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內(nèi)存裝置與靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存裝置的制作方法

文檔序號:6773348閱讀:162來源:國知局
專利名稱:內(nèi)存裝置與靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是有關(guān)于一種存儲單元(memory cell),特別是有關(guān)于一種存儲單元的偏壓技術(shù)。
背景技術(shù)
靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存(static random access memories ;SRAM)被普遍地用在記體電路中。嵌入式靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存在高速傳輸應(yīng)用、影像處理應(yīng)用和系統(tǒng)芯片(system on chip ;S0C)應(yīng)用中特別受到歡迎。靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元(SRAM cells)具有不需更新 (refresh)即可維持?jǐn)?shù)據(jù)的優(yōu)點(diǎn)。圖1是繪示具有六晶體管和單端口的靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元電路10的示意圖。典型地,靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元包含兩個通閘(pass-gate)晶體管 (標(biāo)示為PG)。透過此兩晶體管,一個位的數(shù)據(jù)可被寫入至靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元或從靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元被讀取出來?;镜膯卧w(cell)lO包含兩個互耦反向器,這兩個反向器包含兩個上拉晶體管(標(biāo)示為PU)和兩個下拉晶體管(標(biāo)示為PD),以形成數(shù)據(jù)儲存栓鎖器。通閘晶體管(PG)是耦接于差動位線(標(biāo)示為BL和BLB)間,以從靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元栓鎖讀取位數(shù)據(jù)和/或?qū)懭胛粩?shù)據(jù)至靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元栓鎖中。通間晶體管的柵極被字符線WL所控制。靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元的另一型態(tài)被稱為雙端口靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元,其包含四個通閘晶體管。在深次微米技術(shù)中,裝置不匹配與下降的字符線電壓位準(zhǔn)影響了靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元的寫入能力。意即,程序晶體管(program transistor) (PG)的Von(Vgs-Vth)下降, 而降低靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元寫入能力。為此,在寫入操作期間,負(fù)脈沖(BL/BLB)被提供至位線,以改善晶體管PG的Von。圖2是繪示用以提供負(fù)脈沖至位線的已知方法的電路示意圖。此方法是依靠電容性耦合透過一反向器來下拉BL電壓至一負(fù)值。如圖2所示,正脈沖被提供至反向器12,此反向器12是透過電容14來耦接至BL (標(biāo)示為NBL以呈現(xiàn)負(fù)位線電壓)。晶體管16是在寫入操作后,根據(jù)信號RESET來重置位線至接地電壓。耦接至圖2的位線的電壓受限于反向器12的供應(yīng)電壓VDD (存儲單元供應(yīng)電壓)。如此,如果反向器12的供應(yīng)電壓VDD降低,負(fù)電壓脈沖的強(qiáng)度也會降低。此關(guān)系繪示于圖3中。在較低的VDD位準(zhǔn)時,需要較高的而非較低的負(fù)電壓脈沖來改善寫入能力。再者,如圖3所示,在較高VDD條件下的較高強(qiáng)度負(fù)電壓會干擾未被選擇的存儲單元的數(shù)據(jù)值。因此,需要一種針對靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元的寫入操作的改良偏壓方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一方面是在提供一種內(nèi)存裝置與靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存裝置,以改善其寫入能力和/或讀取能力。根據(jù)本發(fā)明的一實施例,此內(nèi)存裝置包含多個存儲單元所構(gòu)成的存儲單元陣列, 此內(nèi)存裝置包含位線偏壓電路,用以在寫入操作期間,偏壓位線,此位線偏壓電路是用以運(yùn)作來提供負(fù)偏壓至位線,負(fù)偏壓的強(qiáng)度是與被提供至存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)的存儲單元供應(yīng)電壓的位準(zhǔn)成反比。