專利名稱：檢查系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有可以通過顯微鏡來放大觀察在半導(dǎo)體晶片或玻璃基 板上所制造的微細(xì)圖案的缺陷的復(fù)查功能、以及能夠通過激光來修正該 缺陷的修正功能的缺陷復(fù)査和修正裝置。
背景技術(shù)：
以往，半導(dǎo)體IC芯片和液晶面板是經(jīng)過多個(gè)制造工序而制成的產(chǎn)
品。為了在這些各工序之間對(duì)由制造裝置和這些制造工序產(chǎn)生的微細(xì)圖 案上的缺陷進(jìn)行管理，通常設(shè)有檢查工序。
該檢查工序由檢查系統(tǒng)來執(zhí)行，該檢查系統(tǒng)由以下部分構(gòu)成對(duì)布 線圖案的錯(cuò)亂和異物混入進(jìn)行檢查的外觀檢査裝置；對(duì)布線圖案之間的 距離和寬度進(jìn)行測量的線寬測量檢査裝置；以及之后對(duì)由外觀檢查裝置 所檢測出的缺陷進(jìn)行詳細(xì)檢查的復(fù)查裝置等。在這些檢查工序中盡早發(fā) 現(xiàn)問題并向?qū)е略搯栴}的制造工序進(jìn)行反饋關(guān)系著生產(chǎn)線的成品率的提 高。此外，作為提高成品率的方法，還具有對(duì)缺陷部位進(jìn)行修正的修正 工序。在沒有該修正工序的檢查系統(tǒng)的情況下，包含所檢測出的缺陷的 半導(dǎo)體IC芯片和液晶基板面板被判定為不合格品而無法成為產(chǎn)品。
但是，能夠通過使用修正裝置來對(duì)缺陷部位和問題部位進(jìn)行修正， 從而能夠使檢查工序中被判定為不合格的基板重新成為合格品，并進(jìn)入 到后面的工序中。
例如在專利文獻(xiàn)1中公開了沒有修正工序的復(fù)查裝置。該復(fù)查裝置 是如下這樣的系統(tǒng)對(duì)從檢查裝置輸出的缺陷坐標(biāo)與復(fù)査裝置的觀察坐 標(biāo)之間的誤差進(jìn)行校正，以良好的精度進(jìn)行確定缺陷部位的缺陷搜索， 進(jìn)而根據(jù)缺陷尺寸的檢測值的傾向來選擇需要進(jìn)行SEM等高倍觀察的缺 陷，由此來提高復(fù)查效率。
3此外，作為具有檢査工序的修正檢查裝置，例如具有專利文獻(xiàn)2所 公開的缺陷修正方法和缺陷修正裝置。該修正裝置是如下這樣的裝置 對(duì)由檢查裝置檢測出的缺陷進(jìn)行分析、收集，分析出缺陷的位置坐標(biāo)、 形狀、尺寸等結(jié)構(gòu)成分并進(jìn)行收集，使用與該缺陷有關(guān)的數(shù)據(jù)、電路設(shè) 計(jì)版圖數(shù)據(jù)以及存儲(chǔ)有各缺陷的修正方法的缺陷修正方法知識(shí)數(shù)據(jù)庫， 對(duì)引起電氣不匹配的缺陷的確定進(jìn)行自動(dòng)分類，從而去除該缺陷或?qū)υ?缺陷進(jìn)行修復(fù)。日本特許公開公報(bào)特開2006-145269號(hào)公報(bào) [專利文獻(xiàn)2]日本特許公開公報(bào)特開2006-303227號(hào)公報(bào) 上述復(fù)查裝置使例如光學(xué)顯微鏡這樣的對(duì)缺陷進(jìn)行放大觀察的觀察 裝置移動(dòng)到對(duì)基板整面進(jìn)行檢查的自動(dòng)宏觀檢査裝置所輸出的缺陷坐 標(biāo)，來進(jìn)行復(fù)査。并且，在自動(dòng)宏觀檢査裝置具有分類功能的情況下， 使用其分類數(shù)據(jù)預(yù)先選擇需要進(jìn)行復(fù)查的缺陷，從而能夠減少復(fù)査次數(shù)。 在利用上述方法進(jìn)行復(fù)查時(shí)，上述顯微鏡以使自動(dòng)宏觀檢查裝置所 輸出的各個(gè)缺陷進(jìn)入視野中心的方式進(jìn)行移動(dòng)，存在必須使顯微鏡移動(dòng) 與復(fù)査缺陷的數(shù)量相同的次數(shù)的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明正是鑒于上述問題而完成的，其目的在于提供一種能夠高效 地進(jìn)行復(fù)查，從而實(shí)現(xiàn)檢査時(shí)間縮短的檢査系統(tǒng)。 為了解決上述課題，本發(fā)明采用了以下結(jié)構(gòu)。
艮口，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方式，本發(fā)明的檢查系統(tǒng)是具有缺陷檢查裝 置和復(fù)查裝置的檢査系統(tǒng)。而且，所述缺陷檢查裝置對(duì)形成在基板上的 缺陷進(jìn)行識(shí)別，并取得缺陷信息，所述缺陷信息包含表示所述缺陷的位 置坐標(biāo)的缺陷位置坐標(biāo)和表示所述缺陷的尺寸的缺陷尺寸，并且，所述 復(fù)查裝置根據(jù)所述缺陷檢查裝置所取得的所述缺陷位置坐標(biāo)，使攝像范 圍相對(duì)移動(dòng)，利用顯微鏡對(duì)所述基板進(jìn)行檢査，所述復(fù)查裝置具有坐標(biāo) 計(jì)算部，該坐標(biāo)計(jì)算部根據(jù)所述缺陷信息和用于構(gòu)成所述攝像范圍的攝 像范圍信息，來計(jì)算使所述相對(duì)移動(dòng)的次數(shù)減少的坐標(biāo)。
4此外，本發(fā)明的檢査系統(tǒng)優(yōu)選所述坐標(biāo)計(jì)算部設(shè)置在與所述復(fù)查 裝置不同的裝置，例如通過網(wǎng)絡(luò)與所述復(fù)査裝置連接的缺陷檢査裝置、 生產(chǎn)數(shù)據(jù)管理服務(wù)器、或者坐標(biāo)管理服務(wù)器中。
此外，本發(fā)明的檢查系統(tǒng)優(yōu)選所述坐標(biāo)計(jì)算部具有同一視野內(nèi)缺 陷提取部，該同一視野內(nèi)缺陷提取部用于求出多個(gè)缺陷同時(shí)進(jìn)入所述顯 微鏡的同一攝像范圍內(nèi)的坐標(biāo)。
此外，本發(fā)明的檢查系統(tǒng)優(yōu)選所述坐標(biāo)計(jì)算部具有格子坐標(biāo)設(shè)定 部，該格子坐標(biāo)設(shè)定部根據(jù)所述顯微鏡的攝像范圍來求出多個(gè)缺陷所進(jìn) 入的格子。
此外，本發(fā)明的檢查系統(tǒng)優(yōu)選所述復(fù)查裝置具有缺陷坐標(biāo)存儲(chǔ)部， 該缺陷坐標(biāo)存儲(chǔ)部存儲(chǔ)從所述缺陷檢查裝置輸出的缺陷的位置坐標(biāo)。
此外，本發(fā)明的檢查系統(tǒng)優(yōu)選所述復(fù)查裝置是具有空間調(diào)制元件、 并且?guī)в行拚δ艿膹?fù)査裝置，所述修正功能是以任意形狀一次照射多 束激光來進(jìn)行修正的功能。
