專利名稱：可變形鏡的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種可變形鏡，該鏡設置于光學裝置例如光學拾取裝置中， 并且該鏡能夠改變其反射面的形狀。更具體的講，本發(fā)明涉及一種可變形鏡， 該鏡的結構能夠降低裝配過程中反射面可能發(fā)生的變形。
背景技術：
通常，關于可變形鏡有不同的提議，它們提出可變形鏡能夠改變自身反 射面的形狀以修正入射光束的光學畸變等，而且這種可變形鏡應用非常廣 泛，包括圖像處理裝置和光學拾取裝置。例如，在光學拾取裝置領域中，如JP-A-2004-109562或JP-A-2005-196859 所示的，可變形鏡用于修正當在光盤上讀取信息或信息寫入光盤、諸如CD (壓縮光盤)或DVD (數(shù)字通用光盤)的時候可能發(fā)生的波象差，這種波象 差包括當光盤表面相對于光軸傾斜時可能發(fā)生的慧形象差，以及由于用來保 護光盤的記錄表面的透明樹脂膜(保護層)的變化引起的球形像差。至于這種可變形鏡，有如JP-A-2004-109562中所示的可變形鏡使用壓電 元件并具有單壓電晶片元件或雙壓電晶片元件形狀，還有如 JP-A-2005-196859中所示的可變形鏡由層壓薄膜例如壓電膜制成。至于另一 種可變形鏡，如JP-A-H05-333274所示的可變形鏡利用柱狀壓電元件(壓電 致動器)沿縱向(豎直方向)的膨脹或收縮可以使其反射面變形。而且，利 用柱狀壓電元件沿縱向的膨脹或收縮可以使其反射面變形的可變形鏡，具有 制造容易的優(yōu)點。另外，與JP-A-2005-196859中所公開的由層壓薄膜制成的 可變形鏡比較，除了易于制造，它還在成本上具有優(yōu)勢。然而，利用壓電元件沿縱向的膨脹和收縮可以使其反射面變形的可變形 鏡，具有如下問題。至于利用壓電元件沿縱向的膨脹和收縮可以使其反射面變形的可變形 鏡，例如粘接劑或金屬膜的粘接層(接合層)用于將鏡基板和固定鏡基板的
固定構件相接合，以及將鏡基板和壓電元件相接合。因此，當裝配可變形鏡 的時候，粘接層設置于鏡基板的與設置反射面的表面相對的表面，然后將固 定構件和壓電元件接合至鏡基板。而且，在傳統(tǒng)的方法中，考慮到固定構件 和壓電元件都接合至鏡基板，粘接層設置于與固定構件和壓電元件相接合的 鏡基板的整個表面。當鏡基板和固定構件或壓電元件互相接合時，粘接層應該設置于鏡基板 上。這是因為設置于鏡基板和固定構件等之間的粘接層應該較薄且均勻。更 具體地說，為了形成薄且均勻的粘接層(厚度是2^m或者更薄)，將金屬 層(如金層)用作粘接層的方法是有利的，因為可以容易地形成粘接層。然 而，在這種情況下，為了充分地接合，粘接層應該形成于鏡基板和固定構件 或壓電元件上。因此，粘接層也形成于鏡基板上。另外，如果粘接劑用于形 成薄且均勻的粘接層，使用旋涂法等。然而，在固定構件和壓電元件上形成 薄且均勻的粘接層是困難的。因此，在使用粘接劑的情況下在鏡基板上設置 粘接層是必要的。粘接層形成薄層的原因是，如果粘接層太厚，那么鏡基板不能通過壓電 元件的膨脹和收縮而充分地變形。粘接層形成均勻層的原因是用于均勻地執(zhí) 行接合過程。然而，從發(fā)明者進行的研究中發(fā)現(xiàn)，當使用厚度約為lum的金層形成 為尺寸是12mmX12mm、厚度約為100um的鏡基板(Si基板)上的粘接層 時，相對于鏡基板的水平狀態(tài)發(fā)生在鏡基板內的彎曲的最大值約為10—15 um。