專(zhuān)利名稱(chēng):光盤(pán)記錄/重放設(shè)備及方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種光盤(pán)記錄/重放設(shè)備及方法,特別是涉及一種能夠向/從高密度光盤(pán)記錄或重放數(shù)據(jù)的光盤(pán)記錄/重放設(shè)備及方法。
為了向/從高密度光盤(pán)記錄或重放數(shù)據(jù),必需使應(yīng)用于光盤(pán)的光點(diǎn)的尺寸降到最小。眾所周知光點(diǎn)的尺寸與λ/NA成正比,這里λ為光源的波長(zhǎng),NA為物鏡的數(shù)值孔徑。因此,當(dāng)波長(zhǎng)恒定時(shí),物鏡數(shù)值孔徑的增加能夠增加記錄密度。由于制造原因,在目前可得到的光盤(pán)中用作非球面單透鏡的物鏡被認(rèn)為只具有最大為0.6的數(shù)值孔徑。
此外,當(dāng)數(shù)值孔徑增加和光盤(pán)基片的厚度增加時(shí),和光盤(pán)基片厚度增加時(shí),光盤(pán)記錄/重放將更容易受光盤(pán)的傾斜或卷曲產(chǎn)生的波面畸變和組裝精確性的影響。為此,當(dāng)使用具有大數(shù)值孔徑的透鏡作為物鏡時(shí),就必需減小光盤(pán)基片的厚度。例如,根據(jù)DVD(數(shù)字通用盤(pán))技術(shù)要求,基片厚度被限定為0.6mm。
作為一種數(shù)值孔經(jīng)超過(guò)0.6的物鏡單元,已知一種由一個(gè)固態(tài)浸沒(méi)透鏡(SIL)和一個(gè)由Kina等人提出的物鏡(USP 5,125,750)組成的二透鏡單元。由于有了該二透鏡單元,因而提出了具有超過(guò)0.8的數(shù)值孔徑的光盤(pán)記錄/重放光學(xué)系統(tǒng)。
在這種采用二透鏡單元的這種光學(xué)系統(tǒng)中,必需以最佳值保持SIL與光盤(pán)之間的距離(空氣間隙)。如果極大地改變?cè)摽諝忾g隙,則產(chǎn)生波面畸變,降低信號(hào)質(zhì)量,而且最壞的情況是不能在或從光盤(pán)記錄或重放數(shù)據(jù)。
在這種使用二透鏡單元的光學(xué)系統(tǒng)中,保持空氣間隙的不變等效于保持透鏡單元的兩個(gè)透鏡之間的距離不變。如果用調(diào)節(jié)器調(diào)整二透鏡單元的兩個(gè)透鏡之間的距離以適應(yīng)光盤(pán)厚度的變化,則需要復(fù)雜的結(jié)構(gòu)并且很難確保組裝的精確性。
本發(fā)明的目的是提供一種簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)使用了能夠精確地記錄和重放數(shù)據(jù)的二透鏡單元。
圖1是顯示本發(fā)明光盤(pán)記錄/重放設(shè)備結(jié)構(gòu)(實(shí)例)的方框圖;圖2示出了圖1的光學(xué)頭的詳細(xì)結(jié)構(gòu);圖3說(shuō)明了光點(diǎn)的位置;圖4示出了圖2的光電二極管33的具體結(jié)構(gòu);
圖5說(shuō)明了圖2的物鏡27和前透鏡(FORWARDLENS)28的安裝狀態(tài);圖6說(shuō)明了透鏡尺寸與數(shù)值孔徑之間的關(guān)系。
圖1是顯示本發(fā)明實(shí)施例的光盤(pán)記錄/重放設(shè)備的結(jié)構(gòu)的方框圖。需要說(shuō)明的是下面的說(shuō)明是針對(duì)磁-光盤(pán)用作光盤(pán)時(shí)的情況來(lái)進(jìn)行的。磁-光盤(pán)1由主軸電機(jī)2以預(yù)定的速度旋轉(zhuǎn)。光學(xué)頭單元3把激光束和磁場(chǎng)施加到磁-光盤(pán)1上,用于向/從磁-光盤(pán)記錄或重放數(shù)據(jù)。記錄/重放電路4調(diào)制從端子5施加的記錄信號(hào),以便把調(diào)制信號(hào)加到光學(xué)頭單元3上;并解調(diào)從光學(xué)頭單元3輸出給磁-光盤(pán)1的重放信號(hào),以便從端子5輸出。