此外，本發(fā)明的檢查系統(tǒng)優(yōu)選所述復(fù)查裝置具有不需照射激光部 分判定部，該不需照射激光部分判定部提取出需要進(jìn)行基于激光的修正 的缺陷部分，并排除不需要進(jìn)行修正的部分。
根據(jù)本發(fā)明，能夠?qū)⒂砂雽?dǎo)體制造工序產(chǎn)生的基板上的多個(gè)缺陷坐 標(biāo)歸納成進(jìn)入復(fù)查裝置的顯微鏡的同一攝像范圍內(nèi)的一個(gè)坐標(biāo)，因此能 夠減少為了進(jìn)行復(fù)查而使攝像范圍進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)的次數(shù)，能夠縮短檢査 時(shí)間。


圖1是示出應(yīng)用了本發(fā)明的檢查系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的圖。 圖2是示出復(fù)査文件的格式例的圖。
圖3是示出用于生成最佳復(fù)査文件的復(fù)查文件生成處理的流程的流 程圖。
圖4是用于詳細(xì)說明圖3的從步驟S303到步驟S307的處理的圖(之一)。圖5是用于詳細(xì)說明圖3的從步驟S303到步驟S307的處理的圖(之
二) 。
圖6是用于詳細(xì)說明圖3的從步驟S303到步驟S307的處理的圖(之
三) 。
圖7是用于詳細(xì)說明圖3的從步驟S303到步驟S307的處理的圖(之
四) 。
圖8是示出正常形成抗蝕劑圖案的狀態(tài)的圖。 圖9是示出在基板上形成有缺陷的狀態(tài)的圖。 圖IO是示出從缺陷中提取缺陷區(qū)域的狀態(tài)的圖。 圖11是示出電路設(shè)計(jì)版圖數(shù)據(jù)格式的一例的圖。 圖12是示出抗蝕劑圖案的例子的圖。
圖13是示出用于識(shí)別短路缺陷的短路缺陷識(shí)別處理的流程的圖。 圖14是示出短路缺陷進(jìn)入到同一攝像范圍內(nèi)的狀態(tài)的圖。 圖15是示出根據(jù)顯微鏡視野的矩形視野大小將作為復(fù)査/修正對(duì)象 的基板分割成格子狀的例子的圖。
圖16是在基板上示出復(fù)査文件的缺陷位置坐標(biāo)的圖。
圖17是示出顯微鏡僅在包含缺陷的觀察區(qū)域矩形中移動(dòng)的順序的圖。
圖18是示出用于確定顯微鏡的移動(dòng)順序的顯微鏡移動(dòng)順序確定處 理的流程的流程圖。
圖19是示出子程序"二維數(shù)組InspMap[maxX][maxY]數(shù)據(jù)設(shè)定處理" 的流程的流程圖。
圖20是用于說明缺陷定義的圖。
圖21是示出基板上的顯微鏡移動(dòng)規(guī)則的例子的圖。
符號(hào)說明
101缺陷檢査裝置；102生產(chǎn)數(shù)據(jù)管理服務(wù)器；103復(fù)查裝置；104 網(wǎng)絡(luò)；105坐標(biāo)管理服務(wù)器；201框；201a注釋；201b基板ID; 201c倒 角數(shù)；202框;202a倒角編號(hào);202b缺陷總數(shù);202c第l缺陷信息;202d 第2缺陷信息；202e第3缺陷信息；203框；401缺陷；402矩形；501
6顯微鏡視野；502中心坐標(biāo)；503缺陷；504缺陷；601中心坐標(biāo)；602矩 形；603缺陷;701中心坐標(biāo)；702缺陷;801、 802、 803、 901、 902、 903 圖案；904、 905、 906缺陷；1001、 1002、 1003、 1004、 1005、 1006缺 陷區(qū)域；1101開始位置坐標(biāo)；1102長度；1103寬度；1104個(gè)數(shù)；1105 重復(fù)間隔；1201開始位置坐標(biāo)；1202長度；1203寬度；1204a、 1204b、 1204c、 1205抗蝕劑圖案；1205重復(fù)間隔；1401顯微鏡視野；1501基板； 1502矩形區(qū)域;1503格子坐標(biāo);1601、 1602、 1603、 1604、 1605、 1606
缺陷；1701開始觀察位置；1702虛線；1703最終觀察位置；2001缺陷；
2002矩形;2003 X尺寸(DefectX); 2004 Y尺寸(DefectY); 2005左下 坐標(biāo)；2006右上坐標(biāo)；2101基板；2102顯微鏡移動(dòng)規(guī)則。
具體實(shí)施例方式
下面，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。在所有附圖中，即 使實(shí)施方式不同，也對(duì)同一部件或同等部件賦予同一符號(hào)，并省略重復(fù) 的說明。
(第1實(shí)施方式)
圖1是示出應(yīng)用了本發(fā)明的檢查系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的圖。
在圖1中，檢查系統(tǒng)是生產(chǎn)液晶基板的液晶基板生產(chǎn)系統(tǒng)的一部分， 具有與網(wǎng)絡(luò)104連接的缺陷檢查裝置101和復(fù)查裝置103。此外，在網(wǎng)絡(luò) 104上還連接有生產(chǎn)數(shù)據(jù)管理服務(wù)器102和坐標(biāo)管理服務(wù)器105。
缺陷檢查裝置101是如下這樣的自動(dòng)宏觀檢査裝置利用線傳感器 對(duì)基板整面進(jìn)行拍攝，檢測基板上的缺陷，取得包含缺陷位置坐標(biāo)和缺 陷尺寸的缺陷信息，該缺陷位置坐標(biāo)表示所述缺陷的位置，該缺陷尺寸 表示所述缺陷的尺寸。復(fù)查裝置103搭載有以高倍率觀察缺陷的微觀檢 查裝置，例如顯微鏡，并根據(jù)缺陷檢查裝置101所取得的缺陷位置坐標(biāo) 使攝像范圍進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)，通過顯微鏡對(duì)所述基板進(jìn)行觀察和檢查。
此外，生產(chǎn)數(shù)據(jù)管理服務(wù)器102具有對(duì)生產(chǎn)液晶基板的工廠的生產(chǎn) 線信息進(jìn)行統(tǒng)一管理的數(shù)據(jù)庫功能，坐標(biāo)管理服務(wù)器105具有生成并管 理復(fù)查數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫功能。一般情況下，通過重復(fù)進(jìn)行在玻璃基板上形成薄膜層并構(gòu)圖的工序 等制造工序，來制造液晶TV等液晶顯示裝置。然后，檢查工序?qū)υ搱D案 形成進(jìn)行評(píng)價(jià)。 一般的檢查處理以如下方式來進(jìn)行。
