的傾斜錯(cuò)位時(shí)，中斷記錄，調(diào)整傾斜錯(cuò)位后，重新開始記錄，所以可以得到良好的記錄狀態(tài)。


圖1是示出在本發(fā)明一實(shí)施例的ROPC控制中，在記錄功率超過規(guī)定功率時(shí)的記錄中斷處理動(dòng)作的一實(shí)施例的流程圖。
圖2是示出作為本發(fā)明的一實(shí)施例的光盤記錄再現(xiàn)裝置的方框圖。
圖3是示出傾斜角和RF EFM信號(hào)調(diào)制度關(guān)系的特性圖。
圖4是涉及從記錄中光盤得到的反射光的接受光量、記錄激光器功率的特性圖。
具體實(shí)施例方式
以下，用實(shí)施例，參照附圖，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式加以說明。
圖2是示出本發(fā)明的光盤記錄再現(xiàn)裝置一實(shí)施例的方框圖。在圖上，盤馬達(dá)控制裝置1控制盤馬達(dá)3，以便達(dá)到由微機(jī)2指定的轉(zhuǎn)數(shù)。盤馬達(dá)3控制光盤4到任意的轉(zhuǎn)數(shù)。激光器功率控制裝置5將光拾取器6的激光器功率控制到微機(jī)2指定的功率。光拾取器6對(duì)光盤4聚束激光，進(jìn)行信息記錄動(dòng)作。此外，光拾取器6將記錄在光盤4上的信息檢測(cè)作為光信息，變換為電信號(hào)。
伺服控制裝置7從來自光拾取器6的電信號(hào)中抽出通過光拾取器6產(chǎn)生的盤信息溝追蹤動(dòng)作中必要的信息，以前述信息作為基礎(chǔ)來控制光拾取器6的聚焦(Focus)，進(jìn)行跟蹤(Tracking)動(dòng)作。傾斜控制裝置8把光拾取器6控制在微機(jī)2指定的任意傾斜角上。
ROPC控制用信號(hào)檢測(cè)裝置9從來自光拾取器6的電信號(hào)中檢測(cè)記錄用激光器功率的過度與不足的信息，例如檢測(cè)B電平。記錄中，根據(jù)由ROPC控制信號(hào)檢測(cè)裝置9得到的作為激光器功率的過度與不足信息的B電平，微機(jī)2補(bǔ)償激光器功率控制裝置5的激光器功率。即進(jìn)行ROPC控制。
RF EFM信號(hào)調(diào)制度檢測(cè)裝置10檢測(cè)EFM信號(hào)的調(diào)制度。通過該RF EFM信號(hào)調(diào)制度檢測(cè)裝置10的輸出控制傾斜。擺動(dòng)(WOBBLE)檢測(cè)裝置11從來自光盤6的電信號(hào)檢測(cè)擺信號(hào)。ATIP地址檢測(cè)裝置12從擺動(dòng)檢測(cè)裝置11檢測(cè)到的擺動(dòng)信號(hào)中取得ATIP地址信息。
其次，在用圖1說明本發(fā)明的光盤記錄再現(xiàn)裝置的ROPC控制，對(duì)記錄功率超過規(guī)定功率(閾值)時(shí)的記錄中斷處理動(dòng)作加以說明。
圖1是示出在本發(fā)明的ROPC控制，記錄功率超過規(guī)定功率時(shí)的記錄中斷處理動(dòng)作的一實(shí)施例的流程圖。在圖中，從步驟20的繼續(xù)記錄處理的狀態(tài)開始其流程圖。首先，在步驟21，通過圖2的ROPC控制信號(hào)檢測(cè)裝置9由圖4所示的再現(xiàn)信號(hào)檢測(cè)記錄功率判斷信號(hào)。作為記錄功率判斷信號(hào)，例如檢測(cè)通過將來自記錄中的光盤的反射光再現(xiàn)為電信號(hào)而得到的B電平。通過ROPC控制記錄功率，以便該B電平成為規(guī)定值。在步驟22，通過微機(jī)判斷B電平是否是合適值。在非合適值時(shí)(N的情況)進(jìn)入步驟23，判斷B電平是否低。在B電平低(記錄功率高)時(shí)進(jìn)入步驟24a，根據(jù)微機(jī)2來的指令，將記錄功率降低規(guī)定量，進(jìn)入步驟25。相反，B電平高(記錄功率比規(guī)定值低)時(shí)，進(jìn)入步驟24b，通過微機(jī)2來的指令，將記錄功率增加規(guī)定量，進(jìn)入步驟25。
在步驟25判斷記錄功率是否超過規(guī)定值。例如，因?yàn)橛涗浌β矢鶕?jù)微機(jī)2的指令從激光器功率控制裝置5輸出，所以可以通過微機(jī)2判斷記錄功率是否超過規(guī)定值。在記錄功率超過規(guī)定值時(shí)，進(jìn)入步驟26，如果在規(guī)定值以內(nèi)時(shí)則返回步驟21。
在記錄功率超過規(guī)定值時(shí)，在步驟26通過降低激光器功率等進(jìn)行記錄中斷處理。這時(shí)，把記錄激光器功率降低到再現(xiàn)時(shí)的激光器功率，作為再現(xiàn)狀態(tài)，在步驟27，用通過擺動(dòng)檢測(cè)裝置11檢測(cè)到的擺動(dòng)信號(hào)，從ATIP地址檢測(cè)裝置12檢測(cè)ATIP位置信息。其次，在步驟28，將光拾取器從記錄中斷位置近旁移動(dòng)到規(guī)定的n扇區(qū)前的記錄過的扇區(qū)。在步驟29，使光拾取器到達(dá)記錄重新開始位置前面n個(gè)扇區(qū)的位置上，接通跟蹤伺服器。在步驟31，開始EFM信號(hào)的再現(xiàn)。在步驟31，通過RF EFM信號(hào)調(diào)制度檢測(cè)裝置10把EFM調(diào)制度輸入到微機(jī)2，邊改變光拾取器6對(duì)傾斜控制裝置8的傾斜角，邊調(diào)節(jié)到圖3所示RF EFM調(diào)制度成為最大的傾斜角。也可以通過用其它檢測(cè)裝置的方法使傾斜最佳化。在步驟32，進(jìn)行記錄重新開始處理，重新開始ROPC。在該記錄重新開始處理，可以利用傳統(tǒng)的緩存欠載運(yùn)行(Buffer Under Run)重新開始處理技術(shù)。
