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信息記錄媒體及錄放裝置的制作方法

文檔序號:6758454閱讀:108來源:國知局
專利名稱:信息記錄媒體及錄放裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及利用凹凸圖案形成數(shù)據(jù)磁道圖案和伺服圖案,同時(shí)在凹凸圖案的各凹部埋入非磁性材料的信息記錄媒體,以及具備該信息記錄媒體的錄放裝置。
背景技術(shù)
作為具備這種信息記錄媒體的錄放裝置,具備盤片讀取磁道型的磁盤構(gòu)成的磁記錄裝置公示于日本特開平9-97419號公報(bào)。在該情況下,磁盤在玻璃盤片基板(基體)的一個側(cè)面上以記錄磁性構(gòu)件(磁性材料)形成同心圓狀的記錄磁道(帶狀的凸部)。又在各記錄磁道之間(凹部),埋入提高磁盤的表面平滑性同時(shí)使相鄰磁道磁性分離用的保護(hù)間距構(gòu)件(非磁性材料),形成保護(hù)間距(guardband)部。在制造該磁盤時(shí),首先在基體的一個側(cè)面上濺射磁性材料形成記錄磁性層。接著,旋轉(zhuǎn)涂布正的抗蝕涂層使其覆蓋記錄磁性層并進(jìn)行預(yù)烘干后,使用原盤錄音(cutting)裝置繪制與保護(hù)間距部的圖案相同的圖案然后進(jìn)行顯像處理。借助于此,在記錄磁性層上形成抗蝕涂層圖案。然后,將抗蝕涂層圖案作為掩膜使用,在對記錄磁性層進(jìn)行蝕刻處理后利用灰化裝置除去殘留掩膜。通過這樣,在基體上形成由磁性材料構(gòu)成的記錄磁道和伺服圖案(凸部)。而后,在該狀態(tài)的基體上濺射非磁性材料。這時(shí)以非磁性材料徹底掩埋各記錄磁道間的凹部,而且,充分地濺射非磁性材料直到以非磁性材料覆蓋住各記錄磁道。接著,通過對濺射的非磁性材料的表面進(jìn)行干蝕刻處理,使記錄磁道的上表面從非磁性材料露出。借助于此,形成記錄磁道和保護(hù)間距部交互鄰接的狀態(tài),形成磁盤。
專利文獻(xiàn)1日本特開平9-97419號公報(bào)(第6-12頁、第1-19圖)在已有的磁盤中存在以下這些問題。即已有的磁盤中,在濺射非磁性材料覆蓋記錄磁性層(記錄磁道)后,對非磁性材料進(jìn)行干蝕刻處理直到記錄磁道和伺服圖案等凸部的上表面露出,使表面平滑化。但是,在以這種方法制造磁盤的情況下,有沿磁盤的旋轉(zhuǎn)方向和半徑方向的長度比較長的凸部上在干蝕刻處理后殘留的非磁性材料(以下將殘留于凸部上的非磁性材料稱為「殘?jiān)?的厚度過厚的情況。
例如,如圖14、15所示,按照上述制造方法制造的磁盤10x形成如下所述的結(jié)構(gòu),即形成磁道圖案用的凹凸圖案的磁道圖案區(qū)域(未圖示)以及形成循跡伺服用的凹凸圖案20sx的伺服圖案區(qū)域Asx在磁盤10x的旋轉(zhuǎn)方向(兩圖中所示的箭頭R的方向)上交互并排。此外,圖14概念性地圖示構(gòu)成凹凸圖案20sx中的猝發(fā)圖案的凹凸圖案的形成部位,圖15概念性地圖示構(gòu)成凹凸圖案20sx中的前序圖案的凹凸圖案的形成部位。這種情況下,如圖14所示,在凹凸圖案20sx中,構(gòu)成例如猝發(fā)圖案的區(qū)域,由凸部21sx、21sx…與凹部22sx、22sx…在磁盤10x的旋轉(zhuǎn)方向上交互排列形成的部位、以及凸部21sx、21sx…與凹部22sx、22sx…相結(jié)合,形成構(gòu)成猝發(fā)圖案的凸部21x(在該圖中以虛線表示的部位)的部位(由沿旋轉(zhuǎn)方向的長度較長的1個凸部構(gòu)成,作為無信號部處理的部位)構(gòu)成。
