專利名稱：噴射裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種使用在化學(xué)機(jī)械研磨制程后的傳送裝置，具體地說， 涉及傳送裝置中的噴射裝置。
背景技術(shù)：
晶圓在經(jīng)過化學(xué)機(jī)械研磨會進(jìn)入清洗制程，當(dāng)進(jìn)入清洗制程前，晶圓會在傳送裝置中等待，目前的制程，等待的時(shí)間一般為80秒，在等待的過程中，傳 送裝置中設(shè)有噴射裝置，該噴射裝置會一直向晶圓的正反面噴射等離子水以稀 釋晶圓表面殘留的研磨液，從而避免晶圓表面被腐蝕。請參閱圖1和圖2，現(xiàn)有技術(shù)中的噴射裝置包括噴射管1,液體管7以及分 布在晶圓5兩面的兩排霧化噴嘴3，每排分別由三個(gè)霧化噴嘴3組成，三個(gè)霧化 噴嘴3都是垂直晶圓5表面設(shè)置在噴射管1上，噴射管1給噴嘴3提供來自液 體管7的等離子水。從圖2中可以看出，現(xiàn)有噴射裝置的霧化噴嘴3噴射的范 圍沒有覆蓋到晶圓5的上半部分，當(dāng)清洗的晶圓較多或設(shè)備出現(xiàn)故障時(shí)，可能 需要等待的時(shí)間更長，沒有被噴到等離子水的晶圓5上半部分就會被殘留在上 面的研磨液腐蝕，從而造成晶圓報(bào)廢。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種噴射裝置，其噴射范圍可以覆蓋晶圓全部 表面。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種噴射裝置，其包括一個(gè)第一液體管， 兩個(gè)分別連接到該第一液體管的噴射管，兩個(gè)噴射管上分布三個(gè)排成一排的霧 化噴嘴，其中，所述至少一個(gè)霧化噴嘴對應(yīng)晶圓的直徑設(shè)置，該霧化噴嘴的噴 射范圍覆蓋該晶圓直徑。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型中噴射裝置的霧化噴嘴的噴射范圍覆蓋了晶 圓全部表面，這樣，即4吏等待進(jìn)入清洗制程的時(shí)間超過了預(yù)期，也可有效防止 晶圓被其表面上殘留的研磨液腐蝕。另外，本實(shí)用新型增設(shè)一個(gè)液體管，該液 體管注入0.2%三唑甲苯，可以更好保護(hù)晶圓表面，將晶圓:^皮腐蝕的幾率降到最 低。


通過以下對本實(shí)用新型一實(shí)施例結(jié)合其附圖的描述，可以進(jìn)一步理解其實(shí)用新型的目的、具體結(jié)構(gòu)特征和優(yōu)點(diǎn)。其中，附圖為 圖1為現(xiàn)有技術(shù)中噴射裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為現(xiàn)有技術(shù)中噴射裝置的工作狀態(tài)示意圖； 圖3為本實(shí)用新型噴射裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖4為本實(shí)用新型噴射裝置的工作狀態(tài)示意圖。
具體實(shí)施方式
