專利名稱：光學(xué)記錄媒體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及預(yù)先利用位模式(bit pattern)記錄了關(guān)于記錄軌道(track)的信息的光學(xué)記錄媒體和該光學(xué)記錄媒體中使用的光學(xué)記錄媒體用基板、制作該光學(xué)記錄媒體時使用的光盤原盤的制造方法和使用該光學(xué)記錄媒體時的軌道訪問方法。
背景技術(shù)：
近年來，具有小型、大容量、高速訪問等特征的光盤系統(tǒng)已獲得了迅速普及。在這些利用光學(xué)方法記錄和重放數(shù)據(jù)的系統(tǒng)中，利用光磁記錄的光磁盤系統(tǒng)的可靠性高、可以對記錄媒體反復(fù)進(jìn)行數(shù)據(jù)的記錄和擦除，所以，已作為計算機(jī)的外部記錄裝置得到了廣泛的應(yīng)用。
在這樣的光磁盤系統(tǒng)中，作為記錄媒體而使用的光磁盤，將用于使記錄重放用的激光在信號記錄面上跟蹤記錄軌道的凹槽(groove)形成為同心圓狀或螺旋狀的形式已很普及。該光磁盤沿著形成同心圓狀或螺旋狀的凹槽形成記錄軌道。
另外，在這種光磁盤中，為了追求數(shù)據(jù)處理的容易、數(shù)據(jù)存取的便利等，將記錄軌道分割為適當(dāng)長度的扇區(qū)以便可以以扇區(qū)為單位進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，已提出了對各扇區(qū)記錄物理地址等的管理信息的方案。通常，該光磁盤的記錄區(qū)域分割為基本時鐘不同的數(shù)個區(qū)域，其中，1個軌道分割為數(shù)十～數(shù)百個扇區(qū)來使用。
在該光磁盤中，各扇區(qū)的管理信息考慮了批量生產(chǎn)性等，以凹坑(pit)的形式預(yù)先寫入到相鄰的凹槽間的區(qū)域的稱為槽間表面(land)的部分上。
然而，近年來，在光磁盤系統(tǒng)中，人們正在研究能與處理的信息量增大相對應(yīng)地實現(xiàn)更大容量的記錄，通過使光磁盤的軌道間距變窄來提高面記錄密度。
但是，在上述類型的光磁盤中，軌道間距變窄時，在相鄰的凹槽間就難以形成表示管理信息的凹坑。即，在制作這種類型的光磁盤的盤片原盤時，通過使相隔半個軌道間距的間隔的2個激光照射到在玻璃基板上形成的抗蝕劑層上，分別形成與凹坑對應(yīng)的潛像和與凹槽對應(yīng)的潛像，但是，如果軌道間距變窄時，有時2個激光將發(fā)生干擾而在凹坑與凹槽之間曝光，從而不能形成適當(dāng)?shù)臐撓瘛２⑶?，使用這樣的盤片原盤制作的光磁盤，凹坑的重放調(diào)制度低，不能獲得適當(dāng)?shù)男盘枴?br> 因此，為了消除這種不利情況，提出了不在形成表示管理信息的凹坑的區(qū)域中形成凹槽的方式(以后，稱為間斷凹槽方式)。
但是，在上述間斷凹槽方式的光磁盤中，難以高速度地適當(dāng)?shù)卦L問所希望的軌道。即，在間斷凹槽方式的光磁盤中，在形成表示管理信息的凹坑的區(qū)域中，形成既不存在凹坑又不存在凹槽的部分，即所謂的鏡面部。并且，在進(jìn)行查找操作從而想訪問所希望的軌道時，讀取用激光的光點在鏡面部上移動并橫截軌道時，有時不能獲得表示橫截軌道的信號，從而錯誤地對軌道數(shù)進(jìn)行計數(shù)。
發(fā)明的公開本發(fā)明就是鑒于上述先有的狀況而提出的，目的旨在提供可以與高密度記錄對應(yīng)地對所希望的軌道適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行高速訪問的光學(xué)記錄媒體、該光學(xué)記錄媒體使用的光學(xué)記錄媒體用基板、制作該光學(xué)記錄媒體時使用的盤片原盤的制造方法和使用該光學(xué)記錄媒體時的軌道訪問方法。
即，本發(fā)明的光學(xué)記錄媒體是在沿同心圓形狀或螺旋狀的凹槽形成記錄軌道、在凹槽與凹槽間的槽間表面部分記錄信息，同時在記錄區(qū)域的一部分中具有凹槽中斷的區(qū)域，在該凹槽中斷的區(qū)域中與槽間表面對應(yīng)的部分上形成表示關(guān)于記錄軌道的信息的位模式的光學(xué)記錄媒體，其特征在于在凹槽中斷的區(qū)域中設(shè)置了用于以光學(xué)方法檢測讀取用激光的光點橫截記錄軌道的信息的檢測模式(pattern)。
在該光學(xué)記錄媒體中，在進(jìn)行軌道訪問時，在讀取用激光的光點橫截凹槽中斷的區(qū)域時，由于根據(jù)通過讀取用的激光照射到檢測模式上而得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)，所以，可以適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行高速訪問。
在該光學(xué)記錄媒體中，最好利用與位模式一體地沿記錄軌道形成的凹槽構(gòu)成檢測模式。這樣，如果采用利用與位模式一體地形成的凹槽來構(gòu)成檢測模式，就容易形成檢測模式。
另外，本發(fā)明的光學(xué)記錄媒體用基板是在沿同心圓形狀或螺旋狀的凹槽形成記錄軌道、在凹槽與凹槽間的槽間表面部分記錄信息，同時在記錄區(qū)域的一部分具有凹槽中斷的區(qū)域，在該凹槽中斷的區(qū)域中與槽間表面對應(yīng)的部分形成表示關(guān)于記錄軌道的信息的位模式的光學(xué)記錄媒體使用的光學(xué)記錄媒體用基板，其特征在于在與凹槽中斷的區(qū)域?qū)?yīng)的部位上設(shè)置了用于利用光學(xué)方法檢測讀取用激光的光點橫截記錄軌道的信息的檢測模式。