注意，該彎曲可能由殘余應力導致，例如在所形成的金層中產生的張 應力或壓應力。因此，在如傳統(tǒng)結構(包含如JP-A-H05-333274所述的一種結構，在該結構中填充料設置于鏡基板的整個表面上)的粘接層形成于鏡基板的整個表面的結構中，存在如下問題。問題在于在形成粘接層時可能發(fā)生畸變，在 鏡基板和固定構件等之間的接合引起設置于鏡基板上的反射面上的大應力 (畸變)，導致可變形鏡未充分修正光學畸變。發(fā)明內容本發(fā)明的目的是提供一種可變形鏡，它能夠使其反射面變形，并且它的 結構能夠抑制裝配過程中在反射面上可能產生的畸變。本發(fā)明的可變形鏡包括支承基板；鏡基板，其與支承基板相對，并具 有處于與朝向支承基板的表面相對的表面上的反射面；固定構件，設置于支 承基板上并且固定鏡基板；和壓電元件，其設置于支承基板上，并且當施加電壓時膨脹或收縮，以使得由固定構件固定的部分圍繞的所述鏡基板的區(qū)域 能夠變形。該可變形鏡通過將電壓施加至壓電元件使得反射面和鏡基板發(fā)生 變形。用于使鏡基板和固定構件相互接合的接合層設置于鏡基板的表面上， 所述表面與形成反射面的表面相對，而且該接合層形成于與進入所述反射面 的光束的入射區(qū)域的外面相對應的區(qū)域。根據(jù)該結構，設置到鏡基板上的用于接合固定構件的接合層僅形成于接 合至所述固定構件的所述鏡基板的部分，除了因反射面發(fā)生畸變而帶來的不 正確的部分。因此，當裝配可變形鏡時，可以抑制反射面的可能發(fā)生的畸變。 而且當制作可變形鏡時，其性能降低的比較少。另外，優(yōu)選的是，具有上述結構的本發(fā)明的可變形鏡具有如下特點，艮p， 待設置于鏡基板的接合層僅形成于接合至固定構件的鏡基板的部分內。根據(jù)該結構，設置用于將鏡基板和用于支承鏡基板的固定構件相互接合 的連接層，只形成于它們之間。因此，保留在鏡基板的殘余扭曲盡可能小， 以便于盡可能地抑制可能發(fā)生在裝配過程中的反射面上的畸變。另外，優(yōu)選的是，具有上述結構的本發(fā)明的可變形鏡還具有如下特點， 即，接合層是可以逋過熱壓粘合使鏡基板與固定構件相互接合的金屬層。根據(jù)該結構，由于鏡基板和固定構件通過使用金屬層而相互接合，所以 可以容易地制得薄接合層，而且能夠僅在特定部分容易地形成接合層。另外，優(yōu)選的是，具有上述結構的本發(fā)明的可變形鏡還具有如下特點，即，鏡基板的厚度在50-300 !xm范圍內。根據(jù)該結構，由于鏡基板形成薄的形狀，所以反射面可以有效地變形， 同時考慮到鏡基板可能由于接合層而在裝配過程中易于產生畸變，從而可以 有效地降低發(fā)生在裝配過程中的反射面上的畸變。另外，優(yōu)選的是，具有上述結構的本發(fā)明的可變形鏡還具有如下特點， 即，鏡基板與壓電元件沒有互相接合。根據(jù)該結構，由于鏡基板與壓電元件沒有互相接合，還可以抑制由于產
生于接合層內的殘余壓力所導致的反射面的畸變。


