專利名稱：光盤片伺服信號(hào)偏壓校正的方法及光盤片的量產(chǎn)制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種光盤片(optical disc)的伺服(servo)信號(hào)偏壓(bias)校正(calibration)的方法，特別是關(guān)于一種未刻錄(unrecorded)資料光盤片或空白(blank)光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法。
背景技術(shù)：
目前已存在許多光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，是根據(jù)刻錄于光盤片上8-14調(diào)變(Eight-to-Fourteen Modulation；EFM)的信號(hào)。圖1是一公知光驅(qū)決定最佳聚焦錯(cuò)誤(focus error；FE)偏壓的方法的示意圖。該方法是由日本專利第8-077579/1996號(hào)所揭露，最佳聚焦錯(cuò)誤偏壓電壓VB0位于聚焦錯(cuò)誤偏壓VB4與VB3的中心，VB4與VB3分別由溝槽錯(cuò)誤(groove error)率曲線GE與區(qū)塊錯(cuò)誤(block error)率曲線BE的讀取極限所決定。同時(shí)，最佳抖動(dòng)點(diǎn)(jitter point)位于聚焦錯(cuò)誤偏壓電壓VB0，即VB4與VB3的平均值。然而，區(qū)塊錯(cuò)誤率曲線是由EFM信號(hào)得出，因此傳統(tǒng)的方法不適用于未刻錄資料光盤片或空白光盤片。
相同地，日本專利第7-201058/1995與8-249682/1996號(hào)更揭露讀取聚焦錯(cuò)誤偏壓(read FE bias)的調(diào)整(adjustment)是分別決定于如圖2所示晃動(dòng)敲擊(wobble beat)曲線GC的最小點(diǎn)PC，晃動(dòng)抖動(dòng)(wobble jitter)曲線GE的最小點(diǎn)PE，EFM抖動(dòng)(jitter)曲線GB曲線的最小點(diǎn)PB，EFM的峰至峰(peak-to-peak)值曲線GA的最大值PA。此方法雖可應(yīng)用于全新的空白光盤片上，然而其中須另增加所謂晃動(dòng)敲擊(wobble beat)偵測(cè)線路來偵測(cè)晃動(dòng)的發(fā)生；而且晃動(dòng)最小點(diǎn)PC是否就是EFM錯(cuò)誤率與抖動(dòng)的最佳點(diǎn)并不確定，因其與讀取頭(pickup head)光路設(shè)計(jì)有關(guān)，因此該方法并無法證明可廣泛使用于所有光驅(qū)種上。
另外，由以上二種方法得出的最佳讀取聚焦錯(cuò)誤偏壓并不適用于寫入聚焦錯(cuò)誤控制循環(huán)(write FE control loop)。
在日本專利第JP2000306247(2000/11/02)號(hào)中，提出一種可適用于寫入聚焦錯(cuò)誤控制循環(huán)的聚焦錯(cuò)誤平衡的校正方法，其方法為使用一固定寫入功率(write power)，光驅(qū)以不同的寫入聚焦錯(cuò)誤偏壓準(zhǔn)位(write FE bias level)做刻錄測(cè)試，并將光盤片上刻錄結(jié)果的不對(duì)稱性(asymmetry)利用光驅(qū)的讀回(read back)裝置讀回來，以產(chǎn)生寫入聚焦錯(cuò)誤偏壓的校正功能。圖3顯示在日本專利第JP2000306247號(hào)中不對(duì)稱性準(zhǔn)位β與聚焦平衡之間的關(guān)系，在大量實(shí)行的過程中，此方法須對(duì)讀回裝置先進(jìn)行一定程度的校準(zhǔn)，以防止因讀回裝置的差異性造成不對(duì)稱性量測(cè)誤差而導(dǎo)至不良結(jié)果。另外，測(cè)試所使用的寫入功率與寫入策略(strategy)也會(huì)對(duì)最終結(jié)果產(chǎn)生一定的影響而必須加以注意。
圖4的流程圖說明一傳統(tǒng)刻錄資料于空白光盤片的方法40，在光驅(qū)中放入可刻錄資料的空白光盤片后，光驅(qū)讀取光盤片儲(chǔ)存的辨識(shí)資料(identification data；ID)并辨識(shí)其屬性(attribution)，如步驟41與42。步驟43檢查插入的光盤片是否為一空白光盤片，若光盤片已刻錄，光驅(qū)可依在EFM資料區(qū)的信號(hào)來執(zhí)行伺服信號(hào)偏壓校正，若光盤片是一未刻錄資料光盤片或空白光盤片，則有些偏壓準(zhǔn)位，可由預(yù)設(shè)(default)的聚焦錯(cuò)誤偏壓準(zhǔn)位來決定。在步驟47中預(yù)設(shè)的聚焦錯(cuò)誤偏壓準(zhǔn)位是用來讀回在功率校正區(qū)域(power calibration area；PCA)內(nèi)的EFM信號(hào)，刻錄該EFM信號(hào)是用于最佳化功率校正(optimum power calibration；OPC)的目的。在聚焦錯(cuò)誤偏壓未校正的情況下，碟機(jī)的讀取動(dòng)作會(huì)產(chǎn)生不可忽視的誤差，進(jìn)而影響功率校正結(jié)果且造成刻錄品質(zhì)不佳。