首先，通過生產(chǎn)工廠的運(yùn)送系統(tǒng)將光刻工序中制造的帶有圖案的玻
璃基板運(yùn)送到缺陷檢査裝置101中。接著，缺陷檢查裝置101按照所設(shè)
定的檢查條件(檢査處方)對(duì)玻璃基板整面進(jìn)行檢查，將涂布不均勻、
異物混入及圖案的錯(cuò)亂作為缺陷進(jìn)行檢測。然后，缺陷檢査裝置101使 用例如FTP (File Transfer Protocol:文件傳輸協(xié)議)，經(jīng)由網(wǎng)絡(luò)104將該 檢測結(jié)果登記到坐標(biāo)管理服務(wù)器105上。
坐標(biāo)管理服務(wù)器105在將所登記的該檢查結(jié)果變換成能夠登記到生 產(chǎn)數(shù)據(jù)管理服務(wù)器102中的格式之后，使用FTP并經(jīng)由網(wǎng)絡(luò)104，將其 作為文件登記到生產(chǎn)數(shù)據(jù)管理服務(wù)器102上。
接著，如上所述，通過運(yùn)送系統(tǒng)將由缺陷檢查裝置(自動(dòng)宏觀檢查 裝置)101檢査到圖案缺陷的基板運(yùn)送到復(fù)查裝置103中。之后，復(fù)查裝 置103生成將用于識(shí)別運(yùn)送來的基板的基板ID作為檢索條件的請(qǐng)求文 件，通過FTP向坐標(biāo)管理服務(wù)器105請(qǐng)求復(fù)査信息。
坐標(biāo)管理服務(wù)器105通過FTP從生產(chǎn)數(shù)據(jù)管理服務(wù)器102取得復(fù)査 文件。然后，坐標(biāo)管理服務(wù)器105按照內(nèi)部設(shè)定的變換信息生成最佳復(fù) 查文件，并將復(fù)査信息發(fā)送給復(fù)查裝置103。
復(fù)查裝置103根據(jù)所取得的最佳復(fù)査文件，使顯微鏡的顯微鏡鏡頭 進(jìn)行坐標(biāo)移動(dòng)，對(duì)缺陷圖像進(jìn)行拍攝。然后，通過圖像處理功能生成對(duì) 缺陷種類進(jìn)行分類后的結(jié)果來作為復(fù)查結(jié)果文件，并將其登記到坐標(biāo)管 理服務(wù)器105中。
坐標(biāo)管理服務(wù)器105在將該復(fù)查結(jié)果文件變換成能夠登記到生產(chǎn)數(shù) 據(jù)管理服務(wù)器102中的格式之后，使用FTP并經(jīng)由網(wǎng)絡(luò)104，將其登記 到生產(chǎn)數(shù)據(jù)管理服務(wù)器102中。
之后，從復(fù)查裝置中將基板運(yùn)送出來，結(jié)束檢查。 在上述這樣的檢查系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)了本發(fā)明。這里，對(duì)第1實(shí)施方式的 概略進(jìn)行說明。首先，復(fù)查裝置103接收缺陷檢查裝置101所提取出的缺陷的位置 坐標(biāo)。接著，復(fù)查裝置103利用顯微鏡來放大從缺陷檢査裝置101接收 到的缺陷并進(jìn)行拍攝，對(duì)其圖像進(jìn)行圖像處理，判定出不需要進(jìn)行基于 激光照射的修正(repair)的缺陷(偽缺陷)，從要進(jìn)行激光照射的修正對(duì) 象中去除該偽缺陷。這里，作為不需要進(jìn)行修正的缺陷例如指后述的 圖案彼此沒有短路、即使不進(jìn)行修正也不會(huì)造成實(shí)際損害的缺陷。
然后，根據(jù)缺陷檢查裝置101所檢測出的各缺陷圖像的位置坐標(biāo)， 來計(jì)算帶有激光修正功能的復(fù)査裝置103進(jìn)行檢查的順序。具體而言， 按照坐標(biāo)順序進(jìn)行分類，判定多個(gè)缺陷是否進(jìn)入到同一攝像范圍內(nèi)，在 進(jìn)入到同一范圍內(nèi)的情況下，使這些多個(gè)缺陷形成為一組，求出該組的 中心坐標(biāo)，確定進(jìn)行復(fù)査的順序。
最后，使復(fù)査裝置103的顯微鏡移動(dòng)，按照所確定的順序進(jìn)行復(fù)查， 并且根據(jù)需要來進(jìn)行激光修正。
圖2是示出復(fù)查文件的格式例的圖。
在圖2中，框201表示頭部區(qū)域，包含有以下基板信息來作為與復(fù) 查的基板有關(guān)的信息。即，這里的基板信息從第1行開始示出了注釋201a、 用于確定復(fù)査的基板的基板ID 201b、以及該基板所包含的倒角數(shù)201c。
框202表示基板內(nèi)的各倒角的缺陷信息。即，這里的缺陷信息從第 1行開始示出了倒角編號(hào)202a、該倒角區(qū)域內(nèi)包括的缺陷總數(shù)202b、第 l缺陷信息202c、第2缺陷信息202d以及第3缺陷信息202e。這些第1 缺陷信息202c至第3缺陷信息202e分別由索引、X坐標(biāo)、Y坐標(biāo)、X尺 寸、Y尺寸構(gòu)成。例如在第l缺陷信息202c中，索引為"01"，X坐標(biāo)為"lll"， Y坐標(biāo)為"lll"， X尺寸為"10"， Y尺寸為"10"。
框203表示其它的倒角編號(hào)2到4的缺陷信息。
這樣的復(fù)查文件是以列表狀來記載進(jìn)行復(fù)査的缺陷坐標(biāo)的文件，是 根據(jù)缺陷檢查裝置101或其他檢査裝置所生成的結(jié)果數(shù)據(jù)而制成的。
接著，對(duì)最佳復(fù)查文件的生成方法進(jìn)行說明。
圖3是示出用于生成最佳復(fù)查文件的復(fù)査文件生成處理的流程的流 程圖。首先，在步驟S301中，對(duì)復(fù)查文件的缺陷坐標(biāo)數(shù)據(jù)進(jìn)行分類，生成 坐標(biāo)列表，以使顯微鏡能夠按照最短距離的順序在缺陷點(diǎn)之間移動(dòng)。其 理由是在保持升序或者降序的狀態(tài)下對(duì)復(fù)査文件的缺陷坐標(biāo)數(shù)據(jù)進(jìn)行 處理時(shí)，并不一定能夠進(jìn)行使顯微鏡以最短距離移動(dòng)的有效控制。
接著，以使顯微鏡的移動(dòng)次數(shù)成為最小為目的，使要進(jìn)行復(fù)查的、 同時(shí)進(jìn)入到顯微鏡倍率的同一攝像范圍(視野)內(nèi)的缺陷成為一組。作
為具體的步驟，首先在步驟S302中，對(duì)用于管理所生成的新坐標(biāo)數(shù)據(jù)的 復(fù)查列表進(jìn)行初始化。接著，在步驟S303中，將在步驟S301中分類后 的坐標(biāo)列表的開頭坐標(biāo)設(shè)定為基準(zhǔn)缺陷坐標(biāo)。然后，在步驟S304中，對(duì) 列表中的下一個(gè)缺陷坐標(biāo)與基準(zhǔn)缺陷坐標(biāo)進(jìn)行比較，在步驟S305中，判 斷這些缺陷坐標(biāo)是否同時(shí)進(jìn)入到同一攝像范圍內(nèi)。
