專利名稱：間歇式涂漿機構(gòu)以及采用該涂漿機構(gòu)的雙面涂漿機的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種間歇式涂漿機構(gòu)，尤其涉及一種用于鋰離子電池自動化批量生產(chǎn)過程中對基帶如銅箔或鋁箔進行間歇式涂漿的間歇式涂漿機構(gòu)。本實用新型還涉及一種采用上述涂漿機構(gòu)的雙面涂漿機。
背景技術：
涂漿技術是鋰電池生產(chǎn)過程中至關重要的工序之一。目前，在國內(nèi)鋰電池廠家應用的涂漿技術主要是單面連續(xù)涂漿、雙面連續(xù)涂漿，上述連續(xù)涂漿只有一個驅(qū)動系統(tǒng)驅(qū)動基帶運動，直接把漿料涂于基帶上，如圖3所示，轉(zhuǎn)輪83帶動漿料盒85中的漿料直接涂于基帶84上，基帶84經(jīng)過刮刀81時，多余的漿料被刮下，刮刀81與基帶84的縫隙大小決定了涂漿厚度，可以通過調(diào)節(jié)桿80進行調(diào)節(jié)，帶輪82固定在基架上，不隨基帶運動。連續(xù)涂漿技術雖然比較成熟，推廣應用的時間也已久，使用面也很廣，但存在許多不足之處，如厚度只能手動調(diào)整，連續(xù)涂漿使后續(xù)工序繁雜、難以實現(xiàn)制片機械化和自動化、原材料利用率低等。
要實現(xiàn)間歇式雙面涂漿功能，必須解決單基帶四驅(qū)動技術和涂漿技術，本實用新型用簡單巧妙的結(jié)構(gòu)成功解決了單基帶四驅(qū)動技術和涂漿技術兩大難題。
間歇式雙面涂漿技術是采用單基帶四驅(qū)動技術、移印技術、伺服系統(tǒng)相結(jié)合的新型涂漿技術。單基帶四驅(qū)動技術實現(xiàn)了在一條基帶上同時存在四個獨立驅(qū)動的問題，完美地解決了從單面間歇涂漿過渡到雙面間歇涂漿的技術難題，是雙面涂漿技術的核心技術之一。移印技術拋棄了傳統(tǒng)的拉漿技術，從直接把漿料上到基帶上，變成了通過上漿基輪把漿料移印在基帶上，并由電腦通過伺服系統(tǒng)精確控制移印區(qū)和非移印區(qū)的長度，實現(xiàn)間歇式涂漿。
實用新型內(nèi)容本實用新型的一個目的是提供一種結(jié)構(gòu)簡單的用于鋰離子電池自動化批量生產(chǎn)過程中對基帶進行間歇涂漿的間歇式涂漿機構(gòu)，該涂漿機構(gòu)包括基輪和帶輪，基輪上涂有漿料并通過基輪電機驅(qū)動旋轉(zhuǎn)，基帶以一定包角包覆在帶輪上并通過摩擦力與帶輪同步運動，并且基輪和帶輪可以相互接觸和分離，實現(xiàn)對基帶的間歇式涂漿。
本實用新型的另一個目的是提供一種采用上述涂漿機構(gòu)的雙面涂漿機，該涂漿機包括具有放卷電機的放卷機構(gòu)和具有收卷電機的收卷機構(gòu)，以及設置在所述放卷機構(gòu)和收卷機構(gòu)之間的二個涂漿機構(gòu)。
采用本實用新型的技術方案，能通過結(jié)構(gòu)簡單的單臺機對基帶的雙面進行間歇式涂漿，顯著提高工作效率，并節(jié)約原料。


圖1是本實用新型間歇式涂漿機構(gòu)的示意圖；圖2是本實用新型雙面涂漿機的示意圖。
圖3是現(xiàn)有的涂漿機構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型作具體說明。
圖1表示本實用新型的間歇式涂漿機構(gòu)的示意圖。如圖所示，該間歇式涂漿機構(gòu)120包括基輪26和帶輪20，基輪26上涂有漿料并通過基輪電機驅(qū)動旋轉(zhuǎn)，帶輪20通過帶輪電機驅(qū)動旋轉(zhuǎn)，基帶以一定包角包覆在帶輪20上并通過摩擦力與帶輪20作同步運動，并且基輪26和帶輪20可以相互接觸和分離，實現(xiàn)對基帶的間歇式涂漿。