圖5的流程圖說明另一傳統(tǒng)刻錄資料于空白光盤片的方法50，在光盤片的量產(chǎn)制造過程中，如步驟52所示，先將一不對(duì)稱性準(zhǔn)位(asymmetry level)的建議值刻錄在光盤片的晃動(dòng)信息(wobble information)內(nèi)。如步驟53所示，當(dāng)一使用者開始刻錄資料于空白光盤片，光驅(qū)首先讀取晃動(dòng)信息來執(zhí)行最佳化功率校正，因此，其不對(duì)稱性準(zhǔn)位最接近不對(duì)稱性準(zhǔn)位的建議值的寫入功率即為最佳寫入功率。然而，光驅(qū)讀回的不對(duì)稱性準(zhǔn)位值會(huì)因光驅(qū)不同而有差異，造成刻錄品質(zhì)不一致。此種讀回值的差異不僅存在于不同的光驅(qū)，也存在于不同量產(chǎn)制造批號(hào)的光盤片。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的是提供一種光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的創(chuàng)新方法，特別是關(guān)于一種未刻錄資料的空白光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正方法。光驅(qū)以一校正過的伺服信號(hào)偏壓來執(zhí)行空白光盤片的最佳化功率校正，以得到一最佳寫入功率準(zhǔn)位，其導(dǎo)致在寫入時(shí)可成功地得到適當(dāng)?shù)男盘?hào)。
本發(fā)明的其它目的是提供一種對(duì)光盤片的刻錄區(qū)域(embossed area)內(nèi)讀取的伺服信號(hào)偏壓做校正的方法，從光盤片的刻錄區(qū)域量測(cè)一不對(duì)稱性信息，因而降低不同的光驅(qū)刻錄品質(zhì)的差異。
為達(dá)上述目的，本發(fā)明揭示一種光盤的伺服信號(hào)偏壓校正的方法。該方法先對(duì)光盤片刻錄區(qū)域內(nèi)的伺服信號(hào)偏壓做校正，再以該校正過的伺服信號(hào)偏壓來執(zhí)行最佳化功率校正，以得到一寫入功率準(zhǔn)位。后續(xù)將資料刻錄至該光盤片和從該光盤片讀取資料則以該寫入功率準(zhǔn)位與該校正過的伺服信號(hào)偏壓為基準(zhǔn)。
至于本發(fā)明所提的目的也揭示一種最佳化功率校正信息的傳遞方法。
建議的最佳化功率校正參數(shù)可借由量測(cè)光盤片上預(yù)先刻錄的圖案來得到。光驅(qū)量測(cè)預(yù)先刻錄的圖案所得到的參數(shù)，將被用來刻錄資料于光盤片。由于光驅(qū)根據(jù)自己的量測(cè)重新產(chǎn)生參數(shù)，故不同光驅(qū)量測(cè)的差異可被消除。理想狀態(tài)下，這些參數(shù)將非常接近于最佳化功率校正的處理流程中從功率校正區(qū)域讀到的值。
在本發(fā)明的其它方面，一最佳化功率校正的架構(gòu)被提出來找尋最佳寫入功率以及與寫入功率相關(guān)的寫入聚焦錯(cuò)誤偏壓。
在本發(fā)明所提的最佳化功率校正的處理流程中，在一默認(rèn)值的功率下，以不同的伺服信號(hào)偏壓準(zhǔn)位將資料寫入一光盤片的功率校正區(qū)域，不對(duì)稱性信息是由相對(duì)應(yīng)的寫入?yún)^(qū)域中量測(cè)，找出符合從刻錄區(qū)域量測(cè)到的不對(duì)稱性準(zhǔn)位的二個(gè)伺服偏壓準(zhǔn)位，并計(jì)算二者的差異，該寫入功率決定于該計(jì)算出的伺服偏壓準(zhǔn)位的差異，介于二個(gè)伺服偏壓準(zhǔn)位之間的最佳的伺服偏壓準(zhǔn)位即可得出以用來刻錄光盤片。