另一方面,申請人在對非磁性層進(jìn)行例如干蝕刻處理使其平滑化時(shí),表現(xiàn)出其下方存在的凸部的長度越長(凸部的上表面的寬度越寬),對其凸部上的非磁性層的蝕刻的進(jìn)行得就越緩慢的現(xiàn)象。因此,如圖16所示,以除去其長度L1a比較短的凸部21sx上的非磁性層(或殘?jiān)暮穸葹檫m當(dāng)?shù)暮穸?那樣的蝕刻條件(在凸部21sx與凹部22sx的形成部位上形成表面平滑性良好的蝕刻條件)對伺服圖案區(qū)域Asx的整個區(qū)域進(jìn)行蝕刻處理時(shí),如圖17所示,在其長度L1x比較長的凸部21x上殘留厚的殘?jiān)?非磁性層)。在這種情況下,在凸部21x上,與在磁盤10x的半徑方向(圖14的上下方向)上凹部22sx、22sx…存在的部位相比,對半徑方向上凸部21sx、21sx…存在的部位(圖14中以橢圓形虛線圍繞的箭頭X的部位)的蝕刻進(jìn)行得緩慢,結(jié)果未能除去非磁性材料,產(chǎn)生殘?jiān)?。其結(jié)果是,導(dǎo)致凸部21x上的非磁性層的表面與與凹部22sx內(nèi)的非磁性層的表面的高低差H變得非常大,從而使在凸部21x的形成部位上磁盤10x的表面平滑性惡化。這樣,已有的磁盤10x存在以下這些問題,即由于在其長度比較長的凸部21x等之上的非磁性層(殘?jiān)?變得比較厚,因此使得磁盤10x中的伺服圖案區(qū)域Asx內(nèi)的表面平滑性惡化。
鑒于這樣的存在問題,本發(fā)明的主要目的是,提供表面平滑性良好的信息記錄媒體、以及具有表面平滑性良好的信息記錄媒體的錄放裝置。

發(fā)明內(nèi)容
能夠達(dá)到上述目的的本發(fā)明的信息記錄媒體,利用具有多個凸部的凹凸圖案,在基體的至少一側(cè)的面上形成數(shù)據(jù)磁道圖案和伺服圖案,同時(shí)在該凹凸圖案的各凹部埋入非磁性材料,構(gòu)成所述伺服圖案的A凹凸圖案具備對應(yīng)于伺服數(shù)據(jù)形成的多個伺服用凸部,在該多個伺服用凸部中的至少一部分伺服用凸部以具有多個非伺服用凸部的B凹凸圖案構(gòu)成。
此外,本發(fā)明的信息記錄媒體形成所述B凹凸圖案,使得沿著所述基體的旋轉(zhuǎn)方向的所述各非伺服用凸部的形成間距與沿該旋轉(zhuǎn)方向的所述各伺服用凸部的形成間距不同。
此外,本說明書的所謂「各伺服用凸部的形成間距」是指「伺服用凸部的單位凸部長度和形成于伺服用凸部間的伺服用凹部的單位凹部長度的合計(jì)長度」。在這種情況下,上述所謂「單位凸部長度」是從信息記錄媒體讀取磁信號時(shí)作為「具有1個凸部」檢測用的基準(zhǔn)長度,所謂「單位凹部長度」是從信息記錄媒體讀取磁信號時(shí)作為「具有1個凹部」檢測用的基準(zhǔn)長度。因而,在實(shí)際的信息記錄媒體中,根據(jù)伺服數(shù)據(jù)的內(nèi)容,形成單位凸部長度的整數(shù)倍或單位凸部與單位凹部的合計(jì)長度(伺服用凸部的形成間距)整數(shù)倍的長度的伺服用凸部、和單位凹部長度的整數(shù)倍或單位凹部與單位凹部長度的合計(jì)長度(伺服用凸部的形成間距)的整數(shù)倍長度的伺服用凹部以構(gòu)成伺服圖案。