用于監(jiān)控在能量輔助磁性記錄中使用的光源的能量的系統(tǒng)和方法
【專利摘要】本發(fā)明方面涉及能量輔助磁性記錄(Energy-Assisted?Magnetic?Recording，EAMR)、EAMR組件及制造這些的方法。在若干實施例中，EAMR磁頭包括滑動件上的基座，該滑動件具有波導(dǎo)，被配置為從附連到基座表面的光源接收光。該波導(dǎo)在滑動件的頂表面接收光并將光路由到滑動件的空氣支撐面(ABS)附近，光的能量在其中可被用于加熱靠近ABS的記錄介質(zhì)磁盤上的斑點。該波導(dǎo)還將光的第一部分路由回滑動件的頂表面，光在其中離開波導(dǎo)并且由沿著基座的表面?zhèn)炔贾玫墓鈾z測器來檢測。
【專利說明】用于監(jiān)控在能量輔助磁性記錄中使用的光源的能量的系統(tǒng)和方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及信息存儲設(shè)備，并且更具體地涉及用于監(jiān)控在能量輔助磁性記錄中使用的光源的能量的系統(tǒng)和方法。

【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)的能量輔助磁性記錄(EAMR)磁盤驅(qū)動器一般包括EAMR組件(例如，EAMR磁頭)，該EAMR組件包括安裝至基座(sub-mount)的光源(例如，激光器)，基座被耦合到可懸掛在記錄介質(zhì)磁盤上的滑動件。該基座有助于驅(qū)散來自激光器的多余熱能，并且提供電信號到激光器的連通。
[0003]來自激光器的光通過位于滑動件內(nèi)的換能器被指向介質(zhì)磁盤的區(qū)域，從而加熱該區(qū)域。隨后可電磁地將信息寫入介質(zhì)磁盤中被加熱的區(qū)域。由于激光器能量的精確控制和發(fā)送到介質(zhì)磁盤是重要的，EAMR系統(tǒng)一般需要精確測量發(fā)送到記錄介質(zhì)的激光器能量的數(shù)量級。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明各方面涉及用于監(jiān)控在能量輔助磁性記錄(EAMR)中使用的光源的能量的系統(tǒng)和方法。
[0005]在一個實施例中，本發(fā)明涉及一種能量輔助磁性記錄(EAMR)磁頭。EAMR磁頭包括一個具有波導(dǎo)的滑動件?；桓竭B到滑動件，并且基座包括位于基座第一基座側(cè)的光檢測器，并與滑動件間隔分開。光源(例如，激光器)被附連到第一基座側(cè)，并且光源被配置為傳輸光到波導(dǎo)。光檢測器被配置為接收傳輸?shù)讲▽?dǎo)的光的第一部分。
[0006]在另一個實施例中，本發(fā)明涉及一種制造能量輔助磁性記錄(EAMR)磁頭的方法。根據(jù)該方法，提供一個包括波導(dǎo)的滑動件，并且光源被附連到基座的第一基座側(cè)處。光源被配置為傳輸光到波導(dǎo)。此外，根據(jù)該方法，基座被附連到滑動件，并且基座包括沿著基座第一基座側(cè)并與滑動件間隔分開的光檢測器。在這個實施例中，光檢測器被配置為接收傳輸?shù)讲▽?dǎo)的光的第一部分。
[0007]在另一個實施例中，本發(fā)明涉及磁頭萬向節(jié)組件(Head-Gimbal Assembly, HGA)。如貫穿本公開在各實施例中所描述的，HGA包括懸掛組件EAMR磁頭。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1A和圖1B分別是根據(jù)本發(fā)明實施例的配置為使用光檢測器監(jiān)控光源輸出能量的能量輔助磁性記錄(EAMR)組件的透視圖和側(cè)視圖。
[0009]圖1C是根據(jù)本發(fā)明實施例的用于連接光源和光檢測器的具有金屬線的基座的側(cè)視圖。
[0010]圖2是根據(jù)本發(fā)明實施例的配置為使用光檢測器監(jiān)控光源輸出能量的EAMR組件的側(cè)視圖。
[0011]圖3A和圖3B分別是根據(jù)本發(fā)明實施例的配置為使用光檢測器監(jiān)控光源輸出能量的EAMR組件的透視圖和側(cè)視圖。
[0012]圖4是根據(jù)本發(fā)明實施例的組裝被配置為使用光檢測器、基座以及滑動件內(nèi)的波導(dǎo)監(jiān)控光源輸出能量的EAMR組件的工藝的流程圖。
[0013]圖5是根據(jù)本發(fā)明實施例圖示被配置為使用光檢測器監(jiān)控光源輸出能量的包括磁頭萬向節(jié)組件的磁盤驅(qū)動器的示圖。
[0014]圖6是根據(jù)本發(fā)明實施例概念性地圖示用于滑動件的單抽頭波導(dǎo)的示圖。
[0015]圖7是根據(jù)本發(fā)明實施例概念性地圖示用于滑動件的雙抽頭耦合波導(dǎo)的示圖。
[0016]圖8是根據(jù)本發(fā)明實施例概念性地圖示用于滑動件的雙抽頭耦合波導(dǎo)的示圖。
[0017]圖9是根據(jù)本發(fā)明實施例概念性地圖示用于滑動件的雙抽頭耦合波導(dǎo)的示圖。
[0018]圖10和圖11是根據(jù)本發(fā)明實施例圖示EAMR組件的示圖，其中與滑動件頂表面成角度發(fā)射光。

【具體實施方式】
[0019]在某些設(shè)計中，可以放置光檢測器用于從光源背面對光進行采樣。然而，這種配置一般使用基本比光源的尺寸更大的基座以為了將光檢測器放置在光源背面?？紤]到在特定EAMR應(yīng)用中磁頭萬向節(jié)組件(HGA)的機械和飛行能力的需求，一般不期望這種大尺寸的EAMR組件。更進一步地，來自光源背面的光并不總能很好地與來自光源前面的光相關(guān)，尤其是存在到光源前面的任何光學(xué)反饋的情況下。