圖1是公知的決定最佳聚焦錯(cuò)誤偏壓方法的示意圖；圖2是公知的決定最佳聚焦錯(cuò)誤偏壓方法的示意圖；圖3是顯示公知的一不對(duì)稱性指數(shù)β與一聚焦平衡偏壓之間的關(guān)系；圖4是一公知的刻錄資料于空白光盤片的方法的流程圖；圖5是一公知的傳遞建議的最佳化功率校正參數(shù)的方法的流程圖；圖6是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的刻錄資料于空白光盤片的的方法的流程圖；圖7是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的傳遞建議的最佳化功率校正參數(shù)的方法的流程圖；以及圖8是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用來決定一最佳寫入功率準(zhǔn)位與其寫入聚焦錯(cuò)誤偏壓準(zhǔn)位的示意圖。
符號(hào)說明
GE溝槽錯(cuò)誤率曲線BE區(qū)塊錯(cuò)誤率曲線GC晃動(dòng)敲擊曲線 PC晃動(dòng)敲擊曲線的最小點(diǎn)GE晃動(dòng)抖動(dòng)曲線 PE晃動(dòng)抖動(dòng)曲線的最小點(diǎn)GB EFM抖動(dòng)曲線 PB EFM抖動(dòng)曲線的最小點(diǎn)GA EFM的峰至峰值曲線PA EFM的峰至峰值曲線的最大值β不對(duì)稱性準(zhǔn)位具體實(shí)施方式
圖6的流程圖是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的未刻錄資料光盤片或空白光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的步驟60。在放入可刻錄資料空白光盤片后，光驅(qū)讀取光盤片的辨識(shí)資料ID來辨識(shí)其屬性，如步驟61與62。步驟63檢查光盤片是否為一空白光盤片，若光盤片已刻錄，則執(zhí)行步驟66，光驅(qū)以刻錄區(qū)內(nèi)的EFM信號(hào)來執(zhí)行如讀取聚焦錯(cuò)誤位準(zhǔn)的伺服信號(hào)偏壓校正。若光盤片是一未刻錄資料的空白光盤片，則執(zhí)行步驟64，對(duì)光盤片刻錄區(qū)域內(nèi)的伺服信號(hào)偏壓做校正。
當(dāng)步驟65的刻錄激活，最佳化功率校正的處理流程是以校正過的伺服信號(hào)偏壓來執(zhí)行，以得到寫入功率準(zhǔn)位，如步驟67。在執(zhí)行最佳化功率校正的處理流程前，先參考不對(duì)稱性信息，例如不對(duì)稱性準(zhǔn)位β可借由量測(cè)刻錄在光盤上的EFM信號(hào)來得到。以該寫入功率準(zhǔn)位與該校正過的伺服信號(hào)偏壓為基準(zhǔn)來將資料刻錄至該光盤片和從該光盤片讀取資料。
光驅(qū)借由每次寫入動(dòng)作的開始執(zhí)行最佳化功率校正的處理流程來調(diào)整刻錄光盤片的激光功率，光驅(qū)利用不同準(zhǔn)位的激光功率在光盤片的保留區(qū)(例如功率校正區(qū)域)執(zhí)行測(cè)試刻錄(burn)，光驅(qū)必須讀回自己在測(cè)試刻錄區(qū)域的資料，以計(jì)算刻錄的激光功率值，此即為眾所周知的最佳化功率校正的處理流程。
相較于圖5，圖7揭露一種方法70，應(yīng)用于空白光盤片具有參考信號(hào)圖案(pattern)，使得光驅(qū)可借由量測(cè)參考信號(hào)圖案來得到光盤片的物理特性。光驅(qū)因此可利用這些得到的物理特性執(zhí)行接下來最佳化功率校正(OPC)的處理流程。如步驟72所示，空白光盤片在量產(chǎn)制造時(shí)即將參考信號(hào)圖案燒到光盤片上。如步驟73所示，當(dāng)一使用者欲刻錄資料于光盤片，最佳化功率校正的處理流程的執(zhí)行包含量測(cè)參考信號(hào)圖案。從量測(cè)參考信號(hào)圖案可得到的光盤片的物理特性包含射頻(RF)不對(duì)稱性、射頻峰至峰值(VPP)、時(shí)脈信號(hào)的周期長(zhǎng)度T、反射光信號(hào)分別在3T、11T、14T記錄標(biāo)記的最大振幅m3、m11與m14、以及參考抖動(dòng)與錯(cuò)誤率。
圖8是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用來決定最佳寫入功率準(zhǔn)位與寫入聚焦錯(cuò)誤偏壓準(zhǔn)位。當(dāng)最佳化功率校正的處理流程執(zhí)行時(shí)，光驅(qū)以不同的寫入功率準(zhǔn)位與不同的伺服信號(hào)偏壓來刻錄資料于光盤片的功率校正區(qū)域。圖8說明三個(gè)EFM特性曲線P1、P2與P3，描述三個(gè)不同的寫入功率準(zhǔn)位伴隨不同的寫入聚焦錯(cuò)誤偏壓準(zhǔn)位。