圖1是示出根據(jù)本發(fā)明實施例的可變形鏡的結構的示意圖，該示意圖是 以分解的方式示出了可變形鏡的結構部件的分解立體圖。圖2是沿圖1中的線A—A切取處于裝配狀態(tài)下的圖l所示的可變形鏡所得的剖視全圖。圖3是示出壓電元件圖2所示的可變形鏡中膨脹的狀態(tài)的示意圖。 圖4是示出設置于本實施例的可變形鏡的鏡基板的變化的剖視圖。 圖5是示出設置于本實施例的可變形鏡的鏡基板的表面的俯視全圖，該鏡基板與支承基板相對。圖6是示出與支承基板2相對的鏡基板的表面的結構變化的俯視全圖。
具體實施方式
在下文中，本發(fā)明的實施例將參考附圖進行描述。注意，所描述的實施 例僅僅是實例，而且本發(fā)明不限于這些實施例。此外，在圖中所示的各個元 件的尺寸和厚度等只是為了便于理解，它們并不總是與實際結構相似。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的可變形鏡的實施例的示意圖，該示意圖是以分 解的方式示出了可變形鏡的結構部件的分解立體圖。另外，圖2是沿圖1中 的線A—A切取處于裝配狀態(tài)下的圖l所示的可變形鏡所得的剖視全圖。將 參考圖1和圖2描述根據(jù)本實施例的可變形鏡的結構。標記1表示可變形鏡，該鏡能夠使其反射面變形以修正入射光束的光學 畸變。該可變形鏡1包含支承基板2，與支承基板2相對的鏡基板3，設置 于支承基板2上并固定鏡基板3的固定構件4，設置于支承基板2上的壓電 元件5，該壓電元件5能通過其膨脹和收縮來擠壓鏡基板3以使反射面3a可 以變形。在下文中，將詳細介紹每個部分。支承基板2起支承固定構件4和壓電元件5的作用。支承基板2由絕緣 構件組成，例如玻璃或陶瓷等形成。在支承基板2上具有支承臺2a和2b， 支承臺2a和2b分別設置有固定構件4和壓電元件5。而且，突出圖案2c從 其上設置有壓電元件5的每個支承臺2b伸出。注意，支承臺2a、 2b和突出
圖案2c是由例如蝕刻工藝或噴砂工藝等形成。設置壓電元件5的支承臺2b由金層覆蓋，該金層具有作為壓電元件5 的電極的作用，還具有接合壓電元件5和支承基板2的作用。此外，從設置 壓電元件5的支承臺2b延伸的突出圖案2c也由金層覆蓋，以使得突出圖案 2c作為從外部向壓電元件5供應電力的線路圖案而工作。覆蓋支承臺2b和 突出圖案2c的金層是通過例如蒸鍍法或濺射法形成。盡管本實施例采用了這種結構，即為了有利于定位等，設置用于支承固 定構件4的支承臺2a，但是本發(fā)明不限于這種結構。例如，可以采用不設置 用于支承固定構件4的支承臺2a的結構。而且，盡管在本實施例中支承臺 2b和突出圖案2c由金層覆蓋，但是本發(fā)明不限于這種結構。還可以采用這 些部件由其它金屬層覆蓋的結構，或釆用這種結構，即支承臺2a和突出圖 案2c由具有傳導性的硅(Si)制成，而且突出圖案2c沒有被金層覆蓋。鏡基板3基本與支承基板2平行地設置，并與其相對，而且反射面3a 形成于與朝向支承基板2的表面相對的表面上。由于鏡基板3具有通過壓電 元件5的膨脹和收縮而發(fā)生變形的結構，以使得反射面3a也發(fā)生變形，因此 鏡基板3需要形成薄的厚度。此外，為了避免當通過壓電元件5的膨脹和收 縮而使得鏡基板3發(fā)生變形時破損，鏡基板3需要以具有硬度的材料制成。 考慮到這一點，在本實施例中，鏡基板3由厚度大概是lOOum的硅(Si) 基板構成。盡管在本實施例中，鏡基板3由硅制成，但是本發(fā)明不限于這種結構。 它可以由其它可以更薄且有硬度的材料制成。