根據(jù)本發(fā)明的另一實施例,此靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存裝置包含存儲單元陣列和位線偏壓電路。存儲單元陣列包含多個靜態(tài)隨機(jī)存取存儲單元,其中每一靜態(tài)隨機(jī)存取存儲單元具有至少一通閘(pass gate),此通閘耦接至位線。位線偏壓電路是用以于寫入操作期間, 運(yùn)作來提供負(fù)偏壓至位線,負(fù)偏壓的強(qiáng)度是與被提供至存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)的存儲單元供應(yīng)電壓的位準(zhǔn)成反比。位線偏壓電路包含電容、第一開關(guān)電路和第二開關(guān)電路。第一開關(guān)電路是用以于第一階段期間,操作來將電容充電。第二開關(guān)電路是用以于第二階段期間, 操作來將電容耦接至位線,其中第二階段是接續(xù)于第一階段。根據(jù)本發(fā)明的又一實施例,此靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存裝置包含存儲單元陣列和偏壓電路。存儲單元陣列包含多個靜態(tài)隨機(jī)存取存儲單元,其中每一靜態(tài)隨機(jī)存取存儲單元被耦接于存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)與第二供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)間。偏壓電路是用以于讀取操作期間,提供存儲單元供應(yīng)電壓至存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)。偏壓電路包含電容、第一開關(guān)電路和第二開關(guān)電路。第一開關(guān)電路是用以于第一階段期間,操作來將電容充電。第二開關(guān)電路是用以于第二階段期間,操作來將被充電的電容耦接至存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)。其中,第二階段是接續(xù)于第一階段。本發(fā)明的內(nèi)存裝置與靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存裝置,可以改善其寫入能力和/或讀取能力。


為讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征、和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂,上文特舉一較佳實施例,并配合所附附圖,作詳細(xì)說明如下圖1是繪示已知技術(shù)的靜態(tài)隨機(jī)存取存儲單元(SRAM cells);圖2是繪示已知技術(shù)的偏壓電路,其是在寫入操作中提供負(fù)位線電壓;圖3是繪示圖2的已知偏壓電路所提供的負(fù)位線電壓與VDD電源供應(yīng)電壓間的關(guān)系;圖4與圖4A-4B是繪示根據(jù)本發(fā)明一實施例的負(fù)位線電壓偏壓電路;圖5是繪示圖4的偏壓電路的操作與圖2的已知偏壓電路的操作的比較;圖6A是繪示圖4的偏壓電路與圖2的已知偏壓電路的模擬結(jié)果;圖6B是繪示用以提供圖6A的原始數(shù)據(jù)(raw data)的圖表;圖7是繪示圖5的偏壓電路在一范圍的電源供應(yīng)電壓下經(jīng)過一段時間的操作;圖8是繪示圖2的偏壓電路在一范圍的電源供應(yīng)電壓下經(jīng)過一段時間的操作;圖9是繪示根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的負(fù)位線電壓偏壓電路;圖10是繪示圖9的偏壓電路的模擬結(jié)果;圖11是繪示圖9的偏壓電路在一范圍的電源供應(yīng)電壓下經(jīng)過一段時間的操作;圖12是繪示用以提供存儲單元電源供應(yīng)電壓的偏壓電路于讀取操作期間的實施例;圖13是繪示圖12的偏壓電路的模擬結(jié)果;圖14是繪示圖12的偏壓電路在一范圍的電源供應(yīng)電壓下經(jīng)過一段時間的操作。
主要組件符號說明10:內(nèi)存單元電路 1214:電容16100 偏壓電路A、B、C:節(jié)點(diǎn)CVDD 存儲單元供應(yīng)電壓BL 差動位線NBL:負(fù)位線電壓PG:通閘晶體管RESET 信號Vc:電容電壓V10 電壓
12 反向器 16 晶體管
A1、A2 節(jié)點(diǎn) C1 電容
BLB 差動位線 PD 下拉晶體管 PU 上拉晶體管 Sl S4 開關(guān) VDD 供應(yīng)電壓 WL 字符線