在判斷為多個(gè)缺陷進(jìn)入到同一攝像范圍內(nèi)的情況下(步驟S305:是)， 在步驟S306中使判斷為進(jìn)入同一攝像范圍內(nèi)的多個(gè)缺陷成為一組，計(jì)算 該組的中心坐標(biāo)。然后，返回步驟S303的基準(zhǔn)缺陷坐標(biāo)設(shè)定步驟，以將 該組的中心坐標(biāo)設(shè)為新的基準(zhǔn)缺陷坐標(biāo)。
另一方面，在判斷為有其他缺陷未進(jìn)入到同一攝像范圍內(nèi)的情況下 (步驟S305:否)，在步驟S307中，在對(duì)所述新坐標(biāo)數(shù)據(jù)進(jìn)行管理的復(fù) 査列表中，追加此時(shí)(即判斷出沒有同時(shí)進(jìn)入同一攝像范圍內(nèi)時(shí))所保 持的基準(zhǔn)缺陷坐標(biāo)，然后保持下一個(gè)缺陷坐標(biāo)來作為基準(zhǔn)缺陷坐標(biāo)的候 選。之后，在步驟S308中，判斷是否是坐標(biāo)列表的最后數(shù)據(jù)，在判斷為 坐標(biāo)列表中還有剩余數(shù)據(jù)的情況下(步驟S308:是)，返回步驟S303的 基準(zhǔn)缺陷坐標(biāo)設(shè)定步驟，以將步驟S307中所保持的基準(zhǔn)缺陷坐標(biāo)的候選 設(shè)為新的基準(zhǔn)缺陷坐標(biāo)。另一方面，在判斷為是坐標(biāo)列表的最后數(shù)據(jù)的 情況下(步驟S308:否)，結(jié)束本復(fù)查文件生成處理。
接著，對(duì)從上述基準(zhǔn)缺陷坐標(biāo)的設(shè)定步驟(步驟S303)到復(fù)查列表 追加步驟(步驟S307)的處理進(jìn)行詳細(xì)說明。
圖4、圖5、圖6和圖7是用于詳細(xì)說明圖3的從步驟S303到步驟 S307的處理的圖。
圖4是示出了缺陷401以及該缺陷所進(jìn)入的尺寸的矩形402的圖，在本實(shí)施方式中，將該矩形402作為缺陷來處理。
圖5是示出缺陷503的中心坐標(biāo)與顯微鏡視野(攝像范圍)501的 中心坐標(biāo)502重合的狀態(tài)的圖，該缺陷503為圖3中第1次進(jìn)行步驟S303 時(shí)所設(shè)定的基準(zhǔn)缺陷坐標(biāo)。此外，缺陷504表示靠近缺陷503的下一個(gè) 缺陷。
圖6是示出在圖3的步驟S306中計(jì)算中心坐標(biāo)后的狀態(tài)的圖。這里， 所計(jì)算出的中心坐標(biāo)601是顯微鏡視野501內(nèi)所包含的、將缺陷503和 缺陷504包圍的矩形602的中心坐標(biāo)。此外，缺陷603表示更靠近缺陷 503的下一個(gè)缺陷。
圖7是示出在步驟S306中第2次計(jì)算了中心坐標(biāo)后的狀態(tài)的圖，計(jì) 算出除了缺陷503、缺陷504之外，在顯微鏡視野501內(nèi)還包含缺陷603 的組的中心坐標(biāo)701。這里，還包含缺陷702的組、即由缺陷503、缺陷 504、缺陷603和缺陷702構(gòu)成的缺陷的組的尺寸超過了顯微鏡視野，因 此僅將缺陷503、缺陷504和缺陷603設(shè)為一組，將該組的中心坐標(biāo)701 追加到復(fù)査列表中。使用通過這些處理而生成的復(fù)查列表，使顯微鏡移 動(dòng)到分成一組的多個(gè)缺陷503、 504、 603的中心坐標(biāo)701，由此能夠?qū)崿F(xiàn) 移動(dòng)次數(shù)最少的復(fù)查，縮短了檢査時(shí)間。
另外，在本實(shí)施方式中，通過設(shè)置坐標(biāo)管理服務(wù)器105來另外進(jìn)行 復(fù)査文件生成處理，但對(duì)于即使該復(fù)查文件生成處理導(dǎo)致檢查時(shí)間的延 遲也不會(huì)引起問題的系統(tǒng)而言，也可以由復(fù)査裝置103內(nèi)部的程序來執(zhí) 行復(fù)査文件生成處理。此外，也可以使坐標(biāo)管理服務(wù)器105包含本功能， 從而由坐標(biāo)管理服務(wù)器105來進(jìn)行變換后的復(fù)査文件生成。此外，雖然 將缺陷視為矩形，但是只要包圍所要進(jìn)行觀察的缺陷，則也可以包括曲 線。
接著，對(duì)具有圖案修正功能的復(fù)査裝置的復(fù)查坐標(biāo)計(jì)算方法進(jìn)行說明。
這里，所謂圖案修正功能是指通過對(duì)作為修正對(duì)象的缺陷進(jìn)行激光 照射來切除跨越例如兩個(gè)圖案之間的缺陷的功能，例如具有日本特幵 2006-350123號(hào)公報(bào)中的、通過控制微反射鏡陣列來切削成任意形狀的圖案的方法。在這種切削成任意形狀的圖案的情況下，沒有必要將上述第1 實(shí)施方式所示的缺陷全體所進(jìn)入的矩形作為基準(zhǔn)，而只要考慮布線圖案， 并僅將要進(jìn)行激光切除的區(qū)域作為對(duì)象坐標(biāo)進(jìn)行計(jì)算即可。
圖8是示出正常形成抗蝕劑圖案的狀態(tài)的圖。圖9是示出在基板上
形成有缺陷的狀態(tài)的圖。圖10是示出從缺陷中提取缺陷區(qū)域的狀態(tài)的圖。 在圖8中，在基板上正常形成有圖案801、圖案802和圖案803這
三個(gè)抗蝕劑圖案。
在圖9中，與形成在基板上的圖案901、圖案902和圖案903這三
個(gè)正常的抗蝕劑圖案一起，還存在與這些圖案重疊的缺陷904、缺陷905
和缺陷906。
這里，例如將圖8所示的僅存在正?？刮g劑圖案的圖像作為參考圖 像，執(zhí)行與圖9所示的包含缺陷卯l等的圖像進(jìn)行比較的圖像處理，之 后如圖10所示，作為它們的差分，提取出沒有形成在正常的抗蝕劑圖案 上的缺陷的一部分，即缺陷區(qū)域IOOI、缺陷區(qū)域1002、缺陷區(qū)域1003、 缺陷區(qū)域1004、缺陷區(qū)域1005以及缺陷區(qū)域1006。
接著，對(duì)用于識(shí)別這些缺陷區(qū)域1001至缺陷區(qū)域1006中的需要進(jìn) 行修正的短路缺陷、即跨越圖案之間的缺陷的流程進(jìn)行說明。
圖11是示出電路設(shè)計(jì)版圖數(shù)據(jù)格式的一例的圖，圖12是示出抗蝕 劑圖案的例子的圖。