鏡基板3的反射面3a是通過在鏡基板3上形成鋁層(Al)而得到的。 該鋁層是采用蒸鍍法或濺射法等而形成的。注意，反射面3a不僅可以使用 鋁材料也可以使用其它材料制成，只要這些材料能達到進入可變形鏡1的反 射面3a的光束的反射光的期望反射系數(shù)。例如，可以使用金(Au)或銀(Ag) 等作為不同的變型。此外，在本實施例中，盡管鏡基板3的整個上表面構成 反射面3a，但是本發(fā)明不限于這種結構。也可以采用另一種結構，在該結構 中，反射面3a的區(qū)域根據(jù)入射光束的入射直徑進行確定，以使得反射層僅 在這個區(qū)域內形成。此外，朝向支承基板2的鏡基板3的表面設置有與壓電元件5相接觸的 突出部3b，如圖2所示。這種設置用于通過壓電元件5的膨脹和收縮有效地轉移施加至鏡基板3的力。該突出部3b通過例如蝕刻工藝形成。盡管在本 實施例的結構中形成突出部3b，但是本發(fā)明不限于此結構。也可以采用不設 置突出部3b的結構。固定構件4設置于支承基板2上并起到固定鏡基板3的作用。在本實施 例中，固定構件4在8個位置支承鏡基板3，這8個位置包括矩形鏡基板3 的外緣上的四個角和四個邊的中間部分(夾在設置于角處的四個固定構件4 中的兩個中間的位置)。注意，固定構件4的該設置并不限于本實施例的這 種結構，也可以進行各種的變型，只要通過此結構可以牢固地固定鏡基板3 的外緣。固定構件4由例如玻璃或陶瓷等制成。固定構件4與支承基板2的接合 和固定構件4與鏡基板3的接合均由這樣的方法完成，即作為接合層6的 Au層設置于兩者之間，并在400到550攝氏度的高溫下施加用于接合的壓 力。注意，可以使用用于接合的粘合劑。當施加電壓時，壓電元件5可以沿垂直于反射面3a的方向膨脹或收縮。 因此，可以使鏡基板3以及反射面3a變形。壓電元件5的材料類型并不做 特別限制，只要是壓電陶瓷，如鈦酸鋇(BaTi03)或鋯鈦酸鉛(Pb(ZrJVx)03))。 在本實施例中使用鈦酸鋯酸鉛，因為它具有優(yōu)良的壓電特性。壓電元件5設置于支承基板2上，并處于設置于鏡基板3的外緣處的固 定構件4的內側。而且，四個壓電元件5沿交叉方向設置在支承基板2上， 互相面對的壓電元件5相對于穿過反射面3a的中心并與反射面3a垂直的軸 線以對稱的方式設置。壓電元件5以這種方式設置是為了更容易地使反射面 3a具有良好平衡地發(fā)生變形，而不需要額外增加壓電元件5的數(shù)量。然而壓 電元件5的布置與數(shù)量不局限于這種結構，而是可以進行多種修改。壓電元件5與支承基板2在高溫狀況下(例如400到550攝氏度)利用 金層而熱接合在一起。注意，可以通過使用粘合劑將壓電元件5與支承基板 2相接合。另一方面，在該結構中壓電元件5不接合至鏡基板3。當施加電壓時壓電元件5膨脹或收縮。用于將電壓施加至壓電元件5的 一個電極由如上所述的覆蓋設置于支承基板2上的支承臺2b的金層實現(xiàn)， 另一個電極是由硅制成的鏡基板3實現(xiàn)。換言之，鏡基板3起到用于四個壓