這種情況下,可以對于作為「具有1個凸部」檢測用的基準(zhǔn)的長度,在整個伺服圖案中規(guī)定為1個共同的長度,也可以相應(yīng)于構(gòu)成伺服圖案的各種圖案的種類(前序圖案、地址圖案及猝發(fā)圖案)規(guī)定對于每一圖案不同的長度。同樣,也可以對于作為「具有1個凹部」檢測用的基準(zhǔn)的長度,在整個伺服圖案中規(guī)定為1個共同的長度,相應(yīng)于伺服圖案的種類,規(guī)定為對于每一圖案不同的長度。此外,一般來說,伺服用凸部的形成部位作為「有檢測信號輸出」或「信號電平高的檢測信號」檢測,伺服用凹部的形成部位作為「不輸出檢測信號」或「信號電平低的檢測信號」檢測。但是,對于已有的磁盤10x的凸部21x那樣的凸部,作為無信號部處理。此外,本說明書中的非伺服用凸部,指的是不與伺服數(shù)據(jù)對應(yīng)相關(guān)形成的凸部(以不影響伺服數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)內(nèi)容的形成圖案形成的凸部)。也就是,本說明書中的B凹凸圖案構(gòu)成不具有伺服功能,具有使表面平坦地形成的功能的平坦面形成用凹凸圖案。
此外,本發(fā)明的信息記錄媒體形成所述B凹凸圖案,使得沿所述旋轉(zhuǎn)方向的所述各非伺服用凸部的形成間距、比沿該旋轉(zhuǎn)方向的所述各伺服用凸部的形成間距小。
還有,本發(fā)明的信息記錄媒體形成所述非伺服用凸部,使得沿旋轉(zhuǎn)方向的長度與沿所述基體的半徑方向的長度中的至少一個長度比所述伺服用凸部對應(yīng)的的長度要短。
此外,本發(fā)明的錄放裝置,具備上述任一信息記錄媒體、取得記錄于該信息記錄媒體的信號用的磁頭、從利用該磁頭取得的信號中除去對應(yīng)于所述B凹凸圖案的信號成分或使其衰減并一邊提取對應(yīng)于所述A凹凸圖案的信號成分的信號提取部、按照以所述信號提取部提取的信號成分為依據(jù)的伺服數(shù)據(jù)進(jìn)行伺服控制的控制部。
采用本發(fā)明的信息記錄媒體與錄放裝置,利用以具有多個非伺服用凸部的B凹凸圖案構(gòu)成伺服用凸部,以此能夠以沿旋轉(zhuǎn)方向的長度和沿半徑方向的長度的至少一個長度比已有的伺服用凸部的對應(yīng)的長度短的非伺服用凸部構(gòu)成伺服用凸部。從而,能夠在對覆蓋構(gòu)成伺服圖案的凹凸圖案形成的非磁性材料進(jìn)行蝕刻處理時(shí)避免在非伺服用凸部上留下厚的殘?jiān)氖聭B(tài)發(fā)生。借助于此,能夠避免例如已有的磁盤10x中形成凸部21x的部位上產(chǎn)生厚的殘?jiān)氖聭B(tài)發(fā)生,因此可以很好地保持伺服圖案區(qū)域內(nèi)的表面平滑性。從而,能夠?qū)⒃谒欧D案區(qū)域內(nèi)磁頭的上浮量保持于適當(dāng)?shù)臓顟B(tài),其結(jié)果是,采用搭載該信息記錄媒體的錄放裝置,能夠穩(wěn)定進(jìn)行對信息記錄媒體的錄放。
此外,采用本發(fā)明的信息記錄媒體和錄放裝置,形成所述B凹凸圖案,而且使非伺服用凸部沿旋轉(zhuǎn)方向的形成間距與伺服用凸部沿旋轉(zhuǎn)方向的形成間距不同,因此在從該信息記錄媒體讀取伺服數(shù)據(jù)時(shí),可以使對應(yīng)于A凹凸圖案的信號的頻率(伺服用凸部通過磁頭下方的周期)與對應(yīng)于B凹凸圖案的信號的頻率(非伺服用凸部通過磁頭下方的周期)不同。從而,采用搭載該信息記錄媒體的錄放裝置,能夠從通過磁頭取得的信號中除去對應(yīng)于B凹凸圖案的信號成分或使其衰減,并提取對應(yīng)于A凹凸圖案的信號成分,因此可以不受B凹凸圖案存在的影響地取得伺服數(shù)據(jù)進(jìn)行伺服控制。
