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晶片測(cè)試機(jī)的制作方法

文檔序號(hào):6943606閱讀:145來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:晶片測(cè)試機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及晶片的測(cè)試設(shè)備。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的晶片測(cè)試機(jī),其包括一機(jī)臺(tái)、一入料組、一分配器、一輸送輪、一測(cè)試組、一分類臺(tái)及偵測(cè)及清除裝置,其特征是機(jī)臺(tái)有平臺(tái)、操作用鍵盤(pán)及控制單元,平臺(tái)內(nèi)有分類集中盒;入料組包含入料斗,并與支架連設(shè),銜接導(dǎo)料槽,導(dǎo)料槽下有振動(dòng)器,與支架組設(shè)于滑座上,滑座與固定座組設(shè)且由旋鈕穿過(guò)固定座,滑座由旋鈕調(diào)整松緊滑移或定位;分配器位于輸送輪、導(dǎo)料槽之間并設(shè)有容置待測(cè)晶片的容室,與輸送輪接近的凹弧面兩側(cè)具有斜導(dǎo)面;輸送輪與機(jī)臺(tái)內(nèi)的動(dòng)力源、傳動(dòng)元件相連接,為順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)狀,外周緣設(shè)有等距分布的定位槽并設(shè)有與定位槽相同數(shù)目的偵測(cè)孔;測(cè)試組置于輸送輪上,由固定架下連氣缸,氣缸表面的滑軌組設(shè)有內(nèi)、外滑塊,位于輸送輪的內(nèi)、外側(cè),其中,一組或一組以上的內(nèi)、外滑塊連設(shè)有感測(cè)晶片的探針;分類臺(tái)具有內(nèi)、外弧板,位于輸送輪內(nèi)外側(cè),且分別連接有吹管及導(dǎo)管,導(dǎo)管連接分類集中盒位在平臺(tái)上的入口端,分類臺(tái)固設(shè)于可在固定座的滑軌上左右移動(dòng)的滑塊,滑塊樞接一連接片,連接片另一端樞接在轉(zhuǎn)輪的凹槽內(nèi),轉(zhuǎn)輪使連接片將滑塊朝向輸送輪處移動(dòng)并定位,內(nèi)、外弧板對(duì)應(yīng)于定位槽處,且固定座上具有兩相對(duì)應(yīng)的左、右擋塊供與滑塊上的凸塊接觸作左、右位移的界定;偵測(cè)及清除裝置由定位偵測(cè)組、晶片偵測(cè)組及晶片清除組組成,定位偵測(cè)組上的感測(cè)器對(duì)應(yīng)于偵測(cè)孔處,晶片偵測(cè)組的感測(cè)器對(duì)應(yīng)于定位槽處,晶片清除組于板架上設(shè)有滑軌供組設(shè)一滑塊,滑塊前端具有推針對(duì)應(yīng)于定位槽處。
上述晶片測(cè)試機(jī)與現(xiàn)有晶片測(cè)試設(shè)備相比較,具有下列優(yōu)點(diǎn)1、入料組可利用固定座上的滑塊配合旋鈕的操作,能快速開(kāi)脫或旋緊定位,可便于排除故障、檢修或更換零件;2、分配器具有大容量供置晶片的容室,待料具有充分的緩沖,配合與輸送輪接觸的凹弧面的容室兩側(cè)設(shè)有導(dǎo)斜面,使晶片更容易且順利一一分配導(dǎo)入輸送輪的定位槽內(nèi),不易造成缺空未置入晶片;3、測(cè)試組利用氣缸連動(dòng)的內(nèi)、外滑塊,恰可供組設(shè)探針作晶片感測(cè),且同時(shí)兼具多組,可隨連設(shè)所需數(shù)量的控針作不同感測(cè),有相當(dāng)良好的應(yīng)用彈性,可提高工作效率;4、分類臺(tái)組設(shè)于滑塊上,并利用連接片與轉(zhuǎn)輪連設(shè)樞接,再配合左、右擋塊的限制定位,使之可輕易作靠近定位或脫離,以便檢修、排除故障,可更好地維護(hù)測(cè)試機(jī);5、利用偵測(cè)及清除裝置可以測(cè)得輸送輪的定位槽是否殘留未吹出的晶片,并予以適時(shí)由推針將之強(qiáng)制清除,不會(huì)造成晶片的卡掣或重復(fù)循環(huán)感測(cè)造成的困擾。


