專利名稱：用于真空斷路器的電磁屏蔽罩的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種屏蔽罩，尤其是指一種用于真空斷路器的電磁屏蔽罩。
背景技術(shù)：
在真空斷路器通過(guò)較大的三相短路電流時(shí)，相間會(huì)產(chǎn)生很強(qiáng)的電磁場(chǎng)，這種電磁場(chǎng)對(duì)熄滅由于觸頭開斷或閉合短路電流所產(chǎn)生的電弧有很大的影響，影響大時(shí)，會(huì)造成觸頭偏燒或觸頭局部過(guò)熱，使真空滅弧室的滅弧能力減弱，嚴(yán)重時(shí)，會(huì)導(dǎo)致開斷失敗。在現(xiàn)有技術(shù)中，通常是在真空滅弧室的外部設(shè)置一層不銹鋼屏蔽罩，以降低相間電磁場(chǎng)對(duì)電弧的影響，但這層不銹鋼屏蔽罩還不能完全消除相間電磁場(chǎng)對(duì)電弧的影響。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種可以進(jìn)一步消除真空斷路器中相間電磁場(chǎng)對(duì)電弧影響的電磁屏蔽罩。
本實(shí)用新型所采取的技術(shù)方案是一種用于真空斷路器的電磁屏蔽罩，包括真空滅弧室1和設(shè)在其外部的不銹鋼屏蔽罩2，還包括鐵磁材料屏蔽罩3，該鐵磁材料屏蔽罩3包覆在不銹鋼屏蔽罩2的外表面。
本實(shí)用新型的有益效果是由于在真空滅弧室外部原有不銹鋼屏蔽罩的基礎(chǔ)上，又加設(shè)了一層由鐵磁材料制成的屏蔽罩，進(jìn)一步消除了相間電磁場(chǎng)對(duì)電弧的影響，使真空斷路器的安全性能更好。


圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步詳細(xì)地描述。
如圖1所示，一種用于真空斷路器的電磁屏蔽罩，包括真空滅弧室1和設(shè)在其外部的不銹鋼屏蔽罩2，還包括鐵磁材料屏蔽罩3，該鐵磁材料屏蔽罩3包覆在不銹鋼屏蔽罩2的外表面。兩層屏蔽罩可以更好地消除相間電磁場(chǎng)對(duì)電弧的影響，使真空斷路器的安全性能更好。
權(quán)利要求一種用于真空斷路器的電磁屏蔽罩，包括真空滅弧室(1)和設(shè)在其外部的不銹鋼屏蔽罩(2)，其特征在于還包括鐵磁材料屏蔽罩(3)；所述的鐵磁材料屏蔽罩(3)包覆在不銹鋼屏蔽罩(2)的外表面。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于真空斷路器的電磁屏蔽罩，在原真空滅弧室外部所設(shè)不銹鋼屏蔽罩的基礎(chǔ)上，增設(shè)一層鐵磁材料屏蔽罩，進(jìn)一步消除了相間電磁場(chǎng)與電弧之間的相互影響，使真空斷路器的安全性能更好。
文檔編號(hào)H01H33/66GK2664152SQ200320103378
公開日2004年12月15日 申請(qǐng)日期2003年11月18日 優(yōu)先權(quán)日2003年11月18日
發(fā)明者曹連江 申請(qǐng)人:北京北開電氣股份有限公司