使用該光學(xué)記錄媒體用基板的光學(xué)記錄媒體進(jìn)行軌道訪問時，讀取用激光的光點橫截凹槽中斷的區(qū)域時，由于根據(jù)通過讀取用的激光照射到檢測模式上而得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)，所以，可以適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行高速訪問。
在該光學(xué)記錄媒體用基板中，最好利用與作為位模式的凹部一體地沿記錄軌道形成的凹槽構(gòu)成檢測模式。這樣，如果采用利用與作為位模式的凹部一體地沿記錄軌道形成的凹槽來構(gòu)成檢測模式，就容易形成檢測模式。
另外，本發(fā)明的盤片原盤的制造方法是制造在沿同心圓形狀或螺旋狀的凹槽形成記錄軌道、在凹槽與凹槽間的槽間表面部分記錄信息，同時在記錄區(qū)域的一部分中具有凹槽中斷的區(qū)域，在該凹槽中斷的區(qū)域中的與槽間表面對應(yīng)的部分中一體地形成表示關(guān)于記錄軌道的信息的位模式和以光學(xué)方式檢測讀取用激光的光點橫截記錄軌道的信息用的檢測模式的光學(xué)記錄媒體用的盤片原盤的盤片原盤的制造方法，其特征在于在向感光材料層照射激光、形成與檢測模式對應(yīng)的潛像時，通過使激光的光強(qiáng)度在照射到與位模式相當(dāng)?shù)牟糠稚蠒r和照射到除此以外的部分上時不同，在與位模式相當(dāng)?shù)牟糠趾统艘酝獾牟糠种行纬膳c深度互不相同的檢測模式對應(yīng)的潛像。
按照該盤片原盤的制造方法，在與位模式相當(dāng)?shù)牟糠趾统艘酝獾牟糠挚梢院苋菀椎匦纬膳c深度互不相同的檢測模式對應(yīng)的潛像。
另外，本發(fā)明的盤片原盤的制造方法是制造在沿同心圓形狀或螺旋狀的凹槽形成記錄軌道、在凹槽與凹槽間的槽間表面部分記錄信息，同時在記錄區(qū)域的一部分中具有凹槽中斷的區(qū)域，在該凹槽中斷的區(qū)域中的與槽間表面對應(yīng)的部分中一體地形成表示關(guān)于記錄軌道的信息的位模式和以光學(xué)方式檢測讀取用激光的光點橫截記錄軌道的信息用的檢測模式的光學(xué)記錄媒體用的盤片原盤的盤片原盤的制造方法，其特征在于在向感光材料層照射激光、形成與檢測模式對應(yīng)的潛像時，通過使激光的光束直徑在照射到與位模式相當(dāng)?shù)牟糠稚蠒r和照射到除此以外的部分上時不同，在與位模式相當(dāng)?shù)牟糠趾统艘酝獾牟糠中纬膳c寬度互不相同的檢測模式對應(yīng)的潛像。
按照該盤片原盤的制造方法，在與位模式相當(dāng)?shù)牟糠趾统艘酝獾牟糠种锌梢院苋菀椎匦纬膳c寬度互不相同的檢測模式對應(yīng)的潛像。
另外，本發(fā)明的軌道訪問方法的特征在于在光學(xué)記錄媒體中沿同心圓形狀或螺旋狀的凹槽形成記錄軌道、在凹槽與凹槽間的槽間表面部分上記錄信息，同時在記錄區(qū)域的一部分中具有凹槽中斷的區(qū)域，在該凹槽中斷的區(qū)域中的與槽間表面對應(yīng)的部分中一體地形成表示關(guān)于記錄軌道的信息的位模式和以光學(xué)方式檢測讀取用激光的光點橫截記錄軌道的信息用的檢測模式，對該光學(xué)記錄媒體進(jìn)行查找操作以訪問所希望的記錄軌道時，在凹槽中斷的區(qū)域中，根據(jù)用光學(xué)方法從檢測模式得到的信息進(jìn)行軌道計數(shù)，在形成了凹槽的區(qū)域中根據(jù)用光學(xué)方法從凹槽得到的信息進(jìn)行軌道計數(shù)。
按照該軌道訪問方法，對在記錄區(qū)域的一部分中形成了凹槽中斷的區(qū)域的光學(xué)記錄媒體，可以適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行軌道訪問。
附圖的簡單說明

圖1是將ISO標(biāo)準(zhǔn)格式的光磁盤的記錄區(qū)域的一部分放大后示出的圖。
圖2是將本發(fā)明的光磁盤的記錄區(qū)域的一部分放大后示出的圖。
圖3是沿圖2中的a-a線的剖面圖。
圖4是沿圖2中的b-b線的剖面圖。
圖5是沿圖2中的c-c線的剖面圖。
圖6是沿圖2中的d-d線的剖面圖。
圖7是將本發(fā)明的其他光磁盤的記錄區(qū)域的一部分放大后示出的圖。
圖8是沿圖7中的e-e線的剖面圖。
圖9是沿圖7中的f-f線的剖面圖。
圖10是沿圖7中的g-g線的剖面圖。
圖11是沿圖7中的h-h線的剖面圖。
圖12是將本發(fā)明的另一其他光磁盤的記錄區(qū)域的一部分放大后示出的圖。
圖13是沿圖12中的i-i線的剖面圖。
圖14是沿圖12中的j-j線的剖面圖。
圖15是沿圖12中的k-k線的剖面圖。
圖16是沿圖12中的l-l線的剖面圖。
圖17是將本發(fā)明的又一其他光磁盤的記錄區(qū)域的一部分放大后示出的圖。
圖18是沿圖17中的m-m線的剖面圖。
圖19是沿圖17中的n-n線的剖面圖。
圖20是沿圖17中的o-o線的剖面圖。
圖21是沿圖17中的p-p線的剖面圖。
實施發(fā)明的最佳形態(tài)下面，參照附圖詳細(xì)說明實施本發(fā)明的最佳形態(tài)。
這里，對在盤片基板上順序?qū)盈B光磁記錄層和保護(hù)層的光磁盤應(yīng)用本發(fā)明的例子進(jìn)行說明。
本發(fā)明的光磁盤在作為記錄區(qū)域的部分中以同心圓形狀或螺旋狀形成了凹槽，沿該凹槽形成記錄軌道。并且，該光磁盤在凹槽與凹槽間的槽間表面部分上記錄信息信號。
另外，在該光磁盤中，記錄軌道分割為適當(dāng)長度的扇區(qū)，為了可以按扇區(qū)單位進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，在各扇區(qū)中記錄了物理地址等的管理信息。
該光磁盤是所謂的間斷凹槽方式的光磁盤，在記錄區(qū)域的一部分中形成凹槽中斷的區(qū)域(標(biāo)題部)，在該凹槽中斷的區(qū)域中形成表示上述管理信息的位模式。