還有,采用本發(fā)明的信息記錄媒體與錄放裝置,以比各伺服用凸部的形成間距小的形成間距形成各非伺服用凸部,構(gòu)成B凹凸圖案,這樣可以使沿非伺服用凸部的旋轉(zhuǎn)方向的長度比沿伺服用凸部的旋轉(zhuǎn)方向的長度短得多。從而,能夠在對覆蓋構(gòu)成伺服圖案的凹凸圖案形成的非磁性材料進(jìn)行蝕刻時(shí)避免在非伺服用凸部上留下厚的殘?jiān)氖聭B(tài)發(fā)生。借助于此,可以更好地保持信息記錄媒體的伺服圖案區(qū)域的表面平滑。此外,對應(yīng)于B凹凸圖案的信號成分的頻率比對應(yīng)于A凹凸圖案的信號成分的頻率高,所以使用搭載于這種錄放裝置的一般的噪聲濾波器能夠除去對應(yīng)于B凹凸圖案的信號成分或使其衰減。
此外,采用本發(fā)明的信息記錄媒體和錄放裝置,形成的非伺服用凸部,使得沿基體的旋轉(zhuǎn)方向的長度與沿基體的半徑方向的長度中的任何一個的長度都比對應(yīng)于伺服用凸部的長度短,以此能夠避免在對非磁性材料進(jìn)行蝕刻處理時(shí)非伺服用凸部上留下厚的殘?jiān)氖聭B(tài)發(fā)生。因而能夠很好地保持信息記錄媒體的伺服圖案區(qū)域內(nèi)的表面平滑性。
此外,本發(fā)明的錄放裝置中,具備上述任何一個信息記錄媒體,以及從利用磁頭讀取的信號中除去對應(yīng)于B凹凸圖案的信號成分或使其衰減并提取對應(yīng)于A凹凸圖案的信號成分的信號提取部,控制部根據(jù)提取的信號成分進(jìn)行伺服控制。因而,采用本發(fā)明的錄放裝置,能夠從伺服圖案區(qū)域讀出伺服數(shù)據(jù)進(jìn)行正確的跟蹤伺服而不影響為使表面平滑性良好形成的多個非伺服用凸部。


圖1是表示硬盤驅(qū)動器1的結(jié)構(gòu)的方框圖。
圖2是表示磁盤10的層結(jié)構(gòu)的剖視圖。
圖3是磁盤10的平面圖。
圖4是磁道圖案區(qū)域At與伺服圖案區(qū)域As的平面圖。
圖5是伺服圖案區(qū)域As的猝發(fā)圖案區(qū)域Asb的平面6是猝發(fā)圖案區(qū)域Asb的凸部21sb、21sb…與凹部22sb、22sb…的形成部位的剖視圖。
圖7是是猝發(fā)圖案區(qū)域Asb的凸部31sb、31sb…與凹部32sb、32sb…的形成部位的剖視圖。
圖8是伺服圖案區(qū)域As的前序圖案區(qū)域的Asp的平面圖。
圖9是磁盤10a的猝發(fā)圖案區(qū)域Asba的平面圖。
圖10是猝發(fā)圖案區(qū)域Asba的凸部41sb、41sb…及凹部42sb、42sb…的形成部位的剖視圖。
圖11是磁盤10b的猝發(fā)圖案區(qū)域Asbb的平面圖。
圖12是表示磁盤10c的層結(jié)構(gòu)的剖視圖。
圖13是表示磁盤10d的層結(jié)構(gòu)的剖視圖。
圖14是已有的磁盤10x的伺服圖案區(qū)域Asx(猝發(fā)圖案)的平面圖。
圖15是已有的磁盤10x的伺服圖案區(qū)域Asx(前序圖案)的平面圖。
圖16是伺服圖案區(qū)域Asx的凸部21sx、21sx…及凹部22sx、22sx…的形成部位的剖視圖。
圖17是伺服圖案區(qū)域Asx的凸部21x的形成部位的剖視圖。