優(yōu)選地，該間歇式涂漿機構(gòu)120還包括料盒17，與基輪26保持一定間隙的刮刀19以及與刮刀19連接的調(diào)節(jié)桿18，其中所述基輪26的下部浸在所述料盒17內(nèi)，以便在基輪26上涂漿。另外，對于本領域的普通技術人員來說，為了在基輪26上涂漿，也可以采用現(xiàn)有技術中其他的技術方案，例如直接在基輪26上噴涂漿料，或者通過漿料供應管直接將漿料輸送給基輪等等。當基輪26通過基輪電機(未示出)驅(qū)動旋轉(zhuǎn)時，漿料會粘附到基輪26上并通過刮刀19刮去多余的漿料，使基輪26上的漿料保持一定的厚度。刮刀19上的調(diào)節(jié)桿18可以調(diào)節(jié)刮刀19的縱向高度，以便調(diào)節(jié)刮刀19與基輪26外表面之間的間隙大小，從而可以調(diào)節(jié)基輪26上漿料的厚度，控制基帶上的涂漿厚度?；鶐б砸欢ò侨?0度或180度的包角包覆在帶輪20上。帶輪20的材料一般是聚氨酯，所以通過帶輪20與基帶之間的摩擦力，當帶輪由帶輪電機驅(qū)動旋轉(zhuǎn)時，可帶動基帶作同步運動。
基輪26和帶輪20可以相互接觸和分離，當他們彼此接觸時，基輪26上的漿料便移印到包覆在帶輪20上的基帶上，實現(xiàn)對基帶的涂漿操作；當他們分離時，基輪26空轉(zhuǎn)，不會在基帶上涂漿，從而實現(xiàn)對基帶的間歇式涂漿。
當基輪26與帶輪20接觸時，若基輪26的轉(zhuǎn)速大于帶輪20的轉(zhuǎn)速，則基帶上的涂漿厚度較厚；若基輪26的轉(zhuǎn)速小于帶輪20的轉(zhuǎn)速，則基帶上的涂漿厚度相對較薄。由此，通過調(diào)節(jié)基輪26的轉(zhuǎn)速，可以進一步調(diào)節(jié)基帶上涂漿的厚度。
基輪26和帶輪20的彼此接觸和分離可以采用多種方案來實現(xiàn)，例如通過一個汽缸連接在基輪26上或者連接在帶輪20上或者采用其他的動作機構(gòu)等等。圖1中所示的是通過汽缸21與帶輪20連接，通過橫向移動帶輪20，實現(xiàn)帶輪20與基輪26之間的接觸和分離。汽缸21的動作可以通過計算機進行控制。具體而言，可以在帶輪20附近設置涂漿位置傳感器，該傳感器根據(jù)需要可以用來檢測基帶上涂漿的長度，如果基帶的一面已經(jīng)涂有漿料，還可以用來檢測已涂漿料的位置，然后將檢測結(jié)果傳輸?shù)接嬎銠C中進行處理，然后通過計算機控制汽缸21來移動帶輪20，繼而控制基帶上涂漿的長度和不涂漿的長度。通過計算機編程來控制汽缸動作屬于自動化控制領域的公知常識，所以在此不在詳述。
另外，為了使基帶運行平穩(wěn)，在涂漿機構(gòu)120內(nèi)可以設置恒張力機構(gòu)121，該恒張力機構(gòu)121包括浮動輪23和位置傳感器28。浮動輪23懸掛在基帶上，由于受到重力和基帶張力的共同作用而懸浮在中間位置，位置傳感器28檢測浮動輪23的位置和加速度，并將檢測結(jié)果傳輸給計算機，該計算機對檢測結(jié)果進行處理，然后通過控制器控制帶輪20的轉(zhuǎn)速，使得浮動輪23的位置保持恒定并且加速度為零，由此，基帶的張力與浮動輪23的重力保持平衡。在這種情況下，基帶中的張力保持恒定，運行平穩(wěn)。
如圖2所示，本實用新型還提供一種雙面涂漿機，包括具有放卷電機的放卷機構(gòu)110和具有收卷電機的收卷機構(gòu)150，以及在所述放卷機構(gòu)110和收卷機構(gòu)150之間設置的二個涂漿機構(gòu)120。