具體實施例方式下述示范性實施例的敘述須配合附上的附圖來閱讀,這些附圖應(yīng)作為整體敘述的一部份。關(guān)于附著、耦接這類詞語,例如耦接、連接和內(nèi)連接,是指各結(jié)構(gòu)彼此直接地互相連接溝通或透過中間結(jié)構(gòu)來間接地互相連接溝通,除非文中有特別地描述或限定。在此提出用來產(chǎn)生負(fù)耦合電壓給靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元的位線的新電路架構(gòu)。靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元的范例是繪示于圖1中。本領(lǐng)域的已知技藝者可認(rèn)知到,在此所提供的靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元為以行列來設(shè)置的靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元陣列的一部份,且被多條字符線和位線中相應(yīng)的字符線和位線對偏壓。重要的是,相對于電壓VDD,耦接電壓具有逆向的趨勢。意即,當(dāng)電壓VDD下降時,負(fù)位線電壓的強(qiáng)度會增加(即它會變得更負(fù)),而當(dāng)電壓VDD增加時,負(fù)位線電壓的強(qiáng)度會減少(即它會變得比較不負(fù))。在一實施例中,負(fù)位線電壓是利用切換式電容架構(gòu)來產(chǎn)生。電容被Vm電壓源充電,其可為供應(yīng)至芯片輸出入(IO)接墊的定電壓,且通常大于核心的供應(yīng)電壓VDD。例如, 在45納米(nm)和28納米世代中,電壓Viq可等于1. 8伏特,而電壓VDD可等于0. 9伏特。 接著,電容被連接到位線,且一耦合電壓被產(chǎn)生,此耦合電壓等于芯片定電壓Vn^PVDD的差值。此負(fù)耦合電壓與電壓VDD間具有逆關(guān)系。如此,較低的電壓VDD位準(zhǔn)提供具有較大強(qiáng)渡的負(fù)耦合電壓,其將于低VDD位準(zhǔn)時,提供優(yōu)良的寫入能力,而不干擾同列存儲單元中的其它存儲單元。相較于上述的已知方法,此偏壓架構(gòu)亦節(jié)省了面積,因為電容的尺寸可被減少。再者,此偏壓架構(gòu)也可以下述方式來實施,以改善讀取能力。請參照圖4,其是繪示偏壓電路100的實施例,其是將一負(fù)電壓耦合至靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元的位線,此靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元位于具有多個靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元行列的靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元陣列中。繪示的實施例包含電容(標(biāo)示為C1KVDD電源供應(yīng)器和第二電源供應(yīng)器(Vm電壓源)。偏壓電路100包含四個開關(guān)Si、S2、S3和S4,其是如下述,連接至節(jié)點(diǎn)A、B和C。電容C1的一導(dǎo)體是耦接至節(jié)點(diǎn)A。節(jié)點(diǎn)A可選擇性地透過開關(guān)Sl來耦接至Viq電壓源以及透過開關(guān)S3來耦接至VDD。電容的另一導(dǎo)體是選擇性地透過開關(guān)S2 和S4來分別耦接至節(jié)點(diǎn)B或節(jié)點(diǎn)C。值得注意的是,如圖2所示的反向器是不需要的。
6
在第一階段中,開關(guān)Sl和S2被觸發(fā)(即開啟/合起),以將電容C1連接到Vra電壓源。開關(guān)S3和S4為開路(即關(guān)閉)。第一階段的狀態(tài)是表示于圖4A中。在第一階段期間,電容C1的電容電壓Vc被充電至電壓Vra的值。在第二階段期間,開關(guān)Sl和S2被開路, 而開關(guān)S3和S4被開啟。第二階段的狀態(tài)是表示于圖4B中,節(jié)點(diǎn)C的偏壓電壓將會從0瞬間變成0+VDD-Vc (即位線一開始是被重置晶體管接地),其是等于VDD-Vm。V10可被設(shè)定為芯片的正供應(yīng)電壓。例如,Vra可被設(shè)定為1.8伏特,而VDD的目標(biāo)為0.9伏特。所以,預(yù)期的位線電壓為-0. 9伏特。假定芯片電壓Vm為定值,但VDD可變化,負(fù)耦合電壓VBL與電路供應(yīng)電壓VDD間將具有如圖5所示的逆關(guān)系。例如,如果VDD為0. 7伏特而不是0. 9伏特, 則VBL變成-1. 2伏特,且如果VDD為0. 5伏特而不是0. 9伏特,則VBL變成-1. 4伏特。如上所述,此逆關(guān)系確保在較低電路供應(yīng)電壓的情況下,有足夠的負(fù)位線電壓。再者,在較高VDD的情況下,提供了較低而不是較高強(qiáng)度的負(fù)位線電壓,其可避免干擾未被選擇的存儲單元的數(shù)據(jù)值。圖6A和圖6B是繪示圖4所示的偏壓電路的模擬結(jié)果,其中Viq被設(shè)定為1. 8伏特。更具體的是,圖6A是繪示已知偏壓電路(圖2)以及切換式電容偏壓電路(圖4)的位線偏壓對VDD的關(guān)系,而圖6B是繪示圖6A所繪示的數(shù)據(jù)點(diǎn)的圖表。從圖6A的圖片以及圖 6B的數(shù)據(jù)可看出,當(dāng)用以偏壓靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存單元的字符線的VDD的強(qiáng)度減少時,圖4的偏壓電路所提供的負(fù)偏壓的強(qiáng)度會增加,然而已知技術(shù)(圖幻的偏壓電路所提供的負(fù)偏壓的強(qiáng)度卻會減少。再者,相較于圖2的已知電路,繪示于圖4中的偏壓電路提供了電路尺寸的縮減。 例如,在圖2的電路中,當(dāng)VDD為0. 4伏特時,-0. 25伏特的位線偏壓所需的電容為M飛法拉第(femto Farad ;fF),然而圖4的偏壓電路所需的電容卻只有7. 6fF。此兩方法的比較