[0020]現(xiàn)在參照附圖，用于監(jiān)控在能量輔助磁性記錄(EAMR)中使用的光源(例如，激光器)能量的系統(tǒng)和方法的實施例被示出，該系統(tǒng)和方法解決以上提到的問題以及在【背景技術(shù)】部分提到的那些問題。該系統(tǒng)包括能量輔助磁性記錄(EAMR)磁頭，該能量輔助磁性記錄(EAMR)磁頭包括安裝在基座上的光源，該基座被附連到滑動件的頂表面。光檢測器被附連到或集成在基座中，用于在光束傳遞通過滑動件中的波導(dǎo)之后，通過對一部分光束進行采樣來監(jiān)控由光源發(fā)射的光束的能量。
[0021]在幾個實施例中，波導(dǎo)被適應(yīng)性地配置為接收滑動件頂表面的光束，并且將該光束路由至位于滑動件的ABS或者接近于滑動件的ABS的寫入極附近，光束在其中可被用于加熱靠近ABS的記錄介質(zhì)磁盤上的斑點。波導(dǎo)也可路由一部分光束回到滑動件的頂表面，光在其中離開波導(dǎo)并且由位于波導(dǎo)上方的光檢測器檢測以捕獲來自波導(dǎo)的至少一部分光。因此，光源利用波導(dǎo)、光源和光檢測器的新穎布置來提供由光檢測器監(jiān)控的一部分光束和用于加熱介質(zhì)磁盤的一部分光，這將在本公開的各種非限制性實施例中進行更詳細地描述。
[0022]圖1A和圖1B分別是根據(jù)本發(fā)明實施例被配置為使用光檢測器監(jiān)控光源的輸出能量的EAMR組件100的透視圖和側(cè)視圖。參照圖1A，EAMR組件100包括光源102(例如，激光二極管)，光源102附連到安裝在滑動件106的頂表面(或頂側(cè))上的基座104的第一表面。頂表面與滑動件106的ABS相對。在一個實施例中，光源102具有矩形形狀并且包括用于向下方的滑動件106輸出光束的激光二極管。在一個實施例中，基座104具有矩形形狀，并且沿著基座104的第一表面集成光檢測器108。此處，光源102和光檢測器108在第一表面上被間隔分開并且具有在基座104的高度方向上(例如,在圖1A中的垂直于ABS的Y方向上)延伸的長度。
[0023]在一個實施例中,光檢測器108被附連到基座104的第一表面。在一個實施例中，基座104和光源102具有大約相同的大小。在另一個實施例中，在垂直于ABS的高度方向上，基座104稍微高于光源102。在一個實施例中，基座104可以大約380微米高，而光源102可以大約350微米高。在一個實施例中，光檢測器108包括光電二極管，例如面內(nèi)光電二極管或離散光電二極管。光檢測器108可被附連到基座104的表面或地沿著基座104的表面一體成型。
[0024]滑動件106可包括頂表面上的一個或多個襯墊(未示出)，其被配置為附連到并被焊接到基座104底表面上的襯墊(未不出)?；?04可包括第一表面上的一個或多個襯墊(未示出)，其被配置為附連到并且被焊接到光源102背面上的襯墊(未示出)。
[0025]在一個實施例中，光源102具有大約100微米的厚度(例如，沿著Z方向上的尺寸)、大約350微米的高度(例如，沿著Y方向上的尺寸)和大約130微米的寬度(例如，沿著X方向上的尺寸)。在其他實施例中，光源102可以具有其他適當?shù)某叽纭Ｔ谝粋€實施例中，光源102包括提供大約50毫瓦特能量的激光器。在其他實施例中，光源102可提供大于或小于50毫瓦特。在一個實施例中，光源102具有大約830nm的波長。光源102的底表面在滑動件106的頂表面上。在一個實施例中，光源102的底表面與滑動件106的頂表面基本重疊(參見圖1B)。
[0026]在一個實施例中，基座104具有大約200微米的厚度(例如，沿著Z方向上的尺寸)、大約380微米的高度(例如，沿著Y方向上的尺寸)和大約500微米的寬度(例如，沿著X方向上的尺寸)。在其他實施例中，基座104可以具有其他適當?shù)某叽纭?br> [0027]在一個實施例中，滑動件106具有大約180微米的厚度(例如，沿著Y方向上的尺寸)、大約1235微米的長度(例如，沿著Z方向上的尺寸)和大約700微米的寬度(例如，沿著X方向上的尺寸)。在其他實施例中，滑動件106可以具有其他適當?shù)某叽纭?br> [0028]EAMR組件100還包括波導(dǎo)110，該波導(dǎo)110裝配在滑動件106中并且以這種方式放置，用于在輸入端IlOa處接收來自光源102的光束112并且將光束的第一部分引導(dǎo)到滑動件106的空氣支撐面(ABS)附近放置的NFT部分110b，并且將光束的第二部分在出口端IlOc處朝向光檢測器108引導(dǎo)離開滑動件106。操作中，可啟動光源102以生成光束112,該光束由波導(dǎo)的第一臂IlOd引導(dǎo)到ABS附近的滑動件106的NFT部分110b，光束112的能量在NFT部分可被傳輸?shù)紸BS下方的并且靠近ABS的記錄介質(zhì)磁盤114 (在圖1B中示出)。