圖16為本實(shí)用新型的定位偵測(cè)組側(cè)視圖;圖17為本實(shí)用新型的偵測(cè)及清除裝置側(cè)視組合圖。
權(quán)利要求1.晶片測(cè)試機(jī),其包括一機(jī)臺(tái)、一入料組、一分配器、一輸送輪、一測(cè)試組、一分類臺(tái)及偵測(cè)及清除裝置,其特征是機(jī)臺(tái)有平臺(tái)、操作用鍵盤(pán)及控制單元,平臺(tái)內(nèi)有分類集中盒;入料組包含入料斗,并與支架連設(shè),銜接導(dǎo)料槽,導(dǎo)料槽下有振動(dòng)器,與支架組設(shè)于滑座上,滑座與固定座組設(shè)且由旋鈕穿過(guò)固定座,滑座由旋鈕調(diào)整松緊滑移或定位;分配器位于輸送輪、導(dǎo)料槽之間并設(shè)有容置待測(cè)晶片的容室,與輸送輪接近的凹弧面兩側(cè)具有斜導(dǎo)面;輸送輪與機(jī)臺(tái)內(nèi)的動(dòng)力源、傳動(dòng)元件相連接,為順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)狀,外周緣設(shè)有等距分布的定位槽并設(shè)有與定位槽相同數(shù)目的偵測(cè)孔;測(cè)試組置于輸送輪上,由固定架下連氣缸,氣缸表面的滑軌組設(shè)有內(nèi)、外滑塊,位于輸送輪的內(nèi)、外側(cè),其中,一組或一組以上的內(nèi)、外滑塊連設(shè)有感測(cè)晶片的探針;分類臺(tái)具有內(nèi)、外弧板,位于輸送輪內(nèi)外側(cè),且分別連接有吹管及導(dǎo)管,導(dǎo)管連接分類集中盒,位在平臺(tái)上的入口端,分類臺(tái)固設(shè)于可在固定座的滑軌上左右移動(dòng)的滑塊,滑塊樞接一連接片,連接片另一端樞接在轉(zhuǎn)輪的凹槽內(nèi),轉(zhuǎn)輪使連接片將滑塊朝向輸送輪處移動(dòng)并定位,內(nèi)、外弧板對(duì)應(yīng)于定位槽處,且固定座上具有兩相對(duì)應(yīng)的左、右擋塊,供與滑塊上的凸塊接觸作左、右位移的界定;偵測(cè)及清除裝置由定位偵測(cè)組、晶片偵測(cè)組及晶片清除組組成,定位偵測(cè)組上的感測(cè)器對(duì)應(yīng)于偵測(cè)孔處,晶片偵測(cè)組的感測(cè)器對(duì)應(yīng)于定位槽處,晶片清除組于板架上設(shè)有滑軌供組設(shè)一滑塊,滑塊前端具有推針對(duì)應(yīng)于定位槽處。
專利摘要本實(shí)用新型涉及晶片測(cè)試機(jī)。目的是改進(jìn)性能提高效率。配合滑塊與滑軌的組設(shè),利用盲鈕或轉(zhuǎn)輪可使入料組及分類臺(tái)能作快速的位移及定位,利于平臺(tái)的操作及故障的排除,且設(shè)有偵測(cè)及清除裝置可適時(shí)偵測(cè)輸送輪上的定位槽是否有殘留未及時(shí)吹出的晶片予以強(qiáng)制清除,以避免產(chǎn)生重復(fù)感測(cè)的困擾,成為一種更具有實(shí)用性的晶片測(cè)試機(jī),用于晶片測(cè)試。
文檔編號(hào)H01L21/66GK2566452SQ0224305
公開(kāi)日2003年8月13日 申請(qǐng)日期2002年7月30日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月30日
發(fā)明者盧鏡來(lái) 申請(qǐng)人:萬(wàn)潤(rùn)科技股份有限公司
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