如下表所示
權(quán)利要求
1.一種內(nèi)存裝置,其特征在于,包含多個存儲單元所構(gòu)成的一存儲單元陣列,該內(nèi)存裝置包含一位線偏壓電路,用以在一寫入操作期間,偏壓一位線,該位線偏壓電路是用以運(yùn)作來提供一負(fù)偏壓至該位線,該負(fù)偏壓的強(qiáng)度是與被提供至一存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)的一存儲單元供應(yīng)電壓的位準(zhǔn)成反比。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的內(nèi)存裝置,其特征在于,該位線偏壓電路包含一電容;一第一開關(guān)電路,用以于一第一階段期間,將該電容耦接至一正電源供應(yīng)電壓來充電該電容,其中該第一開關(guān)電路包含一第一開關(guān)組件和一第二開關(guān)組件,該第一開關(guān)組件是用以根據(jù)該正電源供應(yīng)電壓,來將該電容的一第一導(dǎo)體耦接至該正電源供應(yīng)電壓,而該第二開關(guān)組件是用以將該電容的一第二導(dǎo)體耦接至一接地節(jié)點(diǎn);以及一第二開關(guān)電路,用以于一第二階段期間,將該電容耦接于該存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)與該位線間,以提供該負(fù)偏壓至該位線,其中該第二階段是接續(xù)于該第一階段,其中該第二開關(guān)電路包含一第三開關(guān)組件和一第四開關(guān)組件,該第三開關(guān)組件系用以將該電容的該第一導(dǎo)體耦接至該存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn),而該第四開關(guān)組件是用以將該第二導(dǎo)體耦接至該位線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的內(nèi)存裝置,其特征在于,該些存儲單元為靜態(tài)隨機(jī)存取存儲單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的內(nèi)存裝置,其特征在于,該位線偏壓電路包含一電容;一第一開關(guān)電路,用以于一第一階段期間,將該電容耦接于一正電源供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)與該存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)間,以充電該電容,其中該正電源供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)被施加有一正電源供應(yīng)電壓;以及一第二開關(guān)電路,用以于一第二階段期間,將該電容耦接于該位線,以提供該負(fù)偏壓至該位線,其中該第二階段是接續(xù)于該第一階段。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的內(nèi)存裝置,其特征在于,該第一開關(guān)電路包含一第一開關(guān)組件和一第二開關(guān)組件,該第二開關(guān)電路包含一第三開關(guān)組件和一第四開關(guān)組件,該第一開關(guān)組件是用以根據(jù)該正電源供應(yīng)電壓來將該電容的一第一導(dǎo)體耦接至該正電源供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn),該第二開關(guān)組件是用以將該電容的一第二導(dǎo)體耦接至該存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn),該第三開關(guān)組件是用以將該電容的該第一導(dǎo)體耦接至一接地節(jié)點(diǎn),該第四開關(guān)組件是用以該第二導(dǎo)體耦接至該位線。
6.一種靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存裝置,其特征在于,包含一存儲單元陣列,包含多個靜態(tài)隨機(jī)存取存儲單元,其中每一該些靜態(tài)隨機(jī)存取存儲單元具有至少一通閘,該通閘耦接至一位線;以及一位線偏壓電路,用以在一寫入操作期間,運(yùn)作來提供一負(fù)偏壓至該位線,該負(fù)偏壓的強(qiáng)度是與被提供至一存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)的一存儲單元供應(yīng)電壓的位準(zhǔn)成反比,該位線偏壓電路包含一電容、一第一開關(guān)電路和一第二開關(guān)電路,該第一開關(guān)電路是用以于一第一階段期間,操作來將該電容充電,該第二開關(guān)電路是用以于一第二階段期間,操作來將該電容耦接至該位線,其中該第二階段是接續(xù)于該第一階段。