并且，該光磁盤的特征在于在凹槽中斷的區(qū)域設(shè)置了表示管理信息的位模式，同時設(shè)置了用于用光學(xué)方法檢測讀取用激光的光點橫截記錄軌道的信息的檢測模式。這里，位模式和檢測模式在例如凹槽中斷的區(qū)域中從凹槽的延長線算起在與和記錄軌道正交的方向上偏離約1/2軌道間距的位置上、即在與作為凹槽與凹槽間的區(qū)域的槽間表面對應(yīng)的部分的大致中央部沿凹槽的延長線被形成。
并且，本發(fā)明的光磁盤在進(jìn)行查找操作、對所希望的軌道進(jìn)行訪問時，在讀取用激光的光點橫截形成了凹槽的區(qū)域時根據(jù)通過讀取用的激光照射到凹槽上而得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)，在讀取用激光的光點橫截凹槽中斷的區(qū)域時根據(jù)通過讀取用的激光照射到檢測模式上而得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)，從而可以進(jìn)行適當(dāng)?shù)能壍涝L問。
在本發(fā)明的光磁盤中，檢測模式例如與位模式一體地由在與設(shè)置了凹槽的方向相同的方向設(shè)置的凹溝來構(gòu)成。
下面，通過與ISO標(biāo)準(zhǔn)格式的光磁盤對比，說明利用與位模式一體地設(shè)置的凹溝構(gòu)成檢測模式的例子。在以下的說明中，將與位模式一體地設(shè)置的檢測模式稱為軌道計數(shù)用凹溝，將在該軌道計數(shù)用凹溝中與位模式相當(dāng)?shù)牟糠址Q為M部，將除此以外的部分稱為S部。
ISO標(biāo)準(zhǔn)格式的光磁盤如圖1所示，在作為記錄軌道的邊界的部分中，凹槽G不中斷地形成。并且，在相鄰地形成的凹槽G間的槽間表面L的一部分(標(biāo)題部H)上形成表示管理信息的位模式P。
在圖1所示的ISO標(biāo)準(zhǔn)格式的光磁盤中，根據(jù)通過讀取用的激光照射到凹槽G上得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)。具體而言，就是根據(jù)表示讀取用激光的光點偏離軌道的跟蹤錯誤信號進(jìn)行了查找操作時的軌道計數(shù)。
與此不同，本例的光磁盤是所謂的間斷凹槽方式的光磁盤，在其一部分中存在凹槽中斷的區(qū)域。因此，在本發(fā)明的光磁盤中，在讀取用激光橫截該凹槽中斷的區(qū)域時，就不能根據(jù)凹槽的信號進(jìn)行軌道計數(shù)。
因此，該光磁盤在與凹槽中斷的區(qū)域的槽間表面對應(yīng)的部分中形成軌道計數(shù)用凹溝，在讀取用激光的光點橫截凹槽中斷的區(qū)域時，就根據(jù)通過讀取用激光照射到該軌道計數(shù)用凹溝上得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)。
另外，該光磁盤在讀取用激光的光點橫截形成凹槽的區(qū)域時，和上述ISO標(biāo)準(zhǔn)格式的光磁盤一樣，根據(jù)通過讀取用激光照射到凹槽上得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)。因此，在該光磁盤中，為了適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行軌道計數(shù)，必須使通過讀取用激光照射到凹槽上得到的信號的極性與通過讀取用激光照射到在偏離凹槽的延長線約1/2軌道間距的位置上形成的軌道計數(shù)用凹溝上而得到的信號的極性一致。
這里，通常在具有凹槽的光磁盤中，設(shè)讀取用的激光的波長為λ、盤片基板的折射率為n時，可知在凹槽的深度為λ’(λ’＝λ/n)的1/8倍、3/8倍…時，跟蹤錯誤信號的振幅成為極大值，以1/4倍、2/4倍…時為界的跟蹤錯誤信號的極性發(fā)生反轉(zhuǎn)。即，通過調(diào)整讀取用激光照射的凹槽的深度，便可改變跟蹤錯誤信號的極性。
本例的光磁盤利用該原理，通過將凹槽的深度和軌道計數(shù)用凹溝的深度設(shè)定為適當(dāng)?shù)闹担雇ㄟ^讀取用激光照射到凹槽上得到的信號的極性與通過讀取用的激光照射到軌道計數(shù)用凹溝上得到的信號的極性一致，便可進(jìn)行適當(dāng)?shù)能壍烙嫈?shù)。
另外，在該光磁盤中，由于檢測模式是將表示管理信息的位模式和用于進(jìn)行軌道計數(shù)的檢測模式作為一體的軌道計數(shù)用凹溝來形成的，所以，為了使位模式具有可以讀取的重放調(diào)制度，在軌道計數(shù)用凹部中，必須使M部和S部具有形狀差別。
(使M部和S部具有深度差別的例子)圖2～圖6是本發(fā)明的光磁盤的一例，表示通過使M部101和S部102具有深度的差別而使位模式具有可以讀取的重放調(diào)制度的例子。圖2是將本例的光磁盤10的記錄區(qū)域的一部分放大后示出的圖，圖3是表示沿圖2的a-a線的剖面圖，圖4是表示沿圖2中的b-b線的剖面圖，圖5是表示沿圖2中的c-c線的剖面圖，圖6是表示沿圖d-d線的剖面圖。
圖2～圖6所示的光磁盤10，在作為記錄軌道11的邊界的部分處沿記錄軌道11形成凹槽12。并且，設(shè)定相鄰的凹槽12間的槽間表面13作為用于利用光磁記錄來記錄信號的信號記錄區(qū)域。
在該光磁盤10中，凹槽12在各記錄軌道基本上相同的地方形成一部分中斷的形式。并且，光磁盤10在該凹槽12中斷的區(qū)域(標(biāo)題部H)的與槽間表面13相當(dāng)?shù)牡胤皆O(shè)置了軌道計數(shù)用凹溝14。
該軌道計數(shù)用凹溝14由從作為基準(zhǔn)面的槽間表面開始以指定的深度形成的S部102和從該S部102的表面開始進(jìn)而以指定的深度形成的M部101作為一體的溝部而構(gòu)成。并且，該軌道計數(shù)用凹溝14在凹槽12中斷的區(qū)域的與槽間表面13相當(dāng)?shù)牡胤降拇笾轮醒氩垦赜涗涇壍?1形成。