計(jì)算每條曲線對(duì)應(yīng)于一不對(duì)稱性量測(cè)β的預(yù)設(shè)門檻(predeterminedthreshold)的二個(gè)寫入聚焦錯(cuò)誤偏壓準(zhǔn)位之間的差異。該預(yù)設(shè)門檻可以是先前于刻錄區(qū)量測(cè)的一預(yù)設(shè)最佳不對(duì)稱性準(zhǔn)位，有些曲線與該預(yù)設(shè)門檻不相交，如圖8的曲線P1，指出這些曲線對(duì)應(yīng)的寫入功率準(zhǔn)位太低，達(dá)不到預(yù)設(shè)門檻β，每一曲線與該預(yù)設(shè)門檻二個(gè)相交點(diǎn)的差異值被計(jì)算來做比較，例如，對(duì)曲線P2而言，δ＝|B-A|。
若計(jì)算出的差異值δ在由一上門檻δH與一下門檻δL所定義的預(yù)設(shè)范圍內(nèi)，對(duì)應(yīng)于曲線P2的寫入功率準(zhǔn)位可用于后繼的刻錄流程。相反地，對(duì)應(yīng)于曲線P1與P3的寫入功率準(zhǔn)位分別太大和太小，若計(jì)算出的差異值δ滿足預(yù)設(shè)范圍δL＜δ＜δH，最佳寫入聚焦錯(cuò)誤偏壓準(zhǔn)位ε可由曲線導(dǎo)出，在本實(shí)施例即為二個(gè)相交點(diǎn)A與B的中心平均值，ε＝(A+B)/2。在后繼的刻錄流程中，最佳寫入功率準(zhǔn)位與最佳寫入聚焦錯(cuò)誤偏壓準(zhǔn)位ε可視為最佳的刻錄參數(shù)設(shè)定。
本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容及技術(shù)特點(diǎn)已揭示如上，然而熟悉本項(xiàng)技術(shù)的人士仍可能基于本發(fā)明的教示及揭示而作種種不背離本發(fā)明精神的替換及修飾。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)不限于實(shí)施例所揭示的，而應(yīng)包括各種不背離本發(fā)明的替換及修飾，并為申請(qǐng)專利范圍所涵蓋。
權(quán)利要求
1.一種光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，包含下列步驟對(duì)光盤片刻錄區(qū)域內(nèi)的伺服信號(hào)偏壓做校正；以及以該校正過的伺服信號(hào)偏壓來執(zhí)行最佳化功率校正，以得到一寫入功率準(zhǔn)位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其另包含下列步驟以該寫入功率準(zhǔn)位與該校正過的伺服信號(hào)偏壓為基準(zhǔn)來將資料刻錄至該光盤片和從該光盤片讀取資料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其中該刻錄區(qū)域包含實(shí)質(zhì)刻錄于光盤片上的最佳刻錄信息，光驅(qū)在量測(cè)光盤片的物理特性時(shí)參考該刻錄信息以得到最佳刻錄參數(shù)設(shè)定。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其中該伺服信號(hào)偏壓的校正是根據(jù)光盤片上刻錄圖案的量測(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其中該光盤片上刻錄圖案的量測(cè)為一不對(duì)稱性準(zhǔn)位。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其中該伺服信號(hào)偏壓是一讀取聚焦錯(cuò)誤偏壓、一寫入聚焦錯(cuò)誤偏壓或其二者的結(jié)合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其中該光盤片是一未刻錄資料的盤片。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其另包含借由量測(cè)先前刻錄用來執(zhí)行最佳化功率校正的信號(hào)圖案來得到參考的不對(duì)稱性信息。
9.一種光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，包含下列步驟對(duì)一光盤片的刻錄區(qū)域內(nèi)讀取的伺服信號(hào)偏壓做校正；從該光盤片的刻錄區(qū)域量測(cè)不對(duì)稱性信息；以及執(zhí)行以該不對(duì)稱性信息為基礎(chǔ)的最佳化功率校正來得到一寫入功率準(zhǔn)位。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其另包含以該寫入功率準(zhǔn)位為基礎(chǔ)來刻錄資料于該光盤片。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其中該不對(duì)稱性信息實(shí)質(zhì)刻錄于該光盤片的刻錄區(qū)域。