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存裝置,其特征在于該第一開關(guān)電路是用以于該第一階段期間,將該電容耦接至一正電源供應(yīng)電壓來充電該電容;該第二開關(guān)電路是用以于該第二階段期間,將該電容耦接于該存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)與該位線間;以及該正電源供應(yīng)電壓大于該存儲單元供應(yīng)電壓。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存裝置,其特征在于,該第一開關(guān)電路包含一第一開關(guān)組件和一第二開關(guān)組件,該第二開關(guān)電路包含一第三開關(guān)組件和一第四開關(guān)組件,該第一開關(guān)組件是用以根據(jù)該正電源供應(yīng)電壓來將該電容的一第一導(dǎo)體耦接至一正電源供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn),該第二開關(guān)組件是用以將該電容的一第二導(dǎo)體耦接至一接地節(jié)點(diǎn),該第三開關(guān)組件是用以將該電容的該第一導(dǎo)體耦接至該存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn),而該第四開關(guān)組件是用以將該第二導(dǎo)體耦接至該位線。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存裝置,其特征在于該第一開關(guān)電路,于該第一階段期間,將該電容耦接于一正電源供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)與該存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)間,以充電該電容,其中該正電源供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)被施加有一正電源供應(yīng)電壓,該第一開關(guān)電路包含一第一開關(guān)組件和一第二開關(guān)組件,該第一開關(guān)組件是用以將該電容的一第一導(dǎo)體耦接至該正電源供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn),而該第二開關(guān)組件是用以將該電容的一第二導(dǎo)體耦接至該存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn);一第二開關(guān)電路,于該第二階段期間,將該電容耦接至該位線;以及該正電源供應(yīng)電壓大于該存儲單元供應(yīng)電壓。
10.一種靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存裝置,其特征在于,包含一存儲單元陣列,包含多個靜態(tài)隨機(jī)存取存儲單元,其中每一該些靜態(tài)隨機(jī)存取存儲單元被耦接于一存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)與一第二供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)間;以及一偏壓電路,用以于一讀取操作期間,提供一存儲單元供應(yīng)電壓至該存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn),該偏壓電路包含一電容、一第一開關(guān)電路和一第二開關(guān)電路,該第一開關(guān)電路是用以于一第一階段期間,操作來將該電容充電,該第二開關(guān)電路是用以于一第二階段期間, 操作來將被充電的該電容耦接至該存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn),該第二階段是接續(xù)于該第一階段,其中該第一開關(guān)電路是用來將該電容耦接至一第一電源供應(yīng)器,以充電該電容,而該第二開關(guān)電路是用以將該電容串接于一第二電源供應(yīng)器與該存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)間。
全文摘要
本發(fā)明揭露一種內(nèi)存裝置與靜態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存(static random access memories;SRAM)裝置。此內(nèi)存裝置包含位線偏壓線路,用以在寫入操作期間,偏壓位線。位線偏壓電路是操作來提供負(fù)偏壓至位線。負(fù)偏壓的強(qiáng)度與被提供至存儲單元供應(yīng)電壓節(jié)點(diǎn)的存儲單元供應(yīng)電壓的位準(zhǔn)成反比。
文檔編號G11C11/414GK102237129SQ20101053204
公開日2011年11月9日 申請日期2010年10月27日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月29日
發(fā)明者劉逸群, 周紹禹, 楊琇惠, 詹偉閔 申請人:臺灣積體電路制造股份有限公司
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