圖11的開始位置坐標(biāo)1101表示圖12的抗蝕劑圖案1204a的開始位 置坐標(biāo)(X、 Y) 1201，長度1102表示圖12的抗蝕劑圖案1204a的長度 1202。此外，寬度1103是抗蝕劑圖案1204a的寬度，表示圖12的抗蝕 劑圖案1204a的長度1203，個(gè)數(shù)1104表示與由上述長度1102和寬度1103 定義的抗蝕劑圖案1204a相同尺寸的抗蝕劑圖案的個(gè)數(shù)。在圖12所示的 例子中，示出了存在抗蝕劑圖案1204a、抗蝕劑圖案1204b和抗蝕劑圖案 1204c這三個(gè)抗蝕劑圖案的情況。并且，重復(fù)間隔1105表示抗蝕劑圖案 1204a和與其相鄰的抗蝕劑圖案1204b之間的間隔，在圖12中利用重復(fù) 間隔1205來表示。另外，抗蝕劑圖案1204b和與其相鄰的抗蝕劑圖案 1204c之間的間隔也是利用重復(fù)間隔1105所定義的間隔。
12圖13是示出用于識(shí)別短路缺陷的短路缺陷識(shí)別處理的流程的流程圖。
本短路缺陷識(shí)別處理是為了識(shí)別上述的圖案彼此沒有短路、即使不 進(jìn)行修正也不會(huì)造成實(shí)際損害的缺陷和需要進(jìn)行修正的缺陷而執(zhí)行的處 理。
首先，在步驟S1301中，生成對(duì)修正缺陷的矩形坐標(biāo)進(jìn)行管理的修 正列表，并對(duì)該列表進(jìn)行初始化，在步驟S1302中，定義抗蝕劑圖案的 重復(fù)數(shù)，即例如在圖11所例示的版圖數(shù)據(jù)格式中記載的Number二3。
接著，在步驟S1303中，為了使步驟S1304及S1304之后的處理重 復(fù)執(zhí)行與重復(fù)數(shù)相同的次數(shù)，判斷Number是否小于等于l，在判斷為小 于等于l的情況下(步驟S1303:是)，結(jié)束本短路缺陷識(shí)別處理。
另一方面，在判斷為Number大于1的情況下(步驟S1303:否)， 在步驟S1304中，計(jì)算禁止短路的區(qū)域的坐標(biāo)、禁止區(qū)域坐標(biāo)X1和X2。 這里，XI是通過對(duì)例如圖10的圖案901的中心坐標(biāo)(PointX)加上圖案 卯l的寬度的一半而得到的。其為圖案801的右側(cè)的邊緣坐標(biāo)。并且， X2是通過對(duì)圖案801的中心坐標(biāo)(PointX)加上圖案重復(fù)間隔(Interval) 之后，再減去圖案801的寬度的一半而得到的。該X2是圖案802左側(cè)的 邊緣坐標(biāo)。
接著，在步驟S1305中，判斷例如圖IO所示的缺陷1001至1006是 否位于步驟S1304中所計(jì)算出的X1至X2之間。具體而言，將包圍缺陷 1001等的矩形的左下坐標(biāo)和右上坐標(biāo)分別設(shè)為(DefectL、 DefectB)和 (DefectR、 DefectT)，判斷XI是否大于等于DefectL，并且X2是否小 于等于DefectR。
然后，在判斷為缺陷1001等是位于從XI到X2之間的缺陷的情況 下(1305:是)，在步驟S1306中，利用下式來設(shè)定矩形坐標(biāo)(RepairerL、 RepairerR、 RepairerB、 RepairerT)。
RepairerL-Xl
RepairerR=X2
RepairerB-DefectBRepairerT=DefectT
進(jìn)而，在步驟S1307中，將步驟S1306中設(shè)定的矩形坐標(biāo)追加到修 正列表中。然后，在步驟S1308中，對(duì)變量Number加1以識(shí)別下一個(gè)缺 陷，對(duì)PointX加上圖案的間隔，返回步驟S1304。
利用本短路缺陷識(shí)別處理，能夠識(shí)別出例如圖10的缺陷1002和缺 陷1004這兩個(gè)缺陷，作為應(yīng)進(jìn)行修正的短路缺陷。由此，能夠防止向不 需要進(jìn)行修正的部分進(jìn)行照射。
圖14是示出短路缺陷進(jìn)入到同一攝像范圍內(nèi)的狀態(tài)的圖。
在圖14中，通過使用圖13說明的短路缺陷識(shí)別處理而識(shí)別出缺陷 1002和缺陷1004，通過使用圖3至圖7等說明的處理而判斷出進(jìn)入到同 一攝像范圍內(nèi)。然后，如上所述，若使用能夠利用微反射鏡陣列控制將 顯微鏡視野1401內(nèi)的缺陷1002和缺陷1004切削成任意形狀的圖案的修 正功能，則能夠?qū)@些缺陷1002和缺陷1004同時(shí)進(jìn)行修正，減少了坐 標(biāo)移動(dòng)次數(shù)，能夠高效地進(jìn)行以修正為目的的復(fù)查。
根據(jù)本第1實(shí)施方式，在將由半導(dǎo)體制造工序產(chǎn)生的多個(gè)缺陷歸納 到進(jìn)入顯微鏡的同一攝像范圍內(nèi)的一個(gè)組中時(shí)，通過添加與需要進(jìn)行修 正的缺陷有關(guān)的信息，能夠減少以修正為目的的復(fù)查坐標(biāo)的坐標(biāo)移動(dòng)， 能夠縮短檢查時(shí)間。
此外，根據(jù)本第1實(shí)施方式，與復(fù)查相獨(dú)立地執(zhí)行將由半導(dǎo)體制造 工序產(chǎn)生的多個(gè)缺陷歸納到進(jìn)入顯微鏡的同一攝像范圍內(nèi)的一個(gè)組中的 計(jì)算處理，由此能夠從檢查裝置去除與計(jì)算處理有關(guān)的負(fù)荷，能夠縮短 計(jì)算處理所需要的處理時(shí)間。 (第2實(shí)施方式)
應(yīng)用了本發(fā)明的第2實(shí)施方式是將觀察區(qū)域矩形均勻地配置在基板 上、并將該矩形的中心坐標(biāo)作為觀察坐標(biāo)的方法。
本第2實(shí)施方式在與實(shí)現(xiàn)了第1實(shí)施方式的檢查系統(tǒng)相同結(jié)構(gòu)的檢 査系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)。這里，對(duì)第2實(shí)施方式的概略進(jìn)行說明。
首先，復(fù)查裝置103接收缺陷檢查裝置101所提取出的缺陷的位置 坐標(biāo)。接著，復(fù)査裝置103利用顯微鏡來放大從缺陷檢査裝置101接收
14到的缺陷并進(jìn)行拍攝，針對(duì)其圖像，使用第1實(shí)施方式中說明的圖13的 短路缺陷識(shí)別處理，并通過圖像處理來判定不需要進(jìn)行修正的部分，從 修正對(duì)象中去除該部分。
然后，根據(jù)缺陷圖像的位置坐標(biāo)，來計(jì)算帶有激光修正功能的復(fù)查 裝置103進(jìn)行檢查的順序。具體而言，準(zhǔn)備了多個(gè)根據(jù)顯微鏡的視野大 小而將基板切分成格子狀后的格子坐標(biāo)(格子編號(hào))，對(duì)缺陷檢查裝置101 所檢測出的缺陷適用格子坐標(biāo)。對(duì)于跨越多個(gè)格子的缺陷，由于是中心 坐標(biāo)和尺寸信息，因此判斷進(jìn)入到另外的哪個(gè)格子坐標(biāo)中，求出所進(jìn)入 的格子坐標(biāo)，確定進(jìn)行復(fù)查的順序。