[0029]更詳細地，第一臂IlOd接收來自光源102的光束112并且路由該光束到主寫入極(未示出)附近的NFT部分110b，主寫入極在ABS處或在ABS附近，在其中光束的某些能量可被傳輸?shù)轿挥诨瑒蛹?06下方的介質(zhì)磁盤114。接收光的介質(zhì)磁盤114的區(qū)域由EAMR應(yīng)用的光能加熱。在某些示例中，滑動件106可包括近場換能器(未示出)，其可將光能集中到介質(zhì)磁盤114上的斑點。波導(dǎo)110還具有第二臂110e，其被光學(xué)耦連到第一臂110d。第二臂I1e接收來自第一臂I1d的光束的第二部分，并將光束的此部分路由到出口端I1c,光在其中以朝向光檢測器108的方向離開第二臂110e。因此，光檢測器108可捕獲從滑動件106上方離開的發(fā)散光的至少一部分。與相關(guān)領(lǐng)域的EAMR組件不同，EAMR組件100被配置使得由光檢測器108采樣或捕獲的光以及傳輸?shù)浇橘|(zhì)磁盤的光(或能量)均來自光源102的同一輸出。在此，光在滑動件106的同一側(cè)(例如，ABS相對的頂側(cè))以基本相反的方向進入并離開波導(dǎo)110。
[0030]參照圖1B，光束的第一部分在離開第二臂IlOb之后具有發(fā)散形狀116。也就是說，光束的寬度在朝向光檢測器108的光傳播方向上逐漸增加，沿著基座104的第一表面布置光檢測器108。因此，光的至少一些可以由光檢測108接收或捕獲。雖然光電二極管被用作光檢測器108的一個示例，但本發(fā)明并不局限于此。也可使用其他可與基座104 —起應(yīng)用的合適的光檢測器。在圖1B的實施例中，矩形形狀的光源102被安裝從而其輸出從離基座最遠處發(fā)出(例如，在“上連接(junct1nup)”配置中)。在某些實施例中，光源102具有這種配置，在其中安裝光源使得其輸出從附連到或緊鄰基座的一側(cè)發(fā)出(例如，在“下連接(junct1n down) ”配置中)。圖2是EAMR組件的側(cè)視圖，該EAMR組件被配置為根據(jù)本發(fā)明實施例使用在“下連接”配置中的光檢測器108監(jiān)控光源102’的輸出能量。然而，在其他實施例中，光源102的輸出可被放置在其他恰當?shù)奈恢谩?br> [0031]在一個實施例中，基座104由硅、氮化鋁或其他適當材料制成。在一個實施例中，光源102包括由砷化鎵和/或其他合適材料例如鋁或銦制成的激光器。
[0032]圖1C是根據(jù)本發(fā)明實施例的用于連接光源102和光檢測器108的具有金屬線(trace) (104-PD+、104-LD+、104-LD-、104-PD-)的基座 104 的側(cè)視圖。參照圖 1C，電連接點或襯墊(104-LD+和104-LD-)被提供用于將光源102電連接到其他電路(未示出)。例如，電源可被連接到連接點104-LD+和104-LD-以將合適的驅(qū)動電壓應(yīng)用到光源102。電連接點或襯墊(104-PD+和104-PD-)被提供用于將光檢測器108電連接到其他電路(未示出)。例如，連接點(104-PD+和104-PD-)可被連接到輸入緩沖器、信號調(diào)整器、信號放大器或其他合適電路。在某些實施例中，使用焊料噴射球進行的焊接可被用來保護電連接。
[0033]圖3A和圖3B分別是根據(jù)本發(fā)明實施例被配置為使用光檢測器監(jiān)控光源的輸出能量的EAMR組件200的透視圖和側(cè)視圖。EAMR組件200基本類似于EAMR組件100，并且為表述簡潔可忽略實施例的冗余描述。參照圖3A，EAMR組件200包括光源202 (例如，激光二極管)，其被附連到安裝在滑動件206的頂表面(或側(cè)表面)的基座204的第一表面。頂表面與滑動件206的ABS相對。在一個實施例中，光源202包括用于將光束輸出到滑動件206下方的激光二極管。在一個實施例中，基座204具有沿著基座204的第一表面集成的光檢測器208。此處，光源202和光檢測器208在第一表面上被間隔分開并且具有在基座204的高度方向上(例如，在圖3A的垂直于ABS的Y方向上)延伸的長度。
[0034]在一個實施例中，光檢測器208包括光電二極管，例如面內(nèi)光電二極管或離散光電二極管。光檢測器208可被附連到基座204的表面或沿著基座204的表面一體成型。
[0035]EAMR組件200還包括滑動件206中的雙抽頭波導(dǎo)300。波導(dǎo)300包括用于在第一端302或輸入端口接收來自光源202的光的第一臂300a。合適的輸入裝置(例如，光柵或耦合透鏡)可被用于將入射光耦合到波導(dǎo)300中。波導(dǎo)300還包括被與第一臂300a光學(xué)耦連的第二臂300b和第三臂300c。第一臂300a分支成兩個耦合波導(dǎo)304。在一個實施例中，第二臂300b和第三臂300c相與耦合波導(dǎo)304相鄰或隔開以使得在第一臂300a、第二臂300b和第三臂300c之間的光耦合能夠達到預(yù)選程度。波導(dǎo)300可由介電氧化層、有機材料、玻璃或其他合適的材料形成。
[0036]波導(dǎo)300引導(dǎo)所接收的光的一部分到滑動件206的ABS附近布置的NFT端300c。在端300c處可以將光的第一部分傳輸?shù)交瑒蛹腁BS附近布置的記錄介質(zhì)磁盤214 (參見圖3B)。由第一臂300a接收的光的第二部分被傳輸?shù)降诙?00b并在末端306處朝向光檢測器208離開第二臂300b。由第一臂300a接收的光的第三部分被傳輸?shù)降谌?00c并在末端308或輸出端口處離開波導(dǎo)。波導(dǎo)300可包括在第三臂300c的末端308處的合適的輸出設(shè)備(例如，光柵或耦合透鏡)。在一個實施例中，光的第三部分從滑動件206的后緣表面222離開，并可以由在測試或制造EMAR組件200期間使用的裝置中的另一個光檢測器(未不出)監(jiān)控。