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其中該最佳化功率校正另包含下列步驟在一默認(rèn)值的功率下，以不同的伺服信號(hào)偏壓準(zhǔn)位將資料寫入一光盤片的功率校正區(qū)域；量測(cè)先前步驟中該寫入的不對(duì)稱性準(zhǔn)位；計(jì)算出符合一預(yù)設(shè)門檻的二個(gè)伺服偏壓準(zhǔn)位的差異，其中該預(yù)設(shè)門檻對(duì)應(yīng)于刻錄區(qū)域量測(cè)到的該不對(duì)稱性準(zhǔn)位；該寫入功率決定于該計(jì)算出的伺服偏壓準(zhǔn)位的差異；以及根據(jù)該二個(gè)伺服偏壓準(zhǔn)位符合該預(yù)設(shè)門檻來決定光盤寫入的伺服偏壓準(zhǔn)位。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其中該光盤寫入的伺服偏壓準(zhǔn)位是該二個(gè)伺服偏壓準(zhǔn)位的中間值。
14.一種光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，包含下列步驟以多個(gè)測(cè)試寫入功率準(zhǔn)位與伺服偏壓準(zhǔn)位，將資料寫入一光盤片的功率校正區(qū)域；對(duì)應(yīng)于不同的測(cè)試寫入功率準(zhǔn)位與伺服偏壓準(zhǔn)位下，量測(cè)8-14調(diào)變EFM的特性曲線；在不同的測(cè)試寫入功率準(zhǔn)位下，計(jì)算出符合一預(yù)設(shè)門檻的二個(gè)伺服偏壓準(zhǔn)位的差異；由該測(cè)試寫入功率準(zhǔn)位中決定出寫入功率，若相對(duì)應(yīng)的聚焦錯(cuò)誤偏壓的差異在一預(yù)設(shè)范圍內(nèi)；以及根據(jù)對(duì)應(yīng)于該預(yù)設(shè)門檻的該二個(gè)伺服偏壓準(zhǔn)位決定一最佳的伺服偏壓準(zhǔn)位，依該最佳的伺服偏壓準(zhǔn)位與相對(duì)應(yīng)的寫入功率準(zhǔn)位來刻錄光盤片。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其中該最佳的伺服偏壓準(zhǔn)位是對(duì)應(yīng)于該預(yù)設(shè)門檻的該二個(gè)伺服偏壓準(zhǔn)位的中間值。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其中該預(yù)設(shè)門檻是量測(cè)該光盤片的刻錄區(qū)域得到的一不對(duì)稱性量測(cè)結(jié)果。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正的方法，其中該特性曲線是由一EFM的區(qū)塊錯(cuò)誤率量測(cè)得到。
18.一種光盤片的量產(chǎn)制造方法，包含下列步驟刻錄一參考信號(hào)圖案于光盤片上，使得光驅(qū)借由量測(cè)該參考信號(hào)圖案來得到該光盤片的物理特性，光驅(qū)因此可執(zhí)行最佳化功率校正。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的光盤片的量產(chǎn)制造方法，其中該物理特性包含射頻不對(duì)稱性、射頻峰至峰值、時(shí)脈信號(hào)的周期長(zhǎng)度T、反射光信號(hào)分別在3T、11T、14T記錄標(biāo)記的最大振幅m3、m11與m14，其參考抖動(dòng)與錯(cuò)誤率。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的光盤片的量產(chǎn)制造方法，其中該光盤片的物理特性是該光驅(qū)借由量測(cè)該光盤片的刻錄區(qū)域得到。
全文摘要
本發(fā)明提出一種光盤片的伺服信號(hào)偏壓校正方法，該方法先利用光盤片刻錄區(qū)域校正伺服信號(hào)偏壓，再以該校正過的伺服信號(hào)偏壓來執(zhí)行最佳化功率校正，以得到一寫入功率準(zhǔn)位。將資料刻錄至該光盤片和從該光盤片讀取資料則以該寫入功率準(zhǔn)位與該校正過的伺服信號(hào)偏壓為基準(zhǔn)。
文檔編號(hào)G11B7/125GK1855249SQ20061007304
公開日2006年11月1日 申請(qǐng)日期2006年4月10日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月18日
發(fā)明者葉信忠, 林家豪, 吳尚緯, 徐敬全 申請(qǐng)人:聯(lián)發(fā)科技股份有限公司