最后，使復(fù)査裝置103的顯微鏡移動(dòng)，按照所確定的順序來進(jìn)行復(fù)
查，并根據(jù)需要來進(jìn)行激光修正。
圖15是示出根據(jù)顯微鏡視野的矩形視野大小將作為復(fù)查/修正對(duì)象
的基板分割成格子狀的例子的圖。
在圖15中，基板1501的坐標(biāo)以左下為原點(diǎn)(0， 0)，以橫軸為X 軸，以縱軸為Y軸。然后，在分割成格子狀的各矩形區(qū)域1502中附上由 X行Y列表示的格子坐標(biāo)1503 。
圖16是在基板上示出復(fù)查文件的缺陷位置坐標(biāo)的圖。 在圖16中，缺陷1601、缺陷1602、缺陷1603、缺陷1604、缺陷 1605以及缺陷1606中的缺陷1602和缺陷1603進(jìn)入到同一矩形區(qū)域(2， 4)中。此外，缺陷1606是跨越三個(gè)矩形區(qū)域(7， 1) (8， 1) (9， 1) 的缺陷。
圖17是示出顯微鏡僅在包含缺陷的觀察區(qū)域矩形中移動(dòng)的順序的圖。
在圖17中，示出了沿著從開始觀察位置1701連接到最終觀察位置 1703的虛線1702來依次觀察以下坐標(biāo)的情況格子坐標(biāo)(1， 3)、格子 坐標(biāo)(2， 4)、格子坐標(biāo)(3， 6)、格子坐標(biāo)(5， 3)、格子坐標(biāo)(7， 1)、 格子坐標(biāo)(8, 1)和格子坐標(biāo)(9， 1)，這些坐標(biāo)是包含作為觀察對(duì)象的 缺陷的矩形區(qū)域的中心。
圖18是示出用于確定顯微鏡的移動(dòng)順序的顯微鏡移動(dòng)順序確定處
15理的流程的流程圖。
在本顯微鏡移動(dòng)順序確定處理中，根據(jù)復(fù)查文件的缺陷信息來確定 包含作為觀察/修正對(duì)象的缺陷的矩形區(qū)域，從而確定顯微鏡的移動(dòng)順序。
首先，在步驟S1801中，利用與圖15所示的觀察視野大小相當(dāng)?shù)木?形區(qū)域1502將基板1501分割成格子狀，生成針對(duì)矩形區(qū)域?qū)⒏褡幼鴺?biāo) 1503作為要素編號(hào)的二維數(shù)組InspMap[maxX][maxY]映射表。這里， maxX是利用矩形區(qū)域1502的橫向?qū)挾葋韺?duì)橫軸進(jìn)行分割時(shí)所需要的個(gè) 數(shù)，maxY是利用矩形區(qū)域1502的縱向?qū)挾葋韺?duì)縱軸進(jìn)行分割時(shí)所需要 的個(gè)數(shù)。
接著，在步驟S1802中，對(duì)二維數(shù)組的所有要素的數(shù)據(jù)進(jìn)行初始化。
然后，在步驟S1803中，讀入復(fù)査文件，取得復(fù)查文件所示出的所 有信息(缺陷信息、尺寸X、尺寸Y)。這里，為了便于說明，缺陷的坐 標(biāo)系將圖15所示的左下設(shè)為原點(diǎn)。
接著，在步驟S1804中，執(zhí)行子程序"二維數(shù)組InspMap[maxX][maxY] 數(shù)據(jù)設(shè)定處理"，該"二維數(shù)組InspMap[maxX][maxY]數(shù)據(jù)設(shè)定處理"對(duì)與 缺陷坐標(biāo)一致的二維數(shù)組InspMap[maxX][maxY]設(shè)定數(shù)據(jù)。
圖19是示出子程序"二維數(shù)組InspMap[maxX][maxY]數(shù)據(jù)設(shè)定處理，， 的流程的流程圖，圖20是用于說明缺陷的定義的圖。
在圖20中，用DefectX來表示缺陷2001的X尺寸2003，用DefectY 來表示Y尺寸2004。此外，用RectL_X來表示包圍缺陷2001的矩形2002 的左下坐標(biāo)2005的X坐標(biāo)2005X，用RectB一Y來表示Y坐標(biāo)2005Y， 用RectR_X來表示右上坐標(biāo)2006的X坐標(biāo)2006X，用RectT一Y來表示 Y坐標(biāo)2006Y。
圖19所示的子程序"二維數(shù)組InspMap[maxX][maxY]數(shù)據(jù)設(shè)定處理" 是如下這樣的處理在使坐標(biāo)變更與缺陷的坐標(biāo)數(shù)相同的次數(shù)的同時(shí)， 重復(fù)進(jìn)行步驟S1卯0和步驟S1912所示的"復(fù)査缺陷坐標(biāo)數(shù)循環(huán)"之間的 各步驟，即步驟S1卯1至步驟S1911。
首先，在步驟S1901中，計(jì)算復(fù)查文件的最初的缺陷的X尺寸 DefectX2003、 Y尺寸RefectY2004、矩形2002的左下坐標(biāo)2005的X坐標(biāo)RectL—X2005X、 Y坐標(biāo)RectB—Y2005Y、右上坐標(biāo)2006的X坐標(biāo) RectR—X2006和Y坐標(biāo)RectT—Y2006Y。
接著，在步驟S1902中，分別對(duì)本子程序內(nèi)部的變量PointX和PointY 設(shè)定RectL—X和RectB一Y，來作為初始值。然后，在步驟S903中，計(jì) 算該矩形2002的坐標(biāo)與二維數(shù)組InspMap中的哪個(gè)要素?cái)?shù)一致。二維數(shù) 組InspMap的要素?cái)?shù)分別利用InspMap[ElementX][ElementY]來表示，將 ElementX的初始值設(shè)為InitElementX，將ElementY的初始值設(shè)為 InitElementY，并根據(jù)如下所示進(jìn)行計(jì)算。
InitElementX-PointX/InspAreaX
ElementX=InitElement
InitElementY=PointY/InspArea
ElementY=InitElementY
然后，在步驟S1904中，對(duì)與步驟S1903中計(jì)算出的要素?cái)?shù)一致的 InspMap[ElementX][ElementY]的數(shù)據(jù)加1，在步驟Sl卯5中，為了求出向 右側(cè)(X軸的正方向)一個(gè)的格子坐標(biāo)，對(duì)ElementX加1 ，求出該ElementX 的開始坐標(biāo)值PointX。