[0037]參照圖3B，光束的第一部分在離開第二臂300b之后具有發(fā)散的形狀216。也就是說，光束的寬度在朝向光檢測器208的光傳播方向上逐漸增加，光檢測器208被沿著基座204第一表面布置。因此，光的至少一些可以由光檢測器208接收或捕獲。在一個實施例中，光檢測器208可包括光電二極管，但本發(fā)明并不局限于此。也可使用其他可與基座204一起應(yīng)用的合適的光檢測器。在圖3B的實施例中，矩形形狀的光源202被安裝從而其輸出從離基座204最遠處發(fā)出(例如，在“上連接(junct1n up)”配置中)。在某些實施例中，光源202具有這種配置，在其中安裝光源使得其輸出從附連到或緊鄰基座204的一側(cè)發(fā)出(例如，在圖2的“下連接(junct1n down) ”配置中)。然而，在其他實施例中，光源202的輸出可被放置在其他恰當?shù)奈恢谩?br> [0038]圖4是根據(jù)本發(fā)明實施例的組裝EAMR組件的工藝400的流程圖，EAMR組件(例如，EAMR組件100和200)被配置為使用光檢測器、基座以及滑動件中的波導(dǎo)來監(jiān)控光源的輸出能量。該工藝提供(402)包括波導(dǎo)(例如，波導(dǎo)110和300)的滑動件(例如，滑動件106,206) ο該工藝將光源(例如光源102,202)附連(404)在基座(例如基座104,204)的第一基座側(cè)。此處，光源被配置為將光傳送到波導(dǎo)。電子墊可被提供在光源和基座相對的側(cè)面上用于將光源附連到基座。在某些實施例中，光源和基座可通過焊接或現(xiàn)有技術(shù)中的其他合適的辦法附連在一起。
[0039]該工藝在光源被附連到基座之后將基座附連(406)到滑動件。電子墊可以被提供在基座和滑動件的相反面上用于將基座附連到滑動件。在某些實施例中，基座和滑動件可通過焊接或現(xiàn)有技術(shù)中的其他合適的辦法附連在一起?；ê线m的光檢測器(例如，光檢測器108、208)，其被沿著基座的第一基座側(cè)放置并且與滑動件間隔分開。光檢測器被配置為接收傳送到波導(dǎo)的光的第一部分。在這個實施例中，光在滑動件的同一側(cè)或同一表面進入和離開波導(dǎo)。光以相反的方向進入和離開波導(dǎo)。在一個實施例中，基座和光源在垂直于ABS的方向上具有同樣的高度。在一個實施例中，光源和光檢測器在基座的高度方向上并排延伸。
[0040]在一個實施例中，該工藝可以按照不同的順序執(zhí)行操作序列。在另一個實施例中，該工藝可以跳過一個或多個操作。在其他實施例中，可同時執(zhí)行一個或多個操作。在某些實施例中，可執(zhí)行附加的操作。
[0041]在一個實施例中，本發(fā)明涉及磁頭萬向節(jié)組件。圖5根據(jù)本發(fā)明實施例圖示包括磁頭萬向節(jié)組件(HGA) 508的磁盤驅(qū)動器500，磁頭萬向節(jié)組件(HGA) 508被配置為使用光檢測器來監(jiān)控光源的輸出能量。磁盤驅(qū)動器500可包括一個或多個磁盤502以存儲數(shù)據(jù)。該磁盤502駐留在被安裝到驅(qū)動(drive)外殼506的主軸組件504上?？梢匝刂疟P502的磁性記錄層中的磁道儲存數(shù)據(jù)。HGA508包括懸掛組件510和能量輔助磁性記錄(EAMR)組件 512(例如，EAMR100、200)。
[0042]磁盤驅(qū)動器500還包括旋轉(zhuǎn)主軸組件504和磁盤502的主軸電機(未示出)，從而將EAMR組件512放置在沿著預(yù)期磁盤磁道的特定位置處。EAMR組件512相對于磁盤502的位置可由位置控制電路514控制。磁盤驅(qū)動器500的部件在現(xiàn)有技術(shù)中是眾所周知的并且不是理解本發(fā)明所必需的，為簡潔起見可被省略。
[0043]圖6-9是根據(jù)本發(fā)明實施例概念性地圖示各種波導(dǎo)設(shè)計的示圖。在特定實施例中，這些波導(dǎo)可被用作滑動件106和206中的波導(dǎo)。圖6根據(jù)本發(fā)明實施例圖示用于EAMR組件的單抽頭波導(dǎo)600。波導(dǎo)600包括第一臂600a和與第一臂600a光學(xué)耦連的第二臂600b。在某些實施例中，第一臂600a可通過第三臂(未示出)耦合到第二臂600b。波導(dǎo)600可包括在第一端602或第一臂600a的輸入端口處的合適的輸入設(shè)備(例如，光柵)，用于將光耦合到第一臂600a中。在其他實施例中，其他合適的光學(xué)結(jié)構(gòu)(例如，耦合透鏡)可被用于將光耦合到波導(dǎo)600中。波導(dǎo)600可由介電氧化物、有機材料、玻璃或其他合適的材料形成。波導(dǎo)600還包括被放置在滑動件(例如，滑動件106、206)的ABS附近的NFT端600c。在本端600c處可以將由第一臂600a接收的光的第一部分傳輸?shù)奖环胖迷诰哂羞@樣波導(dǎo)的滑動件的ABS附近的記錄介質(zhì)磁盤(例如，記錄介質(zhì)磁盤114、214)。由第一臂600a接收的光的第二部分被傳輸?shù)降诙?00b。該光的第二部分由第二臂600b引導(dǎo)到第二端604或其輸出端口。在某些實施例中，波導(dǎo)600可包括在第二端604處的輸出設(shè)備(例如，光柵或耦合透鏡)。該波導(dǎo)600可由有機材料、玻璃或其他合適的材料形成。