電元件5的公共電極的作用。因此，鏡基板3適合于與壓電元件5正常接觸。注意，用于壓電元件5的線路與電極的結構不限于本實施例的結構。例 如，還可以采用一種結構，在這種結構中，壓電元件5設置于不設置支承臺 2b的支承基板2上，支承基板2設有通孔，以使得線路穿過該通孔而形成用 于壓電元件5的一個電極，用于壓電元件5的另一個電極形成于朝向支承基 板2的鏡基板3的表面上。另外，如果壓電元件5是層壓式壓電致動器，還 可以采用正、負電極均在支承基板2上伸出的結構。在這種情況下，即使壓 電元件5不與鏡基板3接觸，也可以將電壓施加至壓電元件5。下面將描述具有如上所述結構的可變形鏡1的操作。圖3是示出壓電元 件在圖2所示的可變形鏡中膨脹的狀態(tài)的示意圖。如圖3所示，如果壓電元 件5膨脹，向上擠壓鏡基板3從而反射面3a發(fā)生變形。另一方面，由于壓 電元件5與鏡基板3沒有相互接合，當壓電元件5收縮時鏡基板3不會變形。 盡管圖3示出了當同樣的電壓施加至左邊和右邊的壓電元件時它們以同樣的 方式發(fā)生膨脹，但也可以對壓電元件5施加不同的電壓。換言之，可以分別 控制施加至壓電元件5的電壓，從而可以得到期望的反射面3a的變形。而且，在本實施例的結構中，當壓電元件5收縮時反射面3a沒有變形。 然而，例如圖4所示，也可以采用另一種結構，在該結構中，鏡基板3具有 凹反射面3a和朝向支承基板2的凸面，以使得當壓電元件5收縮時反射面 3a可以發(fā)生變形。換言之，如圖2中所示，如果壓電元件5不膨脹或不收縮， 該結構構造成反射面3a變成基本與支承基板2平行。于是，不僅在壓電元 件5膨脹的情況下而且在壓電元件5收縮的情況下，反射面都可以發(fā)生變形。 注意，通過層壓具有不同熱收縮系數(shù)的不同材料，具有凹反射面的鏡基板3 可以發(fā)生變形。另外，可以采用一種結構，在該結構中壓電元件5與鏡基板3接合在一 起，以使得反射面3a在壓電元件5收縮的情況下也可以發(fā)生變形。然而優(yōu) 選的是如下所述，鏡基板3與壓電元件5不相互接合。然后，將描述防止反射面3a在裝配過程中發(fā)生畸變的結構，這是本實 施例可變形鏡l的特點。如上所述，鏡基板3與固定構件4通過設置金層而 相互接合，所述金層是鏡基板3與固定構件4之間的接合層。盡管傳統(tǒng)方法 采用將接合層6設置于朝向支承基板2的鏡基板3的整個表面的這種結構， 但本實施例采用接合層6設置于鏡基板3的僅接合至固定構件4的部分的結構，如圖5所示。注意，圖5是朝向支承基板2的鏡基板3的表面的俯視全 圖。另外，當鏡基板3與固定構件4通過金層接合時，固定構件4上也設置 有金層。由于設置于鏡基板3的接合層6具有如上所述的結構，可以減小由殘余 應力例如張應力或壓應力導致設置于鏡基板3的接合層6可能發(fā)生的畸變， 以便于可以減小當鏡基板3與固定構件4相互接合時鏡基板3的反射面3a 可能發(fā)生的畸變。另外，如上所述，為了有效地轉移當壓電元件5膨脹時所產生的力，本 實施例中的鏡基板3具有由蝕刻工藝形成的突出部3b (參看圖2)。在這種 情況下，盡管其上設置有接合層6的表面粗糙，如果接合層6形成于整個表 面上，那么當金層(接合層6)與硅基板(鏡基板3)相互接合的時候金層 (接合層6)與硅基板(鏡基板3)的合金化可能會變得不均勻。這也可能 是導致反射面3a畸變的因素?？紤]到這一點，因為在本實施例中金層只設 置于部分區(qū)域，本實施例的該結構可以減小這種影響。如上所述，當厚度大約為1 u m的金層形成于尺寸為12mmX 12mm和厚 度大約為lOOum的鏡基板的盤狀表面上時，鏡基板3所產生的彎曲大約為 10-15um。