標(biāo)號說明1 硬盤驅(qū)動器3 磁頭5 信號提取部7 伺服數(shù)據(jù)檢測部8 驅(qū)動器9 控制部10、10a~10b磁盤11 玻璃基體11c 基體15 非磁性材料20、20c、20d、20s、20sa、20sb、20sba、20sbb、20sp、20t 凹凸圖案21、21ax、21bx、21c、21cx、21d、21sa、21sb、21sp、21t 凸部22、22c、22d、22sa、22sb、22sp、22t凹部31sb、32sp、41sb、51sb 凸部32sb、32sp、42sb、52sb 凹部As 伺服圖案Asa 地址圖案區(qū)域Asb、Asba、Asbb 猝發(fā)圖案區(qū)域Asp 前序圖案區(qū)域At 磁道圖案區(qū)域Ds 伺服數(shù)據(jù)L1a~L1c、L2a~L2c、L3a~L3c、L4a、L4b、L5a、L5b 長度R 箭頭
具體實(shí)施例方式
以下參照附圖對本發(fā)明的信息記錄媒體及錄放裝置的最佳實(shí)施形態(tài)進(jìn)行說明。
圖1所示的硬盤驅(qū)動器1是作為本發(fā)明的錄放裝置的一個例子的磁錄放裝置,其構(gòu)成具備主軸電動機(jī)2、磁頭3、信號變換部4、信號提取部5、檢測用時(shí)鐘脈沖輸出部6、伺服數(shù)據(jù)檢測部7、驅(qū)動器8、控制部9及磁盤10。在這種情況下,磁盤10為可以垂直記錄方式記錄記錄數(shù)據(jù)的磁盤讀出磁道型磁盤(圖案媒體),相當(dāng)于本發(fā)明的信息記錄媒體。具體地說,如圖2所示,該磁盤10在玻璃基體11上依序形成軟磁性層12、中間層13及磁性層14。在這種情況下,中間層13上形成的磁性層14通過以磁性材料形成的凸部21、22…與凹部22、22…交互形成,構(gòu)成規(guī)定的凹凸圖案20。此外,凹部22、22…上埋入SiO2等非磁性材料15。還有,在凸部21上和埋入凹部22的非磁性材料15上,例如利用CVD法形成類金剛石碳素膜,而形成厚度為2nm左右的保護(hù)層(DLC膜)16。此外,在該磁盤10中,在保護(hù)層16的表面涂布潤滑劑(例如フォンブリン系潤滑劑)。
玻璃基體11相當(dāng)于本發(fā)明的基體,將直徑2.5英寸的玻璃板進(jìn)行表面研磨到表面粗度Ra為0.2~0.3nm,形成厚度為0.6mm左右。本發(fā)明的基體并不僅僅限于玻璃材料,也可以由鋁、陶瓷等各種非磁性材料構(gòu)成。軟磁性層12通過濺射CoZrNb合金等軟磁性材料形成,厚度為100nm~200nm左右。中間層13是形成磁性層14用的起下底層作用的層,通過對Cr或CoCr非磁性合金等中間層形成用材料進(jìn)行濺射,形成厚度40nm左右的薄膜層。磁性層14是以利用磁性材料構(gòu)成的凸部21、21…構(gòu)成的層,如下所述,例如通過以該順序?qū)嵭袑鏑oCrPt合金進(jìn)行濺射處理以及將抗蝕涂層圖案作為掩模使用進(jìn)行蝕刻處理以形成凹部22、22…的處理形成凸部21、21…(凹凸圖案20)來構(gòu)成。