設(shè)讀取用激光的波長為λ、盤片基板的折射率為n時，設(shè)定從M部101的槽間表面13開始的深度D1和從S部102的槽間表面13開始的深度D2滿足λ/(4n)＜D2＜D1＜λ/(2n)的關(guān)系。即，設(shè)定從M部101的槽間表面13開始的深度D1和從S部102的槽間表面13開始的深度D2都大于λ/n的1/4，同時，小于λ/n的1/2，并且，設(shè)定從M部101的槽間表面13開始的深度D1大于從S部102的槽間表面13開始的深度D2。
另外，M部101的寬度W1和S部102的寬度W2設(shè)定為相同的值，都設(shè)定為小于記錄軌道11的軌道間距的1/2。
另外，在該光磁盤10中，設(shè)讀取用激光的波長為λ、盤片基板的折射率為n時，設(shè)定從凹槽12的槽間表面13開始的深度D3滿足D3＜λ/(4n)的關(guān)系。即，設(shè)定從凹槽12的槽間表面13開始的深度D3小于λ/n的1/4。
另外，設(shè)定凹槽12的寬度W3在記錄軌道11的軌道間距的1/2 以下。
對于按上述方式構(gòu)成的光磁盤10進(jìn)行查找操作、訪問所希望的記錄軌道11時，在讀取用激光的光點橫截形成凹槽12的區(qū)域時，根據(jù)通過讀取用的激光照射到凹槽12上得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)，在讀取用激光的光點橫截凹槽12中斷的區(qū)域即形成軌道計數(shù)用凹溝14的標(biāo)題部H時，根據(jù)通過讀取用的激光照射到軌道計數(shù)用凹溝14上得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)。
這時，由于從軌道計數(shù)用凹溝14的M部101的槽間表面13開始的深度D1和從S部102的槽間表面13開始的深度D2都設(shè)定為大于λ/n的1/4，同時小于λ/n的1/2，從凹槽12的槽間表面13開始的深度D3設(shè)定為小于λ/n的1/4，所以，通過讀取用的激光照射到凹槽12上得到的信號的極性就與通過讀取用的激光照射到在與凹槽12偏離約1/2軌道間距的位置形成的軌道計數(shù)用凹溝14上得到的信號的極性一致。因此，在該光磁盤10中，即使是讀取用激光的光點橫截凹槽12中斷的區(qū)域的情況，也可以適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行軌道計數(shù)，訪問所希望的記錄軌道。
另外，由于該光磁盤10設(shè)定從軌道計數(shù)用凹溝14的M部101的槽間表面13開始的深度D1大于從S部102的槽間表面13開始的深度D2，所以，可以使位模式具有可以讀取的調(diào)制度。
另外，由于該光磁盤10的凹槽12在一部分地方形成中斷，在凹槽12中斷的區(qū)域形成軌道計數(shù)用凹溝14，所以，即使記錄軌道11的軌道間距采用窄間距，相鄰的凹槽12間的槽間表面13的寬度減小，也不會發(fā)生凹槽12與軌道計數(shù)用凹溝14相互干擾的不利情況。
因此，在該光磁盤10中，可以使記錄軌道11的軌道間距采用窄間距，從而提高面記錄密度。
特別是，近年來已提出了通過利用磁超解像(Magnetic SuperResolution)將軌道間距大幅度縮小的技術(shù)，按照該光磁盤10，不會發(fā)生凹槽12與軌道計數(shù)用凹溝14相互干擾的不利情況，從而應(yīng)用這樣的技術(shù)便可大幅度地提高面記錄密度。
以上，對將從M部101的槽間表面13開始的深度D1設(shè)定為大于從S部102的槽間表面13開始的深度D2的光磁盤10進(jìn)行了說明，但是，本發(fā)明的光磁盤并不限于這一例子，如圖7～圖11所示的那樣，也可以將從M部101的槽間表面開始的深度設(shè)定為小于從S部101的槽間表面開始的深度。圖7是將本發(fā)明的光磁盤20的記錄區(qū)域的一部分放大后示出的圖，圖8是沿圖7中的e-e線的剖面圖，圖9是沿圖7中的f-f線的剖面圖，圖10是沿圖7中的g-g線的剖面圖，圖11是沿圖7中的h-h線的剖面圖。
圖7～圖11所示的光磁盤20和上述光磁盤10一樣，在作為記錄軌道21的邊界的部分處沿記錄軌道21形成凹槽22。并且，設(shè)定相鄰的凹槽22間的槽間表面23作為用于利用光磁記錄來記錄信號的信號記錄區(qū)域。
另外，凹槽22和上述光磁盤10的凹槽11一樣，在各記錄軌道21基本上相同的地方處形成一部分中斷的區(qū)域。并且，光磁盤20在該凹槽22中斷的區(qū)域(標(biāo)題部H)的與槽間表面23相當(dāng)?shù)牡胤皆O(shè)置軌道計數(shù)用凹溝24。
該軌道計數(shù)用凹溝24由從作為基準(zhǔn)面的槽間表面23的表面開始以指定的深度形成的M部101和從該M部101的表面開始進(jìn)而以指定的深度形成的S部102作為一體的溝部來構(gòu)成。并且，該軌道計數(shù)用凹溝24在凹槽22中斷的區(qū)域的與槽間表面23相當(dāng)?shù)牡胤降拇笾轮醒氩垦赜涗涇壍?1形成。
設(shè)讀取用激光的波長為λ、盤片基板的折射率為n時，從M部101的槽間表面23開始的深度D4和從S部102的槽間表面23開始的深度D5設(shè)定為滿足λ/(4n)＜D4＜D5＜λ/(2n)的關(guān)系。即，設(shè)定從M部101的槽間表面23開始的深度D4和從S部102的槽間表面23開始的深度D5都大于λ/n的1/4，同時都小于λ/n的1/2，并且，設(shè)定從M部101的槽間表面23開始的深度D4小于從S部102的槽間表面23開始的深度D5。
另外，將M部101的寬度W4和S部102的寬度W5設(shè)定為相同的值，都設(shè)定為在記錄軌道21的軌道間距的1/2以下。