[0044]圖7是根據(jù)本發(fā)明實施例概念性地圖示用于EMAR組件的雙抽頭耦合波導(dǎo)700的示圖。波導(dǎo)700可被用作滑動件106和206中的波導(dǎo)。參照圖7，波導(dǎo)700包括第一臂700a，第一臂700a用于在第一端702或輸入端口處接收來自光源(例如，圖1A中的光源102)的光。合適的輸入設(shè)備(例如，光柵或稱合透鏡)可用于將入射光稱合到波導(dǎo)700中。波導(dǎo)700還包括第二臂700b和與第一臂700a光學(xué)耦連的第三臂700c。第一臂700a分支(例如，分裂)成兩個耦合波導(dǎo)704。在一個實施例中，第二臂700b和第三臂700c相鄰或從耦合波導(dǎo)704間隔分開以使得在第一臂700a、第二臂700b和第三臂700c之間的光耦合能夠達到預(yù)選程度。波導(dǎo)700可由有機材料、玻璃或其他合適的材料形成。
[0045]波導(dǎo)700可包括布置在滑動件(例如，圖1A中的滑動件106)的寫入極附近的NFT端700d。由第一臂700a接收的光的第一部分可在NFT端700d被傳輸?shù)讲贾迷诨瑒蛹腁BS附近的記錄介質(zhì)磁盤(例如，圖1A中的介質(zhì)磁盤114)。由第一臂700a接收的光的第二部分被傳輸?shù)降诙?00b并在末端706或第二臂700b的輸出端口離開第二臂700b。合適的輸出設(shè)備(例如，光柵或耦合透鏡)可以被布置在第二臂700b的末端706處。由第一臂700a接收的光的第三部分被傳輸?shù)降谌?00c并在末端708或第三臂700c的輸出端口離開波導(dǎo)。波導(dǎo)700可以包括在第三臂700c的末端處的合適的輸出設(shè)備(例如，光柵或耦合透鏡)。在一個實施例中，離開第三臂700c的末端708的光可由在包括波導(dǎo)700的EMAR組件測試或制造期間所使用的裝置中的光檢測器來監(jiān)控，而離開末端706的光可由基座上的光檢測器(例如，圖1A、1B和IC中的光檢測器108)監(jiān)控。第二臂700b和第三臂700c的寬度朝向各自的末端706和708逐漸增加。
[0046]圖8是根據(jù)本發(fā)明實施例概念性地圖示用于EMAR組件的雙抽頭耦合波導(dǎo)800的示圖。波導(dǎo)800可被用作滑動件106和206中的波導(dǎo)。參照圖8，波導(dǎo)800包括第一臂800a，第一臂800a用于在第一端802或輸入端口處接收來自光源的光。波導(dǎo)800還包括與第一臂SOOa光學(xué)耦連的第二臂800b和的第三臂800c。第一臂800a分支(例如，分裂)成兩個波導(dǎo)804。在一個實施例中，第二臂800b和第三臂800c相鄰于第一臂800a或從第一臂800a間隔分開使得在第一臂800a、第二臂800b和第三臂800c之間的光耦合能夠達到預(yù)選程度。波導(dǎo)800可由有機材料、玻璃或其他合適的材料形成。
[0047]波導(dǎo)800還包括被布置在滑動件(例如，圖1A中的滑動件106)的寫入極附近的NFT端800d?？稍诖硕?00d將由第一臂800a接收的光的第一部分傳輸?shù)奖徊贾迷诨瑒蛹腁BS附近的記錄介質(zhì)磁盤(例如，圖1A中的介質(zhì)磁盤114)。由第一臂800a接收的光的第二部分被傳輸?shù)降诙?00b并在末端806或第二臂800b的輸出端口離開第二臂800b。由第一臂800a接收的光的第三部分被傳輸?shù)降谌?00c并在末端808處離開波導(dǎo)。波導(dǎo)800可包括位于第三臂800c的末端808處的合適輸出設(shè)備(例如，光柵或耦合透鏡)。第三臂800c的寬度朝向末端808逐漸增加。
[0048]盡管附圖中的第二臂800b和第三臂800c被示出具有特定的寬度和長度，但示出的形狀和尺寸僅是示例性，并且本發(fā)明的實施例并不局限于任何特定尺寸和形狀。在某些方面，第二臂800b和第三臂800c至少在某些段具有基本相同的寬度。在某些方面，第二臂800b和第三臂800c可以相對于第一臂800a是對稱的或非對稱的。在某些方面，第二臂800b和第三臂800c可被耦合到第一臂800a的其他部分。在某些示例中，第二臂800b和第三臂800c可被耦合到第一臂800a的同一側(cè)(圖8中的左側(cè))，以及在某些其他示例中，第二臂800b和第三臂800c可被耦合到第一臂800a的不同側(cè)。在其他示例中，與臂800a耦連的800b和800c的段(例如，那些緊鄰的段)可以具有與圖8中所示的那些段不同的長度。在一個這樣的示例中，段的長度相同，而不是如圖8中所示是不同的。800b和800c的耦連段可以與那些所示出的那些段按照不同配置進行放置。例如，800b和800c的耦連段可彼此相鄰而不是如圖8所示具有偏移量。
[0049]圖9是根據(jù)本發(fā)明實施例概念性地圖示用于EAMR組件的雙抽頭耦合波導(dǎo)900的示圖。波導(dǎo)900可用作滑動件106和206中的波導(dǎo)。參照圖9，波導(dǎo)900包括第一臂900a，其用于在第一端902或輸入端口處接收來自光源(例如，圖1A中的光源102)的光。波導(dǎo)900還包括與第一臂900a光學(xué)耦連的第二臂900b和第三臂900c。第一臂900a分支(例如，分裂)成兩個波導(dǎo)904和906。第二臂900b相鄰于第一臂900a或與第一臂900a間隔分開使得在第一臂900a和第二臂900b之間的光耦合能夠達到預(yù)選程度。第三臂900c相鄰于波導(dǎo)906或與波導(dǎo)906間隔分開使得在波導(dǎo)906和第三臂900c之間的光耦合能夠達到預(yù)選程度。波導(dǎo)900可由有機材料、玻璃或其他合適的材料制成。