相比之下，如果鏡基板3的厚度大約為300ixm，所產生的彎曲 大約2um。因此本發(fā)明是有效的，特別是在鏡基板3厚度小于300"m的情 況下。考慮到鏡基板的厚度太小會引起鏡基板3的強度不穩(wěn)定，優(yōu)選的是， 本發(fā)明的可變形鏡的鏡基板3的厚度范圍是50—300um。注意，鏡基板3 的厚度的下限值50um是考慮到如上所述的鏡基板3的強度等而確定的，而 且這并不總是意味著本發(fā)明不可以應用到鏡基板3的厚度小于該下限值的情 況。通過遮蓋鏡基板3的不需要接合層6的其他部分這種方法，并通過例如 蒸鍍法或濺射法形成金層，作為連接層6的該金層可以容易地形成于鏡基板 3的僅與固定構件4接合的部分。也可以使用其他公知的方法。另外，在本實施例的結構中，鏡基板3與壓電元件5如上所述并沒有相 互接合。這用于防止當接合層6設置成用于將壓電元件5接合至鏡基板3的 時候接合部分可能發(fā)生畸變。而且，不同于固定構件4，壓電元件5設置于
與進入可變形鏡l的光束的入射區(qū)域相對應的位置，或者在入射區(qū)域的附近和外面。因此，壓電元件5不接合至鏡基板3以防止反射面3a可能發(fā)生的 畸變是有效的。注意，如上所述，即使壓電元件5不接合至鏡基板3，反射 面3a也可以充分地變形。雖然如上所述的實施例采用了這樣的結構，在該結構中，用于將鏡基板 3和固定構件4相互接合的接合層6設置于鏡基板3的僅待接合至固定構件 4的部分，但本發(fā)明不限于這種結構。如果在待變形的反射面3a的該部分的 區(qū)域內沒有發(fā)生畸變，在該部分區(qū)域中光束進入可變形鏡的反射面3a，則入 射光束的光學畸變可以由可變形鏡l適當?shù)匦拚?。因此，例如圖6所示，可 以采用這種結構，在該結構中，將接合層6形成于與進入反射面3a的入射 光束的入射區(qū)域7 (圖6中圓圈圈起來的區(qū)域)的外面相對應的整個表面。 如果接合層6以這種方式形成，有利的是用于形成接合層6的掩膜可具有簡 單的形狀。注意，圖6是朝向支承基板2鏡基板3的表面的俯視全圖。另外，利用 虛線示于圖6的矩形區(qū)域示出了接合固定構件4的位置。接合固定構件4的 位置位于進入可變形鏡1的光束的入射區(qū)域7的外面。雖然如上所述的本實施例示出了這種情況，即設置于鏡基板3和固定構 件4之間的接合層6是金層，但接合層6并不限于金層，而是可以為其他金 屬層，只要該金屬層可以通過熱壓粘合而使鏡基板3和固定構件4相互接合。 例如可以使用金錫合金(Au-Sn合金)或鋁(Al)等。然而，優(yōu)選的是使用金層， 因為，如果金層用作接合層6可以增強粘結強度。盡管上述實施例采用了這樣的結構，在該結構中，金屬層(金層)用作 設置于鏡基板3與固定構件4之間的接合層6，但還可以使用粘合劑。在這 種情況下，也可以降低可能發(fā)生于反射面3a的畸變。注意，通過使用由例 如感光樹脂制成的粘合劑和光刻工藝的方法，該粘合劑可以應用于鏡基板3 的有限區(qū)域。而且，盡管上述的本實施例中的可變形鏡1的整體形狀是如圖1所示的 矩形形狀，但并不特別限于這種形狀，而是可以在不脫離本發(fā)明的目的的情 況下在本發(fā)明的范圍內進行修改。例如，支承基板2和鏡基板3等可以是圓 形形狀，或者鏡基板3與支承基板2可以具有相同的尺寸。