在這種情況下,如圖3所示,該磁盤10中,在磁道圖案區(qū)域At、At…之間設(shè)置伺服圖案區(qū)域As、As…,磁道圖案區(qū)域At以及伺服圖案區(qū)域Asa規(guī)定為在磁盤10的旋轉(zhuǎn)方向(箭頭R的方向)上相替并排。還有,如圖4所示,在磁道圖案區(qū)域At中,形成作為數(shù)據(jù)磁道圖案的凹凸圖案20t。在這種情況下,凹凸圖案20t由以磁盤10的旋轉(zhuǎn)中心為中心的同心圓狀的多個凸部21t、21t…(數(shù)據(jù)記錄用磁道以下稱為「記錄磁道」)及各凸部21t、21t…之間的凹部22t、22t…構(gòu)成。此外,在磁盤10的旋轉(zhuǎn)中心和凹部圖案20t的中心之間,具有因制造誤差引起的30~50μm左右的極小的偏差。而且,即使具有這種程度的偏差量也完全可以進(jìn)行對磁頭3的跟蹤伺服控制,因而旋轉(zhuǎn)中心和中心在實(shí)質(zhì)上是相同的。此外,在凹凸圖案20t的凹部22t、22t…中埋入非磁性材料15使磁道圖案區(qū)域At的表面平滑化。
此外,如圖4所示,伺服圖案區(qū)域As由前序圖案區(qū)域Asp、地址圖案區(qū)域Asa及猝發(fā)圖案區(qū)域Asb等構(gòu)成。在這種情況下,該磁盤10中,如下所述,在前序圖案區(qū)域Asp與猝發(fā)圖案區(qū)域Asb上形成以本發(fā)明的B凹凸圖案構(gòu)成的伺服用凸部。在前序圖案區(qū)域Asp上形成作為本發(fā)明的A凹凸圖案的一個例子、即凹凸圖案20sp。在這種情況下,如圖8所示,凹凸圖案20sp作為本發(fā)明的伺服用凸部的一個例子,由與圖15所示的已有的磁盤10x的前序圖案用的凸部21sx相同功能的多個凸部21sp、21sp…、以及在凸部21sp、21sp…間形成的多個凹部22sp、22sp…構(gòu)成,在磁盤10的旋轉(zhuǎn)方向(該圖所示的箭頭R的方向)上凸部21sp與凹部22sp交替并列形成。此外,凸部21sp由具有作為本發(fā)明的非伺服用凸部的一個例子的凸部31sp、31sp…與凹部32sp、32sp…的凹凸圖案(B凹凸圖案形成平坦面用的凹凸圖案)構(gòu)成(是與伺服用凸部的形成間距不同,而且由以比伺服用凸部的形成間距小的形成間距形成非伺服用凸部的B凹凸圖案構(gòu)成伺服用凸部的狀態(tài)的一個例子)。
在這種情況下,凸部21sp的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L4a規(guī)定為與已有的磁盤10x的前序圖案用凸部21sx的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L4x(參照圖5)相等。此外,凸部31sp的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L4b比凸部21sp的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L4a短得多。還有,在該圖中,為了使本發(fā)明容易理解,圖示了以3個凸部31sp與2個凹部32sp構(gòu)成的1個凸部21sp的例子,但是也還可以以更多的以凸部31sp與凹部32sp構(gòu)成1個凸部21sp。
在地址圖案區(qū)域Asa上,如圖4所示,形成具有多個凸部21sa、21sa…及凹部22sa、22sa…的凹凸圖案20sa。猝發(fā)圖案區(qū)域Asb形成作為本發(fā)明的A凹凸圖案的一個例子的凹凸圖案20sb。具體地說,如圖5所示,凹凸圖案20sb由凸部21sb(本發(fā)明的伺服用凸部的一個例子)與凹部22sb在磁盤10的旋轉(zhuǎn)方向(該圖的箭頭R所示的方向)上交替并排地形成的部位、以及作為本發(fā)明伺服用凸部的一個例子,形成與如圖14所示的已有的磁盤10x中的猝發(fā)圖案用的凸部21x具有相同功能的多個凸部21ax、21ax…(圖4、圖5中以虛線包圍的部分)的部位構(gòu)成。此外,該磁盤10中,利用作為本發(fā)明的非伺服用凸部的一個例子的凸部31sb、31sb…與凹部32sb、32sb…在磁盤10的旋轉(zhuǎn)方向上交替并排地形成的凹凸圖案構(gòu)成本發(fā)明的B凹凸圖案,利用該B凹凸圖案構(gòu)成一個凸部21ax。