請參閱圖3，本實(shí)用新型的噴射裝置包括兩個(gè)噴射管l，提供等離子水(DIW) 的第一液體管7,提供0.2%三唑甲笨(BTA)的第二液體管9,第一液體管7 和第二液體管9共同連接到一個(gè)第三液體管10。第三液體管IO分別連接到兩個(gè) 噴射管1,以給兩個(gè)噴射管l提供等離子水和三唑曱苯的混合液體。三唑曱苯可 以與晶圓5表面的銅(Cu)發(fā)生反應(yīng)以形成可以防止晶圓5^支腐蝕的保護(hù)膜。每個(gè)噴射管1上均分布有三個(gè)霧化噴嘴3，這三個(gè)霧化噴嘴3排成一排。晶 圓5可以置于兩個(gè)噴射管1中間。三個(gè)霧化噴嘴3分別為31， 32及33。霧化噴 嘴32對應(yīng)著晶圓5的直徑，霧化噴嘴31和33分別對應(yīng)著晶圓5的兩邊緣。請參閱圖4，霧化噴嘴31和33分別垂直晶圓5表面設(shè)置，位于中間的霧化 噴嘴32向上傾斜，且與晶圓之間的夾角為銳角，以便該霧化噴嘴32噴出的液 體可以覆蓋到晶圓5的直徑。在本實(shí)用新型其他實(shí)施例中，也可以調(diào)整霧化噴嘴31和33的角度，只要 三個(gè)噴嘴3噴射的液體可以覆蓋晶圓5的全部表面即可。在本實(shí)用新型其他實(shí)施例中，三個(gè)噴嘴3也可以垂直于晶圓5表面設(shè)置， 只需改動噴射管1的形狀，使安裝在噴射管1三個(gè)噴嘴3的噴射范圍可以覆蓋 晶圓5的全部表面即可。本實(shí)用新型的噴射裝置的霧化噴嘴32向上傾斜，從而保證晶圓5的表面都 可以被噴射裝置的噴射范圍覆蓋，防止晶圓5表面被腐蝕的液體覆蓋了晶圓5 全部表面，這樣，即使等待進(jìn)入清洗制程的時(shí)間超過了預(yù)期，也可有效防止晶 圓5^皮其表面上殘留的研磨液腐蝕。另外，本實(shí)用新型增i殳一個(gè)液體管9,該液 體管9注入0.2%三唑甲苯，可以更好保護(hù)晶圓5表面，將晶圓5被腐蝕的幾率 降到最低。
權(quán)利要求1、一種噴射裝置，其包括一個(gè)第一液體管，兩個(gè)分別連接到該第一液體管的噴射管，兩個(gè)噴射管上分布三個(gè)排成一排的霧化噴嘴，其特征在于所述至少一個(gè)霧化噴嘴對應(yīng)晶圓的直徑設(shè)置，該霧化噴嘴的噴射范圍覆蓋該晶圓的直徑。
2、 如權(quán)利要求1所述的噴射裝置，其特征在于至少一個(gè)霧化噴嘴與晶圓之間 的夾角為銳角，使噴嘴的噴射范圍可以覆蓋到晶圓的上半部分。
3、 如權(quán)利要求1所述的噴射裝置，其特征在于所述噴射裝置還包括一第二液 體管，第一液體管和第二液體管共同連接到一個(gè)第三液體管，第三液體管分別 連接到兩個(gè)噴射管，以給兩個(gè)噴射管傳送來自第一液體管和第二液體管的混合 液體。
4、 如權(quán)利要求1所述的噴射裝置，其特征在于第一液體管提供等離子液體， 第二液體管提供0.2%三唑曱苯。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種噴射裝置，其包括一個(gè)第一液體管，兩個(gè)分別連接到該第一液體管的噴射管，兩個(gè)噴射管上分布三個(gè)排成一排的霧化噴嘴，其中，所述至少一個(gè)霧化噴嘴對應(yīng)晶圓的直徑設(shè)置，該霧化噴嘴的噴射范圍覆蓋該晶圓的直徑。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型中噴射裝置的霧化噴嘴的噴射范圍覆蓋了晶圓全部表面，這樣，即使等待進(jìn)入清洗制程的時(shí)間超過了預(yù)期，也可有效防止晶圓被其表面上殘留的研磨液腐蝕。另外，本實(shí)用新型增設(shè)一個(gè)液體管，該液體管注入0.2％三唑甲苯，可以更好保護(hù)晶圓表面，將晶圓被腐蝕的幾率降到最低。
文檔編號H01L21/67GK201017856SQ20072006762
公開日2008年2月6日 申請日期2007年3月6日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月6日
發(fā)明者朱海青, 陳肖科 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司