圖3是示出傾斜角和RF EFM信號(hào)調(diào)制度關(guān)系的特性圖，橫軸示出傾斜角(TILT ANGLE)，縱軸示出RF EFM信號(hào)的調(diào)制度(MODULATION DEGREE)。如圖所示，RF EFM信號(hào)的調(diào)制度在傾斜角為零時(shí)成為最大，隨著傾斜角偏離零，RF EFM信號(hào)的調(diào)制度降低。因此，調(diào)整光拾取器本身或光拾取器對(duì)物鏡的角度，調(diào)整傾斜角，以便使RF EFM信號(hào)的調(diào)制度變?yōu)樽畲蟆?br> 如以上所述，根據(jù)本發(fā)明，在ROPC，在控制記錄激光器功率以便使B電平成為規(guī)定值期間，在記錄功率超過規(guī)定值而增加的情況下，判斷為光盤的傾斜為規(guī)定值以上。因此，在記錄功率超過規(guī)定值而增加時(shí)，判斷傾斜偏離規(guī)定值以上，中斷記錄，進(jìn)行傾斜補(bǔ)償之后，重新開始記錄，所以可以得到良好的記錄狀態(tài)。
此外，在ROPC，可以防止記錄功率超過規(guī)定值，增加。
權(quán)利要求
1.一種光盤記錄再現(xiàn)裝置，使從記錄中的光盤的反射光得到的信號(hào)成為規(guī)定值，從而控制記錄功率，其特征為，包含具有激光器的光拾取器；判斷記錄激光器功率是否超過規(guī)定值的激光器功率判斷裝置；利用所述激光器功率判斷裝置判斷為記錄功率超過規(guī)定值時(shí)，停止記錄的裝置；在記錄中斷期間控制所述光拾取器傾斜角度的光拾取器控制裝置；和控制所述傾斜角度之后重新開始記錄的裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤記錄再現(xiàn)裝置，其特征為，包含利用所述記錄停止裝置中斷記錄之后，作為再現(xiàn)狀態(tài)檢測(cè)位置信息的裝置；和使所述光拾取器從記錄中斷位置移動(dòng)到規(guī)定扇區(qū)前的裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光盤記錄再現(xiàn)裝置，其特征為，包含在通過所述光拾取器移動(dòng)裝置使所述光拾取器從記錄中斷位置移動(dòng)到規(guī)定扇區(qū)前之后，使跟蹤伺服器導(dǎo)通的裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤記錄再現(xiàn)裝置，其特征為，所述光拾取器控制裝置包含EFM信號(hào)調(diào)制度檢測(cè)裝置；和傾斜控制裝置，控制光拾取器的傾斜角以便通過所述EFM信號(hào)調(diào)制度檢測(cè)裝置檢測(cè)到的EFM信號(hào)的調(diào)制度變大。
5.一種記錄方法，其特征為，包含使從記錄中的光盤的反射光得到的信號(hào)成為規(guī)定值，從而控制記錄功率的步驟；在記錄激光器功率超過規(guī)定值時(shí)，中斷記錄，以此作為再現(xiàn)狀態(tài)的步驟；在所述再現(xiàn)狀態(tài)控制光拾取器傾斜角的步驟；和重新開始記錄的步驟。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的記錄方法，其特征為，包含在所述再現(xiàn)狀態(tài)時(shí)，檢測(cè)現(xiàn)在位置的步驟；和使光拾取器從記錄中斷位置移動(dòng)到規(guī)定扇區(qū)前的步驟。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的記錄方法，其特征為，包含在使所述光拾取器從記錄中斷位置移動(dòng)到規(guī)定扇區(qū)前之后，使跟蹤伺服器導(dǎo)通的步驟。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的記錄方法，其特征為，控制光拾取器傾斜角度的步驟包括使EFM信號(hào)再現(xiàn)的步驟；和使所述EFM信號(hào)的調(diào)制度變?yōu)樽畲螅瑥亩刂乒馐叭∑鞯膬A斜角度的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光盤記錄再現(xiàn)裝置和記錄方法。記錄中檢測(cè)傾斜錯(cuò)位，補(bǔ)償傾斜錯(cuò)位，重新開始記錄。通過ROPC控制檢測(cè)裝置，在記錄功率控制下，檢測(cè)控制后的記錄功率超過規(guī)定值時(shí)，控制激光器功率控制裝置，中斷記錄，通過傾斜控制裝置控制傾斜錯(cuò)位之后，重新開始記錄。
文檔編號(hào)G11B7/0045GK1517986SQ20031011571
公開日2004年8月4日 申請(qǐng)日期2003年11月24日 優(yōu)先權(quán)日2003年1月28日
發(fā)明者坂井寬治, 林博之 申請(qǐng)人:日立樂金資料儲(chǔ)存股份有限公司