在這種雙面涂漿機中，基帶從放卷機構(gòu)110中釋放出來，然后進入到一個涂漿機構(gòu)120中，然后再進入到第二個涂漿機構(gòu)120中，最后進入到收卷機構(gòu)150中收卷備用，其中放卷機構(gòu)120和收卷機構(gòu)150屬于本領域的公用設備，并且不是本實用新型的發(fā)明所在，所以在次不再贅述其具體結(jié)構(gòu)。
另外，在這種實施方式中，由于漿料一般需要進行干燥，所以一般需要在其中設置烘片機構(gòu)。如圖所示，在所述二個涂漿機構(gòu)120的下游分別設置正面烘片機構(gòu)A和反面烘片機構(gòu)B，并且為了簡化機構(gòu)的目的，正面烘片機構(gòu)A和反面烘片機構(gòu)B集成在一起構(gòu)成一個烘片機構(gòu)130。當然，根據(jù)工作條件的限制或場地要求，也完全可以采用兩個獨立的正面烘片機構(gòu)A和反面烘片機構(gòu)B。
優(yōu)選地，基帶從放卷機構(gòu)110中釋放出來，進入到涂漿機構(gòu)120中進行正面涂漿，然后進入到正面烘片機構(gòu)A中烘干漿料，接著進入到第二個涂漿機構(gòu)120中進行反面涂漿，然后再返回到反面烘片機構(gòu)B進行烘干，烘片溫度可以根據(jù)工藝要求確定，最后烘干漿料后的基帶進入到收卷機構(gòu)150收卷起來備用。
優(yōu)選地，在基帶的運行過程中，為了保證基帶不走偏，可以在放卷機構(gòu)110和收卷機構(gòu)150內(nèi)分別設置糾偏機構(gòu)(未示出)，糾偏機構(gòu)可以采用現(xiàn)有技術中公知的糾偏機構(gòu)，在此不再祥述。
另外，如果生產(chǎn)線比較長，也可以在各個工位之間或者某些工位之間設置輔助糾偏機構(gòu)，以保證基帶在整個涂漿過程中穩(wěn)定行走而不走偏。從圖中可以看出，在收卷機構(gòu)150之前設置有一個輔助糾偏機構(gòu)160，但這不是必須的。
為了保證基帶在整個涂漿過程中的穩(wěn)定性，除了在涂漿機構(gòu)120內(nèi)設置恒張力機構(gòu)121以外，還可以在收卷機構(gòu)150之前設置恒張力機構(gòu)151，用于控制收卷機構(gòu)150的收卷速度。恒張力機構(gòu)121和恒張力機構(gòu)151結(jié)構(gòu)相同，不再贅述。
上面按照具體實施方式
對本實用新型進行了具體地說明，但本領域的技術人員可以理解，上述具體的描述并不是為限制本實用新型的保護范圍。例如，為了保證基帶在運行過程中不走偏，可以在放卷機構(gòu)內(nèi)或收卷機構(gòu)內(nèi)或其他工位內(nèi)或工位之間設置糾偏機構(gòu)，因此，糾偏機構(gòu)的數(shù)量可以根據(jù)工藝要求而定。另外，對于本實用新型的涂漿機中的其他一些構(gòu)件如過渡輪，電機等等沒有進行過多的描述，因為他們屬于本領域內(nèi)的公知常識，而并不屬于本實用新型的發(fā)明點。
權(quán)利要求1.一種間歇式涂漿機構(gòu)(120)，包括通過帶輪電機驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的帶輪(20)，基帶包覆在帶輪(20)上并通過摩擦力與帶輪(20)作同步運動，其特征在于該間歇式涂漿機構(gòu)(120)還包括通過基輪電機驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的基輪(26)，該基輪(26)上涂有漿料，并且基輪(26)與帶輪(20)可以相互接觸和分離，實現(xiàn)對基帶的間歇式涂漿。
2.如權(quán)利要求1所述的間歇式涂漿機構(gòu)(120)，其特征在于，所述基帶以180度的包角包覆在帶輪(20)上。