伺服電路6包含一個(gè)聚焦伺服電路11,一個(gè)跟蹤伺服電路12,一個(gè)拖動(dòng)伺服電路13,一個(gè)主軸伺服電路14,和一個(gè)自動(dòng)電源控制(APC)電路15。伺服電路6從由光學(xué)頭單元3輸出的信號(hào)中再現(xiàn)預(yù)定誤差信號(hào),以便執(zhí)行伺服操作。也就是說(shuō),(例如)聚焦伺服電路11根據(jù)象散現(xiàn)象從光學(xué)頭單元3輸出的信號(hào)中產(chǎn)生聚焦誤差信號(hào),以便控制光學(xué)頭單元3根據(jù)該聚焦誤差信號(hào)進(jìn)行聚焦。跟蹤伺服電路12(例如)根據(jù)USP 4,775,968中公開(kāi)的差分推挽方法從光學(xué)頭單元3輸出的信號(hào)中產(chǎn)生跟蹤誤差信號(hào),并控制光學(xué)頭單元3根據(jù)該跟蹤誤差信號(hào)進(jìn)行跟蹤。
拖動(dòng)伺服電路13從跟蹤誤差信號(hào)的直流分量中產(chǎn)生拖動(dòng)誤差信號(hào),并根據(jù)該拖動(dòng)誤差信號(hào)驅(qū)動(dòng)拖動(dòng)電機(jī)7,以便在磁-光盤(pán)1的預(yù)定半徑位置中驅(qū)動(dòng)光學(xué)頭單元3。主軸伺服電路14產(chǎn)生主軸誤差信號(hào),并根據(jù)該主軸誤差信號(hào)驅(qū)動(dòng)主軸電機(jī),以便以預(yù)定的速度旋轉(zhuǎn)磁-光盤(pán)1。APC電路15進(jìn)行控制以致光學(xué)頭單元3內(nèi)置的激光二極管(下面將進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明)發(fā)射恒定強(qiáng)度的激光束。
微計(jì)算機(jī)8根據(jù)來(lái)自操作塊9的操作信號(hào)控制各個(gè)部件,用于執(zhí)行記錄或重放。
下面將說(shuō)明微計(jì)算機(jī)8的工作情況。當(dāng)操作塊9工作以發(fā)出記錄指令時(shí),微計(jì)算機(jī)8控制各個(gè)部件以開(kāi)始記錄操作。首先,伺服電路6的主軸伺服電路14驅(qū)動(dòng)主軸電機(jī)2,使其以預(yù)定速度旋轉(zhuǎn)磁-光盤(pán)。光學(xué)頭單元3向磁-光盤(pán)1發(fā)射來(lái)自?xún)?nèi)置激光二極管的激光束和接收反射光束,以便輸出聚焦伺服和跟蹤伺服所需的信號(hào)。聚焦伺服電路11和跟蹤伺服電路12從該信號(hào)中分別產(chǎn)生聚焦誤差信號(hào)和跟蹤誤差信號(hào),以便控制光學(xué)頭3聚焦或跟蹤。
另一方面,由端子5輸入的記錄信號(hào)在記錄/重放電路4中以預(yù)定的方法調(diào)制,并提供給光學(xué)頭單元3。光學(xué)頭單元3根據(jù)施加的信號(hào)控制激光二極管。光學(xué)頭單元3具有一個(gè)磁頭(下面將進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明),該磁頭向磁-光盤(pán)1施加具有預(yù)定磁偏的磁場(chǎng)。所以,數(shù)據(jù)通過(guò)所謂的磁-光效應(yīng)被記錄在磁-光盤(pán)1上。對(duì)這個(gè)數(shù)據(jù)記錄而言,拖動(dòng)伺服電路13控制拖動(dòng)電機(jī)7,以便沿磁-光盤(pán)1的半徑方向移動(dòng)光學(xué)頭單元3的位置。從而,使數(shù)據(jù)記錄在磁-光盤(pán)1上。
另一方面,當(dāng)操作塊9工作以發(fā)出重放指令時(shí),微計(jì)算機(jī)8控制相應(yīng)的部件,以開(kāi)始重放操作。光學(xué)頭單元3重放來(lái)自磁-光盤(pán)1的數(shù)據(jù),和輸出重放信號(hào)。重放信號(hào)被加到記錄/重放電路4上,在這里信號(hào)被解調(diào)并從端子5輸出。APC電路15監(jiān)視施加在磁-光盤(pán)1上的激光束,并進(jìn)行控制以便施加一個(gè)恒定強(qiáng)度的激光束。