在這種情況下,凸部31sb的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L1b被規(guī)定為比凸部21sb的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L1a短(該例中為1/3長度)。同樣,凹部32sb的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L2b被規(guī)定為沿比凹部22sb的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L2a短(該例中為2/3長度)。此外,在該磁盤10中,作為一例子,規(guī)定為凸部21sb的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L1a與凹部22sb的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L2a相等。從而,作為凸部31sb的長度L1b與凹部32sb的長度L2b的合計(jì)長度(即凸部31sb的形成間距)的L3b被規(guī)定為比凸部21sb的長度L1a與凹部22sb的長度L2a的合計(jì)長度(即凸部21sb的形成間距)、即L3a短得多(該例中為1/2長度)(是「以不同于各伺服用凸部的形成間距的形成間距形成各非伺服用凸部的狀態(tài)」的一個例子,也是「以比各伺服用凸部的形成間距小的形成間距形成各非伺服用凸部的狀態(tài)」的一個例子)。
此外,在本說明書中參考的各圖中,示意性圖示了伺服圖案中的前序圖案、地址圖案及猝發(fā)圖案等,為了更容易理解,只以伺服圖案的單位凸部長度和單位凹部長度圖示旋轉(zhuǎn)方向上的各凸部21s(凸部21sp、21sa、21sb)與各凹部22s(凹部22sp、22sa、22sb)的長度。因此,在實(shí)際磁盤10中,凸部21s、21s…和凹部22s、22s…的數(shù)量、形成位置及長度與各圖所示的狀態(tài)不同,對應(yīng)于包含進(jìn)行循跡伺服控制所需要的磁道地址及扇區(qū)地址等信息(圖案)的各種控制用數(shù)據(jù),規(guī)定凸部21s與凹部22s的各自的數(shù)量、形成位置及長度,形成凹凸圖案20s。在這種情況下,凸部21s與凹部22s的實(shí)際長度為凸部21s與凹部22s的長度(單位凸部長度與單位凹部長度)的整數(shù)倍長度。此外,凸部21ax也是本發(fā)明的伺服用凸部的一個例子,該凸部21ax的旋轉(zhuǎn)方向上的長度與上述凸部21s不同,不限于單位凸部長度的整數(shù)倍長度。在這種情況下,凸部21ax的旋轉(zhuǎn)方向上的長度為單位凸部長度與單位凹部長度的合計(jì)長度(即伺服用凸部的形成間距)的整數(shù)倍長度。此外,在這種信息記錄媒體中,在記錄數(shù)據(jù)錄放時(shí)利用錄放裝置在角速度一定的條件下旋轉(zhuǎn),因此每單位時(shí)間內(nèi)信息記錄媒體通過磁頭的下方的距離,與信息記錄媒體的內(nèi)周側(cè)相比,外周側(cè)更長。從而,在該磁盤10中,各凸部21s的長度(單位凸部長度)、各凹部22s的長度(單位凹部長度)及各凸部21ax的長度,例如規(guī)定為越是從磁盤10的中心(凹凸圖案20t的中心)向外周側(cè)偏離,越是與離中心的距離成比例變長。