3.如權(quán)利要求1所述的間歇式涂漿機構(gòu)(120)，其特征在于，所述間歇式涂漿機構(gòu)(120)包括料盒(17)，與基輪(26)保持一定間隙的刮刀(19)以及與刮刀(19)連接的調(diào)節(jié)桿(18)，其中所述基輪(26)的下部浸在所述料盒(17)內(nèi)。
4.如權(quán)利要求1所述的間歇式涂漿機構(gòu)(120)，其特征在于，所述間歇式涂漿機構(gòu)(120)包括與帶輪(20)連接的氣缸(21)。
5.如權(quán)利要求1所述的間歇式涂漿機構(gòu)(120)，其特征在于，所述間歇式涂漿機構(gòu)(120)包括與基輪(26)連接的氣缸(21)。
6.如權(quán)利要求4或5所述的間歇式涂漿機構(gòu)(120)，其特征在于，所述間歇式涂漿機構(gòu)(120)具有涂漿位置傳感器，該涂漿位置傳感器與計算機連接并控制汽缸動作。
7.一種雙面涂漿機，包括具有放卷電機的放卷機構(gòu)(110)，具有收卷電機的收卷機構(gòu)(150)，以及位于所述放卷機構(gòu)(110)與收卷機構(gòu)(150)之間的正面烘片機構(gòu)A和反面烘片機構(gòu)B，其特征在于在所述放卷機構(gòu)(110)、正面烘片機構(gòu)A、反面烘片機構(gòu)B之間分別具有如權(quán)利要求1所述的涂漿機構(gòu)(120)。
8.如權(quán)利要求7所述的雙面涂漿機，其特征在于，所述正面烘片機構(gòu)A和反面烘片機構(gòu)B集成在一起構(gòu)成一個烘片機構(gòu)(130)。
9.如權(quán)利要求7所述的雙面涂漿機，其特征在于，所述放卷機構(gòu)(110)和收卷機構(gòu)(150)內(nèi)分別設置有糾偏機構(gòu)。
10.如權(quán)利要求7所述的雙面涂漿機，其特征在于，在收卷機構(gòu)(150)之前設置有輔助糾偏機構(gòu)(160)。
11.如權(quán)利要求7所述的雙面涂漿機，其特征在于，在所述二個涂漿機構(gòu)(120)內(nèi)或之一內(nèi)設置有恒張力機構(gòu)(121)，該恒張力機構(gòu)(121)包括浮動輪(23)和位置傳感器(28)以及與位置傳感器(28)電氣連接的計算機，該計算機控制所述涂漿機構(gòu)(120)中帶輪電機的轉(zhuǎn)速。
12.如權(quán)利要求7或11所述的雙面涂漿機，其特征在于，在所述收卷機構(gòu)(150)的上游設置有恒張力機構(gòu)(151)，該恒張力機構(gòu)(151)包括浮動輪和位置傳感器以及與位置傳感器電氣連接的計算機，該計算機控制所述收卷機構(gòu)(150)的收卷電機的轉(zhuǎn)速。
專利摘要本實用新型公開一種間歇式涂漿機構(gòu)，包括基輪和帶輪，基輪上涂有漿料并通過基輪電機驅(qū)動旋轉(zhuǎn)，帶輪通過帶輪電機驅(qū)動旋轉(zhuǎn)，基帶以一定包角包覆在帶輪上并通過摩擦力與帶輪作同步運動，并且基輪和帶輪可以相互接觸和分離，實現(xiàn)對基帶的間歇式涂漿。本實用新型還提供一種雙面涂漿機，包括放卷機構(gòu)，收卷機構(gòu)，正面烘片機構(gòu)A，反面烘片機構(gòu)B和涂漿機構(gòu)。采用本實用新型的技術方案，結(jié)構(gòu)簡單，節(jié)省材料，且通過自動化控制能大大提高工作效率。
文檔編號H01M10/38GK2749061SQ20042005832
公開日2005年12月28日 申請日期2004年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月9日
發(fā)明者毛德和, 許教練, 王平 申請人:比亞迪股份有限公司