另外，在該光磁盤20中，也和上述光磁盤10一樣，設(shè)讀取用激光的波長為λ、盤片基板的折射率為n時，從凹槽22的槽間表面23開始的深度D6設(shè)定為滿足D6＜λ/(4n)的關(guān)系。即，設(shè)定從凹槽22的槽間表面23開始的深度D6小于λ/n的1/4。
另外，將凹槽22的寬度W6設(shè)定為在記錄軌道21的軌道間距的1/2以下。
對于按上述方式構(gòu)成的光磁盤20進(jìn)行查找操作、訪問所希望的記錄軌道21時，和上述光磁盤10一樣，在讀取用激光的光點橫截形成凹槽22的區(qū)域時，根據(jù)通過讀取用的激光照射到凹槽22上得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)，在讀取用激光的光點橫截凹槽22中斷的區(qū)域即形成軌道計數(shù)用凹溝24的標(biāo)題部H時，根據(jù)通過讀取用的激光照射到軌道計數(shù)用凹溝24上得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)。
這時，由于從軌道計數(shù)用凹溝24的M部101的槽間表面23開始的深度D4和從S部102的槽間表面23開始的深度D5都設(shè)定為大于λ/n的1/4，而從凹槽22的槽間表面23開始的深度D6設(shè)定為小于λ/n的1/4，所以，通過讀取用的激光照射到凹槽22上得到的信號的極性和通過讀取用的激光照射到在與凹槽22偏離約1/2軌道間距的位置上形成的軌道計數(shù)用凹溝24上得到的信號的極性就一致。因此，在該光磁盤20中，可以適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行軌道計數(shù)、訪問所希望的記錄軌道21。
此時，由于該光磁盤20將從軌道計數(shù)用凹溝24的M部101的槽間表面23開始的深度D4設(shè)定為小于從S部102的槽間表面23開始的深度D5，所以，可以使位模式具有可以讀取的重放調(diào)制度。
另外，由于該光磁盤20的凹槽22在一部分地方形成中斷區(qū)域，而在凹槽22中斷的區(qū)域形成軌道計數(shù)用凹溝24，所以，即使記錄軌道21的軌道間距采用窄間距，相鄰的凹槽22間的槽間表面23的寬度減小，也不會發(fā)生凹槽22與軌道計數(shù)用凹溝24相互干擾的不利情況。
因此，在該光磁盤20中，可以使記錄軌道21的軌道間距采用窄間距，從而提高面記錄密度。
(使M部和S部具有寬度的差別的例子)圖12-圖16是本發(fā)明的光磁盤的其他例子，表示通過使M部101和S部102具有寬度的差別而使位模式具有可以讀取的重放調(diào)制度的例子。圖12是將本發(fā)明的光磁盤30的記錄區(qū)域的一部分放大后示出的圖，圖13是沿圖12中的i-i線的剖面圖，圖14是沿圖12中的j-j線的剖面圖，圖15是沿圖12中的k-k線的剖面圖，圖16是沿圖12中的l-l線的剖面圖。
圖12～圖16所示的光磁盤30和上述光磁盤10、20一樣，在作為記錄軌道31的邊界的部分處沿記錄軌道31形成凹槽32。并且，相鄰的凹槽32間的槽間表面33設(shè)定為用于利用光磁記錄來記錄信號的信號記錄區(qū)域。
另外，凹槽32和上述光磁盤10、20的凹槽11、21一樣，在各記錄軌道基本上相同的地方處形成一部分中斷的區(qū)域。并且，光磁盤30在該凹槽32中斷的區(qū)域(標(biāo)題部H)的與槽間表面33相當(dāng)?shù)牡胤皆O(shè)置軌道計數(shù)用凹溝34。
該軌道計數(shù)用凹溝34由從作為基準(zhǔn)面的槽間表面33的表面開始以指定的深度形成的具有指定的寬度的S部102和以與該S部102相同的深度形成的寬度比S部102大的M部101作為一體的溝部而構(gòu)成。并且，該軌道計數(shù)用凹溝34在凹槽32中斷的區(qū)域的與槽間表面33相當(dāng)?shù)牡胤降拇笾轮醒氩垦赜涗涇壍?1形成。
設(shè)讀取用激光的波長為λ、盤片基板的折射率為n時，設(shè)定從M部101的槽間表面33開始的深度D7和從S部102的槽間表面33開始的深度D8設(shè)定為滿足λ/(4n)＜D7＜λ/(2n)、λ/(4n)＜D8＜λ/(2n)的關(guān)系。即，設(shè)定從M部101的槽間表面33開始的深度D7和從S部102的槽間表面33開始的深度D8大于λ/n的1/4，同時小于λ/n的1/2。另外，從M部101的槽間表面33開始的深度D7和從S部102的槽間表面33開始的深度D8都設(shè)定為相同的深度。
另外，M部101的寬度W7和S部102的寬度W8都設(shè)定為小于記錄軌道31的軌道間距的1/2，并且，將M部101的寬度W7設(shè)定為大于S部102的寬度W8。
另外，在該光磁盤30中，設(shè)讀取用激光的波長為λ、盤片基板的折射率為n時，設(shè)定從凹槽32的槽間表面33開始的深度D9滿足D9＜λ/(4n)的關(guān)系。即，將從凹槽32的槽間表面33開始的深度D9設(shè)定為小于λ/n的1/4。
另外，將凹槽32的寬度W9設(shè)定為在記錄軌道31的軌道間距的1/2以下。
對于按上述方式構(gòu)成的光磁盤30進(jìn)行查找、訪問所希望的記錄軌道31時，和上述光磁盤10、20一樣，在讀取用激光的光點橫截形成凹槽32的區(qū)域時根據(jù)通過讀取用的激光照射到凹槽32上得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)，在讀取用激光的光點橫截凹槽32中斷的區(qū)域即形成軌道計數(shù)用凹溝34的標(biāo)題部H時根據(jù)通過讀取用的激光照射到軌道計數(shù)用凹溝34上得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)。