[0050]波導(dǎo)900還包括被放置在滑動件(例如，圖1A中的滑動件106)的寫入極附近的NFT端900d?？稍诖硕?00d將由第一臂900a接收的光的第一部分傳輸?shù)奖徊贾迷诨瑒蛹腁BS附近的記錄介質(zhì)磁盤(例如，圖1A中的介質(zhì)磁盤114)。由第一臂900a接收的光的第二部分被傳輸?shù)降诙?00b并在末端908或第二臂900b的輸出端口離開第二臂900b。由第一臂900a接收的光的第三部分被傳輸?shù)降谌?00c并在末端910離開波導(dǎo)。波導(dǎo)900可包括位于末端910的合適輸出設(shè)備(例如，光柵或耦合透鏡)。在一個實施例中，離開末端910的光束可由包括波導(dǎo)900的EAMR組件的測試或制造期間使用的裝置中的光檢測器來監(jiān)控，而離開末端908的光束可由基座上的光檢測器(例如，圖1A、圖1B、圖1C中的光檢測器108)來監(jiān)控。第三臂900c的寬度朝向末端910逐漸增加。圖6-9是在本發(fā)明中使用的波導(dǎo)的示意性實施例，其并不局限于此。
[0051 ] 在上述實施例中，可以將光基本垂直于滑動件頂表面的方向從波導(dǎo)發(fā)出并且可以由沿著基座側(cè)面的光檢測器來捕獲光。然而鑒于設(shè)計與制造的限制，離開波導(dǎo)的位置和光檢測器的活動區(qū)域可能并沒有被理想地放置。例如，對于8墊和9墊滑動件來說，該離開波導(dǎo)的位置可能不同。圖10和圖11是根據(jù)本發(fā)明實施例描述EAMR組件1000和1100的示圖，其中光以與滑動件頂表面成一個角度(例如，非九十度角)發(fā)射。
[0052]在圖10中，EAMR組件1000包括被附連到基座1006表面的光源1002和光檢測器1004?；?006可安裝在8墊滑動件1008的頂表面?；瑒蛹?008中的波導(dǎo)1200(類似于圖3A中的波導(dǎo)300)接收來自光源1002的光并在兩個墊1012之間以相對滑動件1008頂表面成角度1202(例如，不垂直于滑動件1008的頂表面)發(fā)射接收光的一部分1010。在圖11中，EAMR組件1100包括被附連到基座1106表面的光源1102和光檢測器1104?；?106被安裝在9墊滑動件1108的頂表面?；瑒蛹?108中的波導(dǎo)1300(類似于波導(dǎo)300)接收來自光源1102的光并在兩墊1112之間以相對滑動件1108頂表面成角度1302(例如，不垂直于滑動件1108的頂表面)發(fā)射接收光的一部分1110。
[0053]圖10和圖11中，基于波導(dǎo)和光檢測器1004的光檢測區(qū)域的允許位置可以調(diào)整該角度。發(fā)射的實際角度將依賴于幾何角度和波導(dǎo)材料的折射率以及硬驅(qū)動環(huán)境。
[0054]盡管上述說明包括本發(fā)明的許多特定實施例，但不應(yīng)被解釋為對本發(fā)明范圍的限制，而是作為相關(guān)的具體實施例的示例。因此，本發(fā)明的范圍并不應(yīng)由示出的實施例確定，而是由附加的權(quán)利要求及其等價物確定。
【權(quán)利要求】
1.一種能量輔助磁性記錄磁頭即EAMR磁頭包括: 包括波導(dǎo)的滑動件； 附連到所述滑動件的基座，所述基座包括沿著所述基座的第一基座側(cè)的并與所述滑動件間隔分開的光檢測器；以及 附連到所述第一基座側(cè)的光源，所述光源被配置為將光傳送到所述波導(dǎo)， 其中所述光檢測器被配置為接收傳送到所述波導(dǎo)的所述光的第一部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的EAMR磁頭，其中所述波導(dǎo)包括第一端和第二端，兩者均位于與所述滑動件的空氣支撐面相對的所述滑動件的表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的EAMR磁頭，其中所述波導(dǎo)被配置使得所述光在所述第一端處并且以第一方向進入所述波導(dǎo)，并且所述光的所述第一部分在所述第二端處并且以基本與所述第一方向相反的第二方向離開所述波導(dǎo)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的EAMR磁頭，其中所述波導(dǎo)被配置使得所述光的所述第一部分相對于所述滑動件的表面成角度離開所述波導(dǎo)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的EAMR磁頭，其中所述角度基本垂直于所述滑動件的表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的EAMR磁頭，其中所述角度不垂直于所述滑動件的表面。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的EAMR磁頭，其中所述光源包括激光二極管，并且所述光檢測器包括光電二極管。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的EAMR磁頭，其中所述光電二極管被一體成型在所述基座中。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的EAMR磁頭，其中所述光電二極管被附連到所述基座。