由于本發(fā)明的可變形鏡可以降低在裝配過程中反射面可能發(fā)生的畸變， 通過使用本發(fā)明的可變形鏡，可以適當?shù)匦拚肷涔饩€的光學畸變。因此， 本發(fā)明的可變形鏡可以應用于具有需要修正光束的光學畸變的光學系統(tǒng)的 各種光學裝置中。例如，也可以應用到光學拾取裝置，錄像放映機，數(shù)字相 機等。
權利要求
1. 一種可變形鏡，包括 支承基板；鏡基板，其與所述支承基板相對，并具有處于與朝向所述支承基板的表面相對的表面上的反射面；固定構件，其設置于所述支承基板上，并且固定所述鏡基板；和 至少一個壓電元件，其設置于所述支承基板上，并且當施加電壓時所述壓電元件膨脹或收縮，以使得由所述固定構件固定的部分圍繞的所述鏡基板的區(qū)域能夠變形，其中將所述鏡基板與所述固定構件相互接合的接合層設置于所述鏡基板的與形成反射面的表面相對的表面上，而且所述接合層形成于與進入所述反射面的光束的入射區(qū)域的外面相對應的區(qū)域。
2. 如權利要求1所述的可變形鏡，其中設置到所述鏡基板上的所述接合 層僅形成于接合至所述固定構件的所述鏡基板的部分。
3. 如權利要求1所述的可變形鏡，其中所述接合層是能夠通過熱壓接合 使所述鏡基板與所述固定構件相互接合的金屬層。
4. 如權利要求1所述的可變形鏡，其中所述鏡基板的厚度在50um-300 y m范圍內。
5. 如權利要求1所述的可變形鏡，其中所述鏡基板與所述壓電元件沒 有相互接合。
6. 如權利要求2所述的可變形鏡，其中所述接合層是能夠通過熱壓接合使所述鏡基板與所述固定構件相互接合的金屬層。
7. 如權利要求2所述的可變形鏡，其中所述鏡基板的厚度在50^m-300 um范圍內。
8. 如權利要求2所述的可變形鏡，其中所述鏡基板與所述壓電元件沒 有相互接合。
9. 如權利要求3所述的可變形鏡，其中所述鏡基板的厚度在50um-300 U m范圍內。
10. 如權利要求3所述的可變形鏡，其中所述鏡基板與所述壓電元件沒有相互接合。
11. 如權利要求4所述的可變形鏡，其中所述鏡基板與所述壓電元件沒 有相互接合。
12. 如權利要求6所述的可變形鏡，其中所述鏡基板的厚度在50 " m-300 ii m范圍內。
13. 如權利要求6所述的可變形鏡，其中所述鏡基板與所述壓電元件沒 有相互接合。
14. 如權利要求7所述的可變形鏡，其中所述鏡基板與所述壓電元件沒 有相互接合。
15. 如權利要求9所述的可變形鏡，其中所述鏡基板與所述壓電元件沒 有相互接合。
16. 如權利要求12所述的可變形鏡，其中所述鏡基板與所述壓電元件 沒有相互接合。
全文摘要
一種可變形鏡，包括支承基板；鏡基板，其與所述支承基板相對，并具有處于與朝向所述支承基板的表面相對的表面上的反射面；固定構件，其設置于所述支承基板上，并且固定所述鏡基板；和壓電元件，其設置于所述支承基板上以使鏡基板的反射面能夠變形。將鏡基板與固定構件相互接合的接合層設置于鏡基板的與形成反射面的表面相對的表面上，而且接合層形成于與進入所述反射面的光束的入射區(qū)域的外面相對應的區(qū)域。
文檔編號G11B7/135GK101122680SQ20071014139
公開日2008年2月13日 申請日期2007年8月9日 優(yōu)先權日2006年8月9日
發(fā)明者杉山進, 田中克彥, 田中史記, 石井明 申請人:船井電機株式會社;學校法人立命館