這時，由于從軌道計數(shù)用凹溝34的M部101的槽間表面33開始的深度D7和從S部102的槽間表面33開始的深度D8都設(shè)定為大于λ/n的1/4，而從凹槽32的槽間表面33開始的深度D9設(shè)定為小于λ/n的1/4，所以，通過讀取用的激光照射到凹槽32上得到的信號的極性和通過讀取用的激光照射到在與凹槽32偏離約1/2軌道間距的位置上形成的軌道計數(shù)用凹溝34上得到的信號的極性就一致。因此，在該光磁盤30中，可以適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行軌道計數(shù)、訪問所希望的記錄軌道。
另外，由于該光磁盤30的軌道計數(shù)用凹溝34的M部101的寬度W7設(shè)定為大于S部102的寬度W8，所以，可以使位模式具有可以讀取的重放調(diào)制度。
另外，由于該光磁盤30的凹槽32形成為在一部分地方中斷，而在凹槽32中斷的區(qū)域中形成軌道計數(shù)用凹溝34，所以，即使記錄軌道31的軌道間距采用窄間距，相鄰的凹槽32間的槽間表面33的寬度減小，也不會發(fā)生凹槽32與軌道計數(shù)用凹溝34相互干擾的不利情況。
因此，在該光磁盤30中，可以使記錄軌道31的軌道間距采用窄間距，從而提高面記錄密度。
以上，對將M部101的寬度W7設(shè)定為比S部102的寬度W8大的光磁盤30進(jìn)行了說明，但是，本發(fā)明的光磁盤并不限于這一例子，如圖17～圖21所示，也可以將M部101的寬度設(shè)定為比S部102的寬度小。圖17是將本發(fā)明的光磁盤40的記錄區(qū)域的一部分放大后示出的圖，圖18是沿圖17中的m-m線的剖面圖，圖19是沿圖17中的n-n線的剖面圖，圖20是沿圖17中的o-o線的剖面圖，圖21是沿圖17中的p-p線的剖面圖。
圖17～圖21所示的光磁盤40和上述光磁盤10、20、30一樣，在作為記錄軌道41的邊界的部分處沿記錄軌道41形成凹槽42。并且，將相鄰的凹槽42間的槽間表面43設(shè)定為由于利用光磁記錄來記錄信號的信號記錄區(qū)域。
另外，凹槽42和上述光磁盤10、20、30的凹槽11、21、31一樣，在各記錄軌道41基本上相同的地方形成一部分中斷的區(qū)域。并且，光磁盤40在與該凹槽42中斷的區(qū)域(標(biāo)題部H)的槽間表面43相當(dāng)?shù)牡胤皆O(shè)置軌道計數(shù)用凹溝44。
該軌道計數(shù)用凹溝44由從作為基準(zhǔn)面的槽間表面43的表面開始以指定的深度形成的具有指定的寬度的S部102和形成與該S部102相同深度的寬度比S部102大的M部101作為一體的溝部而構(gòu)成。并且，該軌道計數(shù)用凹溝44在與凹槽42中斷的區(qū)域的槽間表面43相當(dāng)?shù)牡胤降拇笾轮醒氩垦赜涗涇壍?1形成。
設(shè)讀取用激光的波長為λ、盤片基板的折射率為n時，設(shè)定從M部101的槽間表面43開始的深度D10和從S部102的槽間表面43開始的深度D11滿足λ/(4n)＜D10＜λ/(2n)、λ/(4n)＜D11＜λ(2n)的關(guān)系。即，設(shè)定從M部101的槽間表面43開始的深度D10和從S部102的槽間表面43開始的深度D11大于λ/n的1/4，同時小于λ/n的1/2。另外，從M部101的槽間表面43開始的深度D10和從S部102的槽間表面43開始的深度D11都設(shè)定為相同的深度。
另外，M部101的寬度W10和S部102的寬度W11都設(shè)定為在記錄軌道41的軌道間距的1/2以下，并且將M部101的寬度W10設(shè)定為比S部102的寬度W11小。
另外，在該光磁盤40中，設(shè)讀取用激光的波長為λ、盤片基板的折射率為n時，設(shè)定從凹槽42的槽間表面43開始的深度D12滿足D12＜λ/(4n)的關(guān)系。即，將從凹槽42的槽間表面43開始的深度D12設(shè)定為小于λ/n的1/4。
另外，將凹槽42的寬度W12設(shè)定為在記錄軌道41的軌道間距的1/2以下。
對于按上述方式構(gòu)成的光磁盤40進(jìn)行查找操作、訪問所希望的記錄軌道41時，和上述光磁盤10、20、30一樣，在讀取用激光的光點橫截形成凹槽42的區(qū)域時根據(jù)通過讀取用的激光照射到凹槽42上得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)，在讀取用激光的光點橫截凹槽42中斷的區(qū)域即形成軌道計數(shù)用凹溝44的標(biāo)題部H時根據(jù)通過讀取用的激光照射到軌道計數(shù)用凹溝44上得到的信號進(jìn)行軌道計數(shù)。
這時，由于從軌道計數(shù)用凹溝44的M部101的槽間表面43開始的深度D10和從S部102的槽間表面43開始的深度D11都設(shè)定為大于λ/n的1/4，而從凹槽42的槽間表面43開始的深度D12設(shè)定為小于λ/n的1/4，所以，通過讀取用的激光照射到凹槽42上得到的信號的極性和通過讀取用的激光照射到在與凹槽42偏離約1/2軌道間距的位置形成的軌道計數(shù)用凹溝44上得到的信號的極性就一致。因此，在該光磁盤40中，就可以適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行軌道計數(shù)、訪問所希望的記錄軌道。
另外，由于該光磁盤40將軌道計數(shù)用凹溝44的M部101的寬度W10設(shè)定為小于S部102的寬度W11，所以，可以使位模式具有可以讀取的重放調(diào)制度。
另外，由于該光磁盤40的凹槽42在一部分地方形成中斷區(qū)域，并在凹槽42中斷的區(qū)域中形成軌道計數(shù)用凹溝44，所以，即使記錄軌道41的軌道間距采用窄間距，相鄰的凹槽42間的槽間表面43的寬度減小，也不會發(fā)生凹槽42與軌道計數(shù)用凹溝44相互干擾的不利情況。
因此，在該光磁盤40中，可以使記錄軌道41的軌道間距采用窄間距，從而提高面記錄密度。