應(yīng)該說(shuō)明的是伺服電路6的其它伺服操作與記錄方式的操作強(qiáng)相同。
圖2示出了光學(xué)頭單元3具體結(jié)構(gòu)。激光二極管2 1發(fā)出(例如)具有680nm波長(zhǎng)的激光束。準(zhǔn)直儀透鏡22把激光二極管21發(fā)射的發(fā)散光束轉(zhuǎn)換成平行光束。光柵23把來(lái)自準(zhǔn)直儀透鏡22的激光束分解成三束激光束。光柵23發(fā)射的激光束進(jìn)入分束器24,在這里部分光束被反射面24A反射,并經(jīng)凸透鏡25引入APC光電檢測(cè)器26。
穿過(guò)反射面24A的激光束的另一部分由物鏡27會(huì)聚,并經(jīng)前透鏡28施加到磁-光盤(pán)1上。在施加激光束的磁-光盤(pán)1的相對(duì)面(另一面)上,設(shè)置了磁頭29以便施加一個(gè)具有預(yù)定磁偏的磁場(chǎng)。
從磁-光盤(pán)1反射的激光束經(jīng)前透鏡28和物鏡27返回到光束分束器24,在這里部分(例如30%)p偏振分量和幾乎所有s偏振分量被反射面24A反射,并被引入光束分束器30。激光束進(jìn)入光束分束器30后,部分激光束被反射面30A反射,然后由凸透鏡31會(huì)聚,并且在被引入伺服信號(hào)光電二極管33之前由柱面透鏡32給出消像散聚焦。
另一方面,穿過(guò)反射面30A的另一部分激光束經(jīng)用于調(diào)整光量均衡的半波板34引入偏振束分束器38。
在來(lái)自進(jìn)入偏振光束分束器38的激光束中。p偏振分量穿過(guò)反射面38A,并且在經(jīng)凹透鏡36引入光電檢測(cè)器37之前,由凸透鏡35轉(zhuǎn)換。此外,在來(lái)自進(jìn)入偏振光束分束器38的激光束中,S偏振分量被反射面38A反射,然后由反射面38B反射,該反射光束在經(jīng)凹透鏡40被引入光電檢測(cè)器41之前,由凸透鏡39聚焦。光電檢測(cè)器37輸出與光電檢測(cè)器41輸出之間的差值由差分放大器42計(jì)算并作為重放的磁-光信號(hào)被輸出。
在重放模式期間,激光二極管21發(fā)射的并由準(zhǔn)直儀透鏡22轉(zhuǎn)換成平行光束的激光束,由光柵23分解成三束激光束,再經(jīng)光束分束器24引入物鏡27。由物鏡27聚焦的激光束經(jīng)前透鏡28施加到磁-光盤(pán)1上。
在此過(guò)程中,施加在磁-光盤(pán)上的部分激光束被光束分束器24的反射面24A反射,并經(jīng)凸透鏡25施加到光電檢測(cè)器26上。伺服電路6的APC電路15控制激光二極管21發(fā)射的激光束的功率,使光電檢測(cè)器26的輸出在預(yù)定的參考水平上。
如圖3所示,在磁-光盤(pán)1上,由光柵23分解的三束光束的中心激光束在記錄數(shù)據(jù)或重放數(shù)據(jù)的紋道(軌跡)上形成光點(diǎn)S1,而在中心光束的右邊和左邊排列的激光束則在形成光點(diǎn)S1的紋道的右邊和左邊定位的紋間表面上形成光點(diǎn)S2或S3。
從光點(diǎn)S1,S2,S3反射的光束經(jīng)前透鏡28和物鏡27引入光束分束鏡24,在這里光束被反射面24A反射。反射面24A反射的激光束被引入到光束分束鏡30上,在這里部分光束被反射面30A反射。反射面30A反射的激光束經(jīng)凸透鏡31引入柱面透鏡32,在這里激光束產(chǎn)生消像散聚焦并被引入光電二極管33中。
如圖4所述,光電二極管33由用于接收從光點(diǎn)S1反射的光束的光電二極管51和用于接收從光點(diǎn)S2或S3反射的光束的光電二極管52和53組成。沿軌跡方向(由箭頭M表示)和垂直軌跡方向的垂直方向(由箭頭N表示)分割光電二極管51,從而形成四個(gè)區(qū)域A至D。光電二極管52和53分別沿軌跡方向被分割,從而分別形成兩個(gè)區(qū)域E和F,和G和H。