接著，在步驟S1906中，判斷通過步驟Sl卯5而計(jì)算出的ElementX 的開始坐標(biāo)值PointX是否超過了對(duì)象缺陷的矩形坐標(biāo)RectR_X，即判斷 缺陷是否連續(xù)。如果開始坐標(biāo)值PointX超過了矩形坐標(biāo)RectR—X，則表 示缺陷不連續(xù)。并且，在判斷為開始坐標(biāo)值PointX沒有超過矩形坐標(biāo) RectR—X的情況下(步驟S1906:否)，在步驟S1907中對(duì)InspMap [ElementX] [ElementY]的數(shù)據(jù)加1，返回步驟S1905。
另一方面，在判斷為開始坐標(biāo)值PointX小于等于矩形坐標(biāo)RectR—X 的情況下(步驟S1卯6:是)，判斷為該ElementX中不存在缺陷，進(jìn)入步 驟S1908。
接著，在步驟S1908中，使X軸的參數(shù)坐標(biāo)編號(hào)ElementX和開始 坐標(biāo)值PointX恢復(fù)到初始值，之后在步驟S1909中，為了求出向上側(cè)(Y 軸的正方向) 一個(gè)的格子坐標(biāo)，使ElementY加l，求出該ElementY的開 始坐標(biāo)值PointY。
17接著，在步驟S1910中，判斷通過步驟S1909而計(jì)算出的ElementY 的開始坐標(biāo)值PointY是否超過了對(duì)象缺陷的矩形坐標(biāo)RectR—Y，即判斷 缺陷是否連續(xù)。如果開始坐標(biāo)值PointY超過了矩形坐標(biāo)RectR—Y，則表 示缺陷不連續(xù)。并且，在判斷為開始坐標(biāo)值PointY沒有超過矩形坐標(biāo) RectR—Y的情況下(步驟S1910:否)，在步驟S1911中對(duì)InspMap [ElementX] [ElementY]的數(shù)據(jù)加1，返回步驟S1905。
另一方面，在判斷為開始坐標(biāo)值PointY小于等于矩形坐標(biāo)RectR一Y 的情況下(步驟S1910:是)，判斷為該ElementY中不存在缺陷。然后， 在結(jié)束了缺陷坐標(biāo)數(shù)的循環(huán)數(shù)后，結(jié)束本子程序"二維數(shù)組 InspMap[maxX][maxY]數(shù)據(jù)設(shè)定處理"。
如上所述，通過執(zhí)行使用圖19和圖20所說明的、圖18的步驟S1804 的子程序"二維數(shù)組InspMap[maxX][maxY]數(shù)據(jù)設(shè)定處理"，0以上的數(shù) 據(jù)進(jìn)入到檢査對(duì)象的InspMap[ElementX][ElementY]中，因此只要使顯微 鏡依次移動(dòng)到O以外的數(shù)據(jù)所進(jìn)入的InspMap[ElementX][ ElementY]的中 心坐標(biāo)來進(jìn)行檢查即可。
圖21是示出基板上的顯微鏡移動(dòng)規(guī)則的例子的圖。
在圖21中，基板2101上的箭頭2102表示顯微鏡的移動(dòng)規(guī)則。圖 18的步驟S1805及S1805之后都遵循該移動(dòng)規(guī)則。
返回圖18的說明。
在步驟S1805中，將InspMap[ElementX][ ElementY]的ElementX初 始化為0。
接著，在步驟S1806中，判斷ElementX是偶數(shù)還是奇數(shù)。
在判斷為ElementX是偶數(shù)的情況下(步驟S1806:是)，在步驟S1807 中將ElementY初始化為0;在判斷為ElementY是奇數(shù)的情況下(步驟 S1806:否)，在步驟S1808中將ElementY設(shè)定為MaxY。
接著，在步驟S1809中，判斷是否有數(shù)據(jù)進(jìn)入InspMap [ElementX][ ElementY]中(1以上)。
在判斷為有數(shù)據(jù)進(jìn)入的情況下(步驟S1809:是)，在步驟S1810中， 通過下式來計(jì)算InspMap[ElementX][ElementY]的中心坐標(biāo)，作為顯微鏡移動(dòng)的坐標(biāo)(MoveX、 MoveY)。
MoveX=ElementXxInspAreaX+Insp AreaX/2 MoveY=ElementYxInspAreaY+InspAreaY/2
然后，在步驟S1811中，生成用于使顯微鏡移動(dòng)到步驟S1810中計(jì) 算出的坐標(biāo)(MoveX、 MoveY)的列表。
接著，在步驟S1812中，再次判斷ElementX是偶數(shù)還是奇數(shù)。
在判斷為ElementX是偶數(shù)的情況下(步驟S1812:是)，在步驟S1813 中對(duì)ElementY加1 ，在步驟S1814中，判斷ElementY是否大于等于MaxY。 然后，在判斷為小于MaxY的情況下(步驟S1814:否)，返回步驟S1809， 在判斷為大于等于MaxY的情況下(步驟S1814:是)，進(jìn)入步驟S1817。
另一方面，在步驟S1812中判斷為ElementY是奇數(shù)的情況下(步驟 S1812:否)，在步驟S1815中對(duì)ElementY減1，在步驟S1816中，判斷 ElementY是否小于0。然后，在判斷為大于等于0的情況下(步驟S1816-否)，返回步驟S1809，在判斷為小于0的情況下(步驟S1816:是)，進(jìn) 入步驟S1817。
然后，在步驟S1817中，對(duì)ElementX加l。
最后，在步驟S1818中，判斷ElementX是否大于等于MaxX，在判 斷為小于MaxX的情況下(步驟S1818:否)，返回步驟S1807，在判斷 為大于等于MaxX的情況下(步驟S1818:是)，結(jié)束本顯微鏡移動(dòng)順序 確定處理。
根據(jù)本第2實(shí)施方式，使用預(yù)先生成的觀察區(qū)域矩形，求出了能夠 一次進(jìn)行觀察的缺陷，因此能夠減小用于計(jì)算的負(fù)荷，能夠迅速地求出 觀察順序。
以上，參照附圖對(duì)本發(fā)明的各實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但是，應(yīng)用本 發(fā)明的檢查系統(tǒng)所具有的缺陷檢查裝置和復(fù)查裝置只要能夠執(zhí)行該功 能，則不限于上述各實(shí)施方式，當(dāng)然還可以是各自都為單體的裝置、由 多個(gè)裝置構(gòu)成的系統(tǒng)或集成裝置、以及經(jīng)由LAN、 WAN等網(wǎng)絡(luò)來進(jìn)行處 理的系統(tǒng)。
此外，利用由與總線連接的CPU、 ROM或RAM存儲(chǔ)器、輸入裝置、輸出裝置、外部記錄裝置、介質(zhì)驅(qū)動(dòng)裝置、移動(dòng)記錄介質(zhì)、網(wǎng)絡(luò)連接裝置構(gòu)成的系統(tǒng)也能夠?qū)崿F(xiàn)上述功能。即，將記錄有用于實(shí)現(xiàn)上述各實(shí)施