下面，說明上述本發(fā)明的光磁盤的制造方法。
本發(fā)明的光磁盤，如上所述，是通過在盤片基板上順序?qū)盈B光磁記錄層和保護(hù)層而制造的。
該光磁盤的盤片基板是將已形成了光磁盤的凹槽和位模式的反轉(zhuǎn)圖形的盤片原盤置于射出成形裝置的一對金屬模的空腔內(nèi)，通過向該金屬空腔射出加熱熔融了的盤片材料而得到的。
制作盤片基板時使用的盤片是按以下所述的方法制造的。
首先，在表面經(jīng)過精密研磨后的圓盤狀的玻璃基板的主面上，通過緊密粘接增強(qiáng)劑等均勻地涂布對曝光裝置的激光的波長具有足夠的靈敏度的光致抗蝕劑。并且，通過揮發(fā)該光致抗蝕劑的有機(jī)溶劑，在玻璃基板上形成光致抗蝕劑層。
其次，將已形成了光致抗蝕劑層的玻璃基板設(shè)置到曝光裝置中。并且，使用該曝光裝置使激光在玻璃基板上的光致抗蝕劑層上進(jìn)行掃描，在光致抗蝕劑層上形成與光磁盤的凹槽和軌道計數(shù)用凹溝對應(yīng)的潛像。
這時，如上述圖2～圖6所示的光磁盤10或上述圖7～圖11所示的光磁盤20那樣，在制造具有M部的深度和S部的深度互不相同的軌道計數(shù)用凹溝的光磁盤的盤片原盤時，通過使照射到與光致抗蝕劑層的M部對應(yīng)的地方的激光的光強(qiáng)度和照射到與光致抗蝕劑層的S部對應(yīng)的地方的激光的光強(qiáng)度不同，在光致抗蝕劑層上形成深度互不相同的與M部對應(yīng)的潛像和與S部對應(yīng)的潛像。
另外，如上述圖12～圖16所示的光磁盤30或圖17～圖21所示的光磁盤40那樣，在制造具有M部的寬度和S部的寬度互不相同的軌道計數(shù)用凹溝的光磁盤的盤片原盤時，通過使照射到與光致抗蝕劑層的M部對應(yīng)的地方的激光的光束直徑和照射到與光致抗蝕劑層的S部對應(yīng)的地方的激光的光束直徑不同，在光致抗蝕劑層上形成寬度互不相同的與M部對應(yīng)的潛像和與S部對應(yīng)的潛像。
其次，使用堿性的顯影液對已形成潛像的抗蝕劑層進(jìn)行顯影處理。這樣，就形成了具有與指定的凹槽及軌道計數(shù)用凹溝對應(yīng)的凹凸圖形的抗蝕劑原盤。
然后，在抗蝕劑原盤的具有凹凸圖形的主面上，使用濺射法、真空鍍膜法、無電解電鍍法等方法形成銀或鎳等的金屬膜。
然后，將已形成了金屬膜的抗蝕劑原盤設(shè)置到電鍍裝置中，將金屬膜作為電極進(jìn)行電鍍。這樣，就在抗蝕劑原盤的主面上形成電鍍層。
然后，將抗蝕劑原盤從金屬膜和電鍍層上剝離下來，通過沖壓除去多余的金屬膜，就完成了盤片原盤的制作。
按照以上說明的方法，由于只改變照射到光致抗蝕劑層上的激光的光強(qiáng)度或光束直徑就可以適當(dāng)?shù)匦纬膳c上述軌道計數(shù)用凹部對應(yīng)的潛像，所以，本發(fā)明的光磁盤用的盤片原盤的制造較容易。
產(chǎn)業(yè)上利用的可能性本發(fā)明的光學(xué)記錄媒體在凹槽中斷的區(qū)域中設(shè)置用于利用光學(xué)方法檢測讀取用激光的光點橫截記錄軌道的信息的檢測模式，所以，在進(jìn)行軌道訪問時，通過讀取用激光的光點在檢測模式上移動，便可檢測光點橫截記錄軌道的信息，從而可以適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行高速訪問。
另外，本發(fā)明的光學(xué)記錄媒體用基板在與凹槽中斷的區(qū)域?qū)?yīng)的地方設(shè)置用于利用光學(xué)方法檢測激光的光點橫截記錄軌道的信息的檢測模式，所以，使用該光學(xué)記錄媒體用基板的光學(xué)記錄媒體在進(jìn)行軌道訪問時，通過讀取用激光的光點在檢測模式上移動，便可檢測光點橫截記錄軌道的信息，從而可以適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行高速訪問。
另外，按照本發(fā)明的盤片原盤的制造方法，在使激光照射感光材料層形成與檢測模式對應(yīng)的潛像時，通過使激光的光強(qiáng)度在照射到與位模式相當(dāng)?shù)牟糠謺r和照射到除此以外的部分時不同，在與位模式相當(dāng)?shù)牟糠趾驮诔艘酝獾牟糠中纬缮疃然ゲ幌嗤臐撓?，所以，在與位模式相當(dāng)?shù)牟糠趾统艘酝獾牟糠种腥菀仔纬膳c深度互不相同的檢測模式對應(yīng)的潛像。
另外，按照本發(fā)明的盤片原盤的制造方法，在使激光照射感光材料層形成與檢測模式對應(yīng)的潛像時，通過使激光的光束直徑在照射到與位模式相當(dāng)?shù)牟糠謺r和照射到除此以外的部分時不同，在與位模式相當(dāng)?shù)牟糠趾驮诔艘酝獾牟糠中纬膳c寬度互不相同的檢測模式對應(yīng)的潛像，所以，在與位模式相當(dāng)?shù)牟糠趾统艘酝獾牟糠秩菀仔纬膳c寬度互不相同的檢測模式對應(yīng)的潛像。
另外，按照本發(fā)明的軌道訪問方法，在凹槽中斷的區(qū)域中，根據(jù)利用光學(xué)方法從檢測模式得到的信息進(jìn)行軌道計數(shù)，在形成凹槽的區(qū)域中，根據(jù)從凹槽利用光學(xué)方法得到的信息進(jìn)行軌道計數(shù)，所以，可以適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行軌道計數(shù)，從而可以對所希望的記錄軌道進(jìn)行高速訪問。
權(quán)利要求
1.一種在沿同心圓形狀或螺旋狀的凹槽形成記錄軌道、在凹槽與凹槽間的槽間表面部分記錄信息，同時在記錄區(qū)域的一部分中具有上述凹槽中斷的區(qū)域，在該凹槽中斷的區(qū)域中與槽間表面對應(yīng)的部分中形成表示關(guān)于上述記錄軌道的信息的位模式而構(gòu)成的光學(xué)記錄媒體，其特征在于在上述凹槽中斷的區(qū)域中設(shè)置用于以光學(xué)方法檢測讀取用激光的光點橫截記錄軌道的信息的檢測模式。