聚焦伺服電路11根據(jù)下列公式計(jì)算光電檢測(cè)器51的區(qū)域A至D的輸出,以便產(chǎn)生聚焦誤差信號(hào)F。
F=(A+C)-(B+D)另一方面,跟蹤伺服電路12根據(jù)下列公式計(jì)算光電二極管51至53的區(qū)域A至H的輸出,以便產(chǎn)生跟蹤誤差信號(hào)T。
T=(A+D)-(B+C)-k〔(E-F)+(G-H)〕伺服電路6根據(jù)用于執(zhí)行聚焦控制和跟蹤控制的聚焦誤差信號(hào)和跟蹤誤差信號(hào)控制光學(xué)頭單元3的致動(dòng)器(下面將作詳細(xì)說(shuō)明)。
進(jìn)入光束分束器30的大部分光束穿過(guò)反射面30A并經(jīng)半波板34引入偏振光束分束器38。該光束中的p偏振光束分量經(jīng)凸透鏡35和凹透鏡36引入光電檢測(cè)器37,而s偏振分量則經(jīng)反射面38A,反射面38B,凸透鏡39,和凹透鏡40引入光電檢測(cè)器41。來(lái)自光電檢測(cè)器27的P偏振分量與來(lái)自光電檢測(cè)器41的輸出信號(hào)分量之間的差值由差動(dòng)放大器42計(jì)算并作為磁-光信號(hào)向記錄/重放電路4輸出。記錄/重放電路4解調(diào)施加的磁-光信號(hào)和從端子5輸出合成信號(hào)。
另一方面,在記錄方式中,根據(jù)記錄信號(hào)控制激光二極管21。此外,磁頭29把具有預(yù)定磁偏的磁場(chǎng)加給磁-光盤(pán)1上。因此,在磁-光盤(pán)1上形成的光點(diǎn)S1位置上,形成與記錄數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的標(biāo)志(磁化)由此記錄數(shù)據(jù)。
圖5示出了光學(xué)頭單元3的可動(dòng)部分的具體結(jié)構(gòu)。如圖5所示,物鏡27和前透鏡28被分別固定在透鏡支架71的預(yù)定位置。物鏡27具有約0.45的數(shù)值孔徑。由于該物鏡27與前透鏡28配合使用,入射的數(shù)值孔徑應(yīng)乘約1.8,因此物鏡27和前透鏡28組成的整個(gè)單元的總數(shù)值孔徑約為0.8。
物鏡27和前透鏡28的安裝位置,這些透鏡之間的距離,和透鏡傾角造成的透鏡組裝誤差通過(guò)透鏡支架71的精確調(diào)整來(lái)確定。如果假定光學(xué)可容許的波面畸變?yōu)棣?4(λ是光的波長(zhǎng)),則組裝精度公差為透鏡之間的位置調(diào)整為±80μm;透鏡之間的距離為±25μm;傾角為±0.4度。通過(guò)精確的機(jī)械調(diào)節(jié)能夠得到這種組裝精度。
當(dāng)使用具有高數(shù)值孔徑的透鏡單元(二透鏡單元)在/從磁-光盤(pán)1記錄或重放數(shù)據(jù)時(shí),如果該盤(pán)具有厚的基片,則由上述的磁-光盤(pán)1的傾角造成的幀畸變?nèi)菰S值明顯降低。也就是說(shuō),如圖5所示,在磁-光盤(pán)1中的基片61上形成了記錄層(MO層)62,在其上還形成了保護(hù)層63。激光束經(jīng)基片61施加在記錄層62上。在這個(gè)實(shí)施例中,基片61具有0.1mm的厚度。這樣,與DVD(0.6mm)相比,基片61做得很薄。因而,對(duì)光盤(pán)卷曲的情況而言,甚至在使用具有高數(shù)值孔徑的透鏡單元時(shí)也能減少幀畸變的影響。
當(dāng)θ被設(shè)定為透鏡會(huì)聚角時(shí),數(shù)值孔徑NA被定義為sinθ。所以,如圖6所示,如果透鏡半徑恒等,則數(shù)值孔徑NA增加,工作距離D減小。也就是說(shuō),如圖6A和圖6B所示,如果透鏡半徑相同R1=R2和圖6A的透鏡數(shù)值孔徑NA1(=sinθ1)小于圖6B的透鏡數(shù)值孔徑NA2(=sinθ2),則前者的工作距離D1大于后者的工作距離D2。在這個(gè)實(shí)施例中,工作距離D被設(shè)定為100μm。該工作距離根據(jù)聚焦誤差信號(hào)通過(guò)驅(qū)動(dòng)在透鏡支架71周?chē)O(shè)置的器72一直保持不變。