方式的系統(tǒng)的軟件程序碼的ROM或RAM存儲(chǔ)器、外部記錄裝置、移動(dòng)記錄介質(zhì)提供給缺陷檢查裝置或復(fù)查裝置，利用該缺陷檢查裝置或復(fù)查裝置的計(jì)算機(jī)讀出程序碼，由此當(dāng)然也可以實(shí)現(xiàn)上述功能。
在該情況下，利用從移動(dòng)記錄介質(zhì)等讀出的程序碼自身來實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的創(chuàng)新功能，因此記錄有該程序碼的移動(dòng)記錄介質(zhì)等也構(gòu)成本發(fā)明。
作為用于提供程序碼的移動(dòng)記錄介質(zhì)，例如可以使用軟盤、硬盤、光盤、光磁盤、CD-ROM、 CD-R、 DVD-ROM、 DVD-RAM、磁帶、非易失性存儲(chǔ)卡、ROM卡、以及通過電子郵件或個(gè)人計(jì)算機(jī)通信等的網(wǎng)絡(luò)連接裝置(即通信線路)來進(jìn)行記錄的各種存儲(chǔ)介質(zhì)等。
此外，除了通過計(jì)算機(jī)執(zhí)行在存儲(chǔ)器上讀出的程序碼來實(shí)現(xiàn)上述各實(shí)施方式的功能之外，還可以根據(jù)該程序碼的指示，由在計(jì)算機(jī)上工作的OS等來進(jìn)行實(shí)際處理的一部分或者全部，通過該處理也能實(shí)現(xiàn)上述各實(shí)施方式的功能。
而且，在從移動(dòng)記錄介質(zhì)讀出的程序碼或從程序(數(shù)據(jù))提供者提供的程序(數(shù)據(jù))被寫入到設(shè)置在插入于計(jì)算機(jī)中的功能擴(kuò)展板或與計(jì)算機(jī)連接的功能擴(kuò)展單元上的存儲(chǔ)器中后，根據(jù)該程序碼的指示，設(shè)置在該功能擴(kuò)展板或功能擴(kuò)展單元上的CPU等進(jìn)行實(shí)際處理的一部分或全部，通過該處理也能夠?qū)崿F(xiàn)上述各實(shí)施方式的功能。
艮卩，本發(fā)明不限于上述各實(shí)施方式等，在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)可以獲得各種結(jié)構(gòu)或形狀。
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權(quán)利要求
1. 一種檢查系統(tǒng)，該檢查系統(tǒng)具有缺陷檢查裝置和復(fù)查裝置，其特征在于，所述缺陷檢查裝置對(duì)形成在基板上的缺陷進(jìn)行識(shí)別，并取得缺陷信息，所述缺陷信息包含表示所述缺陷的位置坐標(biāo)的缺陷位置坐標(biāo)和表示所述缺陷的尺寸的缺陷尺寸，所述復(fù)查裝置根據(jù)所述缺陷檢查裝置所取得的所述缺陷位置坐標(biāo)，使攝像范圍相對(duì)移動(dòng)，利用顯微鏡對(duì)所述基板進(jìn)行檢查，所述復(fù)查裝置具有坐標(biāo)計(jì)算部，該坐標(biāo)計(jì)算部根據(jù)所述缺陷信息和用于構(gòu)成所述攝像范圍的攝像范圍信息，來計(jì)算使所述相對(duì)移動(dòng)的次數(shù)減少的坐標(biāo)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢査系統(tǒng)，其特征在于， 所述坐標(biāo)計(jì)算部設(shè)置在與所述復(fù)査裝置不同的裝置中。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查系統(tǒng)，其特征在于， 所述坐標(biāo)計(jì)算部具有同一視野內(nèi)缺陷提取部，該同一視野內(nèi)缺陷提取部用于求出多個(gè)缺陷同時(shí)進(jìn)入所述顯微鏡的同一攝像范圍內(nèi)的坐標(biāo)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢査系統(tǒng)，其特征在于， 所述坐標(biāo)計(jì)算部具有格子坐標(biāo)設(shè)定部，該格子坐標(biāo)設(shè)定部根據(jù)所述顯微鏡的攝像范圍來求出多個(gè)缺陷所進(jìn)入的格子。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查系統(tǒng)，其特征在于， 所述復(fù)查裝置具有缺陷坐標(biāo)存儲(chǔ)部，該缺陷坐標(biāo)存儲(chǔ)部存儲(chǔ)從所述缺陷檢查裝置輸出的缺陷的位置坐標(biāo)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查系統(tǒng)，其特征在于， 所述復(fù)查裝置是具有空間調(diào)制元件、并且?guī)в行拚δ艿膹?fù)查裝置，所述修正功能是以任意形狀一次照射多束激光來進(jìn)行修正的功能。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查系統(tǒng)，其特征在于， 所述復(fù)查裝置具有不需照射激光部分判定部，該不需照射激光部分判定部提取出需要利用激光進(jìn)行修正的缺陷部分，并排除不需要進(jìn)行修 正的部分。
全文摘要
本發(fā)明提供能夠高效地進(jìn)行復(fù)查，從而實(shí)現(xiàn)檢查時(shí)間縮短的檢查系統(tǒng)。該檢查系統(tǒng)具有缺陷檢查裝置和復(fù)查裝置，其中，所述缺陷檢查裝置對(duì)形成在基板上的缺陷進(jìn)行識(shí)別，并取得缺陷信息，所述缺陷信息包含表示所述缺陷的位置坐標(biāo)的缺陷位置坐標(biāo)和表示所述缺陷的尺寸的缺陷尺寸。并且，所述復(fù)查裝置根據(jù)所述缺陷檢查裝置所取得的所述缺陷位置坐標(biāo)，使攝像范圍相對(duì)移動(dòng)，利用顯微鏡對(duì)所述基板進(jìn)行檢查，所述檢查系統(tǒng)具有坐標(biāo)計(jì)算部，該坐標(biāo)計(jì)算部根據(jù)所述缺陷信息和用于構(gòu)成所述攝像范圍的攝像范圍信息，來計(jì)算使所述相對(duì)移動(dòng)的次數(shù)減少的坐標(biāo)。
文檔編號(hào)H01L21/00GK101499434SQ200910000979
公開日2009年8月5日 申請(qǐng)日期2009年1月23日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月30日
發(fā)明者高橋武博 申請(qǐng)人:奧林巴斯株式會(huì)社