2.按權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于上述檢測模式是與上述位模式一體地沿上述記錄軌道形成的凹溝。
3.按權(quán)利要求2所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于設(shè)上述凹槽的深度為Dg、上述位模式的深度為Dp，上述凹溝的深度為Dh、上述讀取用激光的波長為λ，該光學(xué)記錄媒體中使用的基板的折射率為n時，則全部滿足下述式(1)～(4)的關(guān)系。即Dg＜λ/(4n) …(1)λ/(4n)＜Dp＜λ/(2n)…(2)λ/(4n)＜Dh＜λ/(2n)…(3)Dp≠Dh …(4)
4.按權(quán)利要求2所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于設(shè)上述凹槽的深度為Dg、上述住模式的深度為Dp、上述凹溝的深度為Dh、上述位模式的寬度為Wp、上述凹溝的寬度為Wh、上述讀取用激光的波長為λ、該光學(xué)記錄媒體使用的基板的折射率為n時，則全部滿足下述式(5)～(8)的關(guān)系。即Dg＜λ/(4n)…(5)λ/(4n)＜Dp＜λ/(2n) …(6)λ/(4n)＜Dh＜λ/(2n) …(7)Wp≠Wh …(8)
5.按權(quán)利要求2所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于設(shè)上述凹槽的寬度為Wg、上述位模式的寬度為Wp、上述凹溝的寬度為Wh、上述記錄軌道的軌道間距為TP時，則全部滿足下述式(9)～(11)的關(guān)系。即Wg＜TP/2…(9)Wp＜TP/2…(10)Wh＜TP/2 …(11)
6.一種在沿同心圓形狀或螺旋狀的凹槽形成記錄軌道、在凹槽與凹槽間的槽間表面部分記錄信息，同時在記錄區(qū)域的一部分中具有凹槽中斷的區(qū)域，在該凹槽中斷的區(qū)域中與槽間表面對應(yīng)的部分中形成表示關(guān)于記錄軌道的信息的位模式而構(gòu)成的光學(xué)記錄媒體中使用的光學(xué)記錄媒體用基板，其特征在于在與上述凹槽中斷的區(qū)域?qū)?yīng)的地方設(shè)置用于利用光學(xué)方法檢測讀取用激光的光點橫截上述記錄軌道的信息的檢測模式。
7.按權(quán)利要求6所述的光學(xué)記錄媒體用基板，其特征在于上述檢測模式是與作為上述位模式的凹部一體地沿上述記錄軌道形成的凹溝。
8.一種制造在沿同心圓形狀或螺旋狀的凹槽形成記錄軌道、在凹槽與凹槽間的槽間表面部分記錄信息，同時在記錄區(qū)域的一部分中具有凹槽中斷的區(qū)域，在該凹槽中斷的區(qū)域中的與槽間表面對應(yīng)的部分中一體地形成表示關(guān)于記錄軌道的信息的位模式和以光學(xué)方式檢測讀取用激光的光點橫截記錄軌道的信息用的檢測模式的光學(xué)記錄媒體用的盤片原盤的盤片原盤的制造方法，其特征在于在對感光材料層照射激光、形成與上述檢測模式對應(yīng)的潛像時，通過使上述激光的光強(qiáng)度在照射與上述位模式相當(dāng)?shù)牟糠謺r和照射除此以外的部分時不同，在與位模式相當(dāng)?shù)牟糠趾统艘酝獾牟糠种行纬膳c深度互不相同的檢測模式對應(yīng)的潛像。
9.一種制造在沿同心圓形狀或螺旋狀的凹槽形成記錄軌道、在凹槽與凹槽間的槽間表面部分記錄信息，同時在記錄區(qū)域的一部分具有凹槽中斷的區(qū)域，在該凹槽中斷的區(qū)域中的與槽間表面對應(yīng)的部分中一體地形成表示關(guān)于記錄軌道的信息的位模式和以光學(xué)方式檢測讀取用激光的光點橫截記錄軌道的信息用的檢測模式的光學(xué)記錄媒體用的盤片原盤的盤片原盤的制造方法，其特征在于在向感光材料層照射激光、形成與上述檢測模式對應(yīng)的潛像時，通過使上述激光的光束直徑在照射與上述位模式相當(dāng)?shù)牟糠謺r和照射除此以外的部分時不同，在與位模式相當(dāng)?shù)牟糠趾统艘酝獾牟糠种行纬膳c寬度互不相同的檢測模式對應(yīng)的潛像。
10.一種軌道訪問方法，其特征在于對沿同心圓形狀或螺旋狀的凹槽形成記錄軌道、在凹槽與凹槽間的槽間表面部分記錄信息、同時在記錄區(qū)域的一部分中具有凹槽中斷的區(qū)域、在該凹槽中斷的區(qū)域中的與槽間表面對應(yīng)的部分中一體地形成表示關(guān)于記錄軌道的信息的位模式和以光學(xué)方式檢測讀取用激光的光點橫截記錄軌道的信息用的檢測模式的光學(xué)記錄媒體進(jìn)行查找操作訪問所希望的記錄軌道時，在上述凹槽中斷的區(qū)域中，根據(jù)用光學(xué)方法從上述檢測模式得到的信息進(jìn)行軌道計數(shù)，在形成上述凹槽的區(qū)域中，根據(jù)用光學(xué)方法從上述凹槽得到的信息進(jìn)行軌道計數(shù)。
全文摘要
在沿同心圓形狀或螺旋狀的凹槽12形成的記錄軌道11的中途部分形成凹槽12中斷的區(qū)域、并在該凹槽12中斷的區(qū)域中形成表示關(guān)于記錄軌道的信息的位模式而構(gòu)成的光磁盤10中,在凹槽12中斷的區(qū)域中設(shè)置用于利用光學(xué)方法檢測讀取用激光的光點橫截記錄軌道11的信息的軌道計數(shù)用凹溝14。利用上述結(jié)構(gòu),可以適應(yīng)高密度記錄,并對所希望的記錄軌道適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行高速訪問。
文檔編號G11B7/26GK1274459SQ99801301
公開日2000年11月22日 申請日期1999年6月4日 優(yōu)先權(quán)日1998年6月4日
發(fā)明者竹本宏之, 竹內(nèi)厚, 福島義仁, 伊藤健一, 守部峰生, 沼田健彥 申請人:索尼公司, 富士通株式會社