然而,如上所述,如果機(jī)片61具有不均勻的厚度,則在激光束中產(chǎn)生球差。特別是在使用具有高數(shù)值孔徑的二透鏡單元的本實(shí)施例中,如果光盤(pán)生產(chǎn)期間產(chǎn)生的系數(shù)造成了基片厚度的極大變化,則重放信號(hào)的質(zhì)量明顯變壞。然而,如果基片61的厚度公差假定約為±5μm,則具有0.1mm厚度的基片的公差為±5%,并且能夠?qū)⒒?1的厚度控制在這個(gè)范圍內(nèi)。換句話說(shuō),如果基片61具有公差在±5%內(nèi)的厚度,則能夠減小由實(shí)際使用范圍內(nèi)產(chǎn)生的球差引起的重放信號(hào)的質(zhì)量變壞,以實(shí)現(xiàn)能夠以高密度記錄/重放的磁-光盤(pán)。
應(yīng)該明白的是,由于使用了二透鏡結(jié)構(gòu),因此能夠得到透鏡單元0.8至1.0的高數(shù)值孔徑。因而能夠?qū)崿F(xiàn)具有高密度的記錄/重放。
物鏡27的表面27A和表面27B及前透鏡28的表面28A是非球面。在這些表面為非球面的情況下,能夠增加安裝誤差的公差。
基片61的厚度最好為0.1mm至0.3mm,這是因?yàn)?,如果厚度太大,則增加彎曲的影響。
工作距離D(例如)最好為50μm或以上,如果太小,則磁-光盤(pán)上的灰塵會(huì)與前透鏡28接觸,而損壞前透鏡28。
此外,與圖6C所示,如果在實(shí)現(xiàn)工作距離D3(=D1)等于具有更小數(shù)值孔徑NA1的透鏡的工作距離D1的期間,使用了具有更大數(shù)值孔徑NA2(NA2>NA1)的透鏡,則透鏡半徑R3變得大于具有較小數(shù)值孔徑NA1的透鏡的半徑R1。所以,整個(gè)設(shè)備的尺寸變得更大。因此工作距離的值d最好為500μm或以下。換句話說(shuō),如果為得到大于500μm的工作距離使用了具有0.8數(shù)值孔徑NA的透鏡,透鏡半徑將變得非常大,這實(shí)際上不能實(shí)現(xiàn)。
應(yīng)該明白的是,本說(shuō)明是針對(duì)上述磁-光盤(pán)的,但本發(fā)明還可適用于用于重放的光盤(pán)或不需要磁頭的相變型光盤(pán)。
如上所述,根據(jù)權(quán)利要求1的光盤(pán)記錄/重放設(shè)備和權(quán)利要求4的光盤(pán)記錄/重放方法,光盤(pán)基片的厚度為0.3mm或低于0.3mm,物鏡和前透鏡的總數(shù)值孔徑為0.8或0.8以上,以使物鏡和前透鏡作為一個(gè)整體塊被控制。這樣就簡(jiǎn)化了設(shè)備的結(jié)構(gòu),并能夠以高密度記錄或重放數(shù)據(jù)。
權(quán)利要求
1.一種光盤(pán)記錄/重放設(shè)備,用于經(jīng)光盤(pán)的基片施加來(lái)自光學(xué)頭單元的光束來(lái)實(shí)現(xiàn)向/從光盤(pán)的記錄層記錄和/或重放數(shù)據(jù),其特征在于所述的光盤(pán)基片為0.3mm或低于0.3mm,所述的光學(xué)頭單元包括一個(gè)物鏡,用于會(huì)聚入射光束和向所述的光盤(pán)發(fā)射光束;一個(gè)前透鏡,用于會(huì)聚經(jīng)所述的物鏡引入的光束和向所述的光盤(pán)施加光束;一個(gè)透鏡支架,在其中固定所述的物鏡和所述的前透鏡;和一個(gè)致動(dòng)器,用于驅(qū)動(dòng)作為一個(gè)整體的所述的物鏡和所述的前透鏡并至少控制聚焦;所述的物鏡和所述的前透鏡具有0.8或0.8以上的總數(shù)值孔徑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤(pán)記錄/重放設(shè)備,其特征在于所述的前透鏡和所述的基片的工作距離被確定為50μm至500μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤(pán)記錄/重放設(shè)備,其特征在于所述的前透鏡和所述的物鏡具有引入/引出所述的光束的非球面表面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤(pán)記錄/重放設(shè)備,其特征在于在所述的透鏡支架中所述的前透鏡和所述的物鏡以預(yù)定的距離固定。