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的EAMR磁頭，其中所述光電二極管包括面內(nèi)光電二極管。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的EAMR磁頭，其中所述波導(dǎo)包括用于將所述光的第一部分傳送到所述光檢測器的第一臂。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的EAMR磁頭，其中所述第一臂延伸到與所述滑動件的空氣支撐面相對的所述滑動件的表面。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的EAMR磁頭，其中所述第一臂的一段以朝向所述光檢測器的光傳播方向在寬度上逐漸增加。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的EAMR磁頭， 其中所述波導(dǎo)進一步包括用于接收來自所述光源的所述光的第二臂，并且所述第一臂被配置為接收來自所述第二臂的光的所述第一部分，并且 其中所述第二臂被配置為將所述光的第二部分傳送到靠近所述滑動件的空氣支撐面布置的存儲介質(zhì)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的EAMR磁頭，其中所述波導(dǎo)進一步包括用于將所述光的第三部分傳送到第二光檢測器的第三臂。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的EAMR磁頭，其中所述第三臂延伸到所述滑動件的后緣側(cè)。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的EAMR磁頭，其中所述第三臂被配置為從所述滑動件的所述后緣側(cè)發(fā)射所述光的所述第三部分。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的EAMR磁頭，其中所述第一臂和所述第三臂在形狀上基本對稱。
19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的EAMR磁頭，其中所述第二臂分裂成分別光學(xué)性地耦合到所述第一臂和所述第三臂的兩個分支。
20.根據(jù)權(quán)利要求15所述的EAMR磁頭， 其中所述第一臂和所述第三臂與所述第二臂間隔分開；并且 其中所述第一臂和所述第三臂與所述第二臂光學(xué)耦連。
21.根據(jù)權(quán)利要求14所述的EAMR磁頭，進一步包括近場傳感器，所述近場傳感器靠近所述滑動件的所述空氣支撐面布置，并且與所述波導(dǎo)的所述第二臂光學(xué)耦連，用于將所述光的所述第二部分的能量傳送到所述存儲介質(zhì)上的位置。
22.根據(jù)權(quán)利要求1所述的EAMR磁頭，其中所述波導(dǎo)包括從由通道波導(dǎo)、平面波導(dǎo)及它們的組合組成的組中選擇的一個。
23.根據(jù)權(quán)利要求1所述的EAMR磁頭，其中所述波導(dǎo)被配置為將所述光的所述第一部分輸出為具有朝向所述光檢測器延伸的發(fā)散部分的光束。
24.根據(jù)權(quán)利要求1所述的EAMR磁頭，其中所述光源具有附連到所述第一基座側(cè)的第一光源側(cè)和與所述第一光源側(cè)相對的第二光源側(cè)，并且所述光源被配置為在所述第一光源側(cè)輸出所述光。
25.根據(jù)權(quán)利要求1所述的EAMR磁頭，其中所述光源具有附連到所述第一基座側(cè)的第一光源側(cè)和與所述第一光源側(cè)相對的第二光源側(cè)，并且所述光源被配置為在所述第二光源側(cè)輸出所述光。
26.根據(jù)權(quán)利要求1所述的EAMR磁頭，進一步包括在所述基座上并且分別電耦合到所述光源和所述光檢測器的多個金屬線。
27.根據(jù)權(quán)利要求1所述的EAMR磁頭，其中所述光源和所述光檢測器在所述基座的高度方向上并排延伸，其中所述高度方向垂直于所述滑動件的空氣支撐面。
28.根據(jù)權(quán)利要求1所述的EAMR磁頭，其中所述基座和所述光源在垂直于所述滑動件的空氣支撐面的方向上具有大約相同的高度。
29.一種磁頭萬向節(jié)組件即HGA包括: 懸掛組件；以及 與所述懸掛組件相連的權(quán)利要求1所述的能量輔助磁性記錄磁頭即EAMR磁頭。
30.一種能量輔助磁性記錄磁頭即EAMR磁頭的制造方法，所述方法包括: 提供包括波導(dǎo)的滑動件； 將光源附連在基座的第一基座側(cè)，所述光源被配置為將光傳送到所述波導(dǎo)；以及 將所述基座附連到所述滑動件，所述基座包括沿著所述基座的所述第一基座側(cè)并與所述滑動件間隔分開的光檢測器， 其中所述光檢測器被配置為接收傳送到所述波導(dǎo)的所述光的第一部分。
31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其中所述波導(dǎo)包括第一端和第二端，兩者均位于與所述滑動件的空氣支撐面相對的所述滑動件的表面。
32.根據(jù)權(quán)利要求31所述的方法，其中所述波導(dǎo)被配置使得所述光在所述第一端處以第一方向進入所述波導(dǎo)，并且所述光的所述第一部分在所述第二端處以與所述第一方向相反的第二方向離開所述波導(dǎo)。
33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的方法，其中所述波導(dǎo)配置使得所述光的所述第一部分相對于所述滑動件的表面成角度離開所述波導(dǎo)。
34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的方法，其中所述角度基本垂直于所述滑動件的表面。
35.根據(jù)權(quán)利要求33所述的方法，其中所述角度不垂直于所述滑動件的表面。
36.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其中所述光源包括激光二極管，并且所述光檢測器包括光電二極管。
37.根據(jù)權(quán)利要求36所述的方法，其中所述光電二極管被一體成型在所述基座中。
38.根據(jù)權(quán)利要求36所述的方法，其中所述光電二極管被附連到所述基座。
39.根據(jù)權(quán)利要求36所述的方法，其中所述光電二極管是面內(nèi)光電二極管。
40.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其中所述波導(dǎo)包括用于將所述光的所述第一部分傳送到所述光檢測器的第一臂。
41.根據(jù)權(quán)利要求40所述的方法，其中所述第一臂延伸到與所述滑動件的空氣支撐面相對的所述滑動件的表面。
42.根據(jù)權(quán)利要求40所述的方法，其中所述第一臂的一段以朝向所述光檢測器的光傳播方向在寬度上逐漸增加。
43.根據(jù)權(quán)利要求40所述的方法， 其中所述波導(dǎo)進一步包括用于接收來自所述光源的所述光的第二臂，并且所述第一臂被配置為接收來自所述第二臂的光的所述第一部分，并且 其中所述第二臂被配置為將所述光的第二部分傳送到靠近所述滑動件的空氣支撐面布置的存儲介質(zhì)。
44.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法，其中所述波導(dǎo)進一步包括用于將所述光的第三部分傳送到第二光檢測器的第三臂。
45.根據(jù)權(quán)利要求44所述的方法，其中所述第三臂延伸到所述滑動件的后緣側(cè)。
46.根據(jù)權(quán)利要求45所述的方法，其中所述第三臂被配置為從所述滑動件的所述后緣側(cè)發(fā)射所述光的所述第三部分。
47.根據(jù)權(quán)利要求44所述的方法，其中所述第一臂和所述第三臂在形狀上基本對稱。
48.根據(jù)權(quán)利要求44所述的方法，其中第二臂分裂成分別光學(xué)性地耦合到所述第一臂和所述第三臂的兩個分支。
49.根據(jù)權(quán)利要求44所述的方法， 其中所述第一臂和所述第三臂與所述第二臂間隔分開；并且 其中所述第一臂和所述第三臂與所述第二臂光學(xué)耦連。
50.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法，進一步包括形成近場傳感器，所述近場傳感器靠近所述滑動件的所述空氣支撐面布置，并且與所述波導(dǎo)的所述第二臂光學(xué)耦連，用于將所述光的所述第二部分的能量傳送到所述存儲介質(zhì)上的位置。
51.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其中所述波導(dǎo)包括從由通道波導(dǎo)、平面波導(dǎo)及它們的組合組成的組中選擇的一個。
52.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其中所述波導(dǎo)被配置為將所述光的所述第一部分輸出為具有朝向所述光檢測器延伸的發(fā)散部分的光束。
53.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其中所述光源具有附連到所述第一基座側(cè)的第一光源側(cè)和與所述第一光源側(cè)相對的第二光源側(cè)，并且所述光源被配置為在所述第一光源側(cè)輸出所述光。
54.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其中所述光源具有附連到所述第一基座側(cè)的第一光源側(cè)和與所述第一光源側(cè)相對的第二光源側(cè)，并且所述光源被配置為在所述第二光源側(cè)輸出所述光。
55.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，進一步包括形成在所述基座上并且分別電耦合到所述光源和所述光檢測器的多個金屬線。
56.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其中所述光源和所述光檢測器在所述基座的高度方向上并排延伸，其中所述高度方向垂直于所述滑動件的空氣支撐面。
57.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其中所述基座和所述光源在垂直于所述滑動件的空氣支撐面的方 向上具有大約相同的高度。
【文檔編號】G11B5/48GK104050982SQ201410165331
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2014年3月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月12日
【發(fā)明者】W·J·科茲洛夫斯基, L·王, A·B·古拉科夫, K·B·多 申請人:西部數(shù)據(jù)（弗里蒙特）公司