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤(pán)記錄/重放設(shè)備,其特征在于所述的致動(dòng)器執(zhí)行所述的前透鏡和所述的物鏡的跟蹤控制。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤(pán)記錄/重放設(shè)備,其特征在于所述的設(shè)備進(jìn)一步包括向所述的光盤(pán)的所述記錄層施加磁場(chǎng)的磁頭。
7.一種光盤(pán)記錄/重放方法,用于施加來(lái)自具有一個(gè)物鏡和一個(gè)前透鏡的光學(xué)頭的光束,所述物鏡會(huì)聚和向光盤(pán)發(fā)射光束,所述前透鏡會(huì)聚來(lái)自所述的物鏡的光束和經(jīng)所述的光盤(pán)的基片向所述的記錄層發(fā)射光束,以便向/從所述的記錄層記錄或重放數(shù)據(jù),其特征在于所述的物鏡和所述的前透鏡作為聚焦控制的一個(gè)整體塊被驅(qū)動(dòng),所述的光盤(pán)基片具有0.3mm或低于0.3mm的厚度;和所述的物鏡和所述的前透鏡具有0.8或高于0.8的總數(shù)值孔徑。
8.一種光學(xué)頭單元,用于經(jīng)基片向光盤(pán)的記錄層施加光束,以便向/從所述的記錄層記錄和/或重放數(shù)據(jù),所述的光學(xué)頭單元包括一個(gè)第一透鏡,用于會(huì)聚到達(dá)的光束和向所述的光盤(pán)發(fā)射光束;一個(gè)第二透鏡,用于會(huì)聚來(lái)自所述第一透鏡的光束和向所述的光盤(pán)發(fā)射光束;一個(gè)透鏡支架,所述的第一透鏡和所述的第二透鏡以預(yù)定距離固定在其中;一個(gè)致動(dòng)器,用于驅(qū)動(dòng)所述的透鏡支架以便至少執(zhí)行聚焦控制,其中所述的第一透鏡和所述的第二透鏡具有0.8或0.8以上的總數(shù)值孔徑。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)頭單元,其特征在于所述的第二透鏡和所述的基片規(guī)定為50μm至500μm的工作距離。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)頭單元,其特征在于所述的第一透鏡和所述的第二透鏡具有引入/引出所述光束的非球面表面。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)頭單元,其特征在于所述的致動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述的透鏡支架以執(zhí)行跟蹤控制。
全文摘要
一種光盤(pán)記錄/重放設(shè)備,用于經(jīng)光盤(pán)的基片施加來(lái)自光學(xué)頭單元的光束來(lái)實(shí)現(xiàn)在/從光盤(pán)的記錄層記錄和/或重放數(shù)據(jù),其中光盤(pán)基片為0.3mm或低于0.3mm,光學(xué)頭單元包括:一個(gè)物鏡,用于會(huì)聚入射光束和向光盤(pán)發(fā)射光束;一個(gè)前透鏡,用于會(huì)聚經(jīng)物鏡引入的光束和向光盤(pán)施加光束;一個(gè)透鏡支架,在其中固定物鏡和前透鏡;和一個(gè)致動(dòng)器,用于驅(qū)動(dòng)作為一個(gè)塊的物鏡和前透鏡并至少控制聚焦;物鏡和前透鏡具有0.8或0.8以上的總數(shù)值孔徑。
文檔編號(hào)G11B11/105GK1193161SQ9710859
公開(kāi)日1998年9月16日 申請(qǐng)日期1997年12月20日 優(yōu)先權(quán)日1996年12月20日
發(fā)明者市村功, 前田史貞, 山本鍵二, 大里潔, 渡邊俊夫, 鈴木彰 申請(qǐng)人:索尼公司