另一方面,主軸電動機(jī)2在控制部9的控制下將磁盤10作為一個例子以4200rpm的轉(zhuǎn)速勻速旋轉(zhuǎn)。磁頭3如圖1所示,通過搖臂3a安裝于致動器3b,在對磁盤10的記錄數(shù)據(jù)進(jìn)行錄放時(shí)在磁盤10上移動。此外,磁頭3進(jìn)行從磁盤10的伺服圖案區(qū)域As讀出伺服數(shù)據(jù)、對磁道圖案區(qū)域At(凸部21t、21t…)以磁學(xué)方式進(jìn)行寫入、以及以磁學(xué)方式寫入磁道圖案區(qū)域At的記錄數(shù)據(jù)的讀出。此外,實(shí)際上磁頭3相對于磁盤10形成于使磁頭3上浮用的滑塊的底面(空氣軸承面)上,但對該滑塊的說明與圖示省略。致動器3b在控制部9的控制下利用由驅(qū)動器8供給的驅(qū)動電流使搖臂3a旋轉(zhuǎn),通過這樣使磁頭向磁盤10的任意錄放位置移動。信號變換部4具備放大器、LPF(低通濾波器)及A/D變換器等(未圖示),將利用磁頭3從磁盤10取得的各種信號放大并除去噪音后進(jìn)行A/D變換再輸出。
信號提取部5由例如DSP(Digital Signal Processor;數(shù)字信號處理裝置)構(gòu)成,利用例如DFT(Discrete Fourier Transform離散傅利葉變換)從信號變換部4輸出的信號中除去對應(yīng)所述B凹凸圖案的信號成分或使其衰減,同時(shí)提取對應(yīng)于A凹凸圖案的信號成分,輸出到檢測用時(shí)鐘脈沖輸出部6和伺服數(shù)據(jù)檢測部7。此外,也可以通過將B凹凸圖案的形成間距規(guī)定得較小,使配設(shè)于上述信號變換部4的LPF作為信號提取部5發(fā)揮作用。檢測用時(shí)鐘脈沖輸出部6從信號提取部5提取的信號中,通過磁頭3取得(檢測出)從前序圖案區(qū)域Asp讀出的前序用的數(shù)據(jù)(對應(yīng)于作為凸部21sp及凹部22sp的形成圖案、即前序圖案的信號)。此外,檢測用時(shí)鐘脈沖輸出部6根據(jù)取得的數(shù)據(jù),生成(檢測出)在伺服數(shù)據(jù)檢測時(shí)作為基準(zhǔn)時(shí)鐘脈沖使用的檢測用時(shí)鐘脈沖Cls,并輸出到伺服數(shù)據(jù)檢測部7。伺服數(shù)據(jù)檢測部7利用與從檢測用時(shí)鐘脈沖輸出部6輸出的檢測用時(shí)鐘脈沖Cla同步讀入,從信號提取部5提取的信號取得(檢測出)伺服數(shù)據(jù)Ds,輸出到控制部9。驅(qū)動器8按照來自控制部9來的控制信號控制致動器3b,使磁頭3君臨所期望的記錄磁道(凸部21t)上。控制部9對硬盤驅(qū)動器1進(jìn)行總控制。此外,控制部9根據(jù)從伺服數(shù)據(jù)檢測部7輸出的伺服數(shù)據(jù)Ds控制驅(qū)動器8。
以下對磁盤10的制造方法、以及搭載磁盤10的硬盤驅(qū)動器1的使用方法進(jìn)行說明。
首先,在利用玻璃基體10上濺射CoZrNb合金的方法形成軟磁層12后,通過在軟磁層12上濺射中間層形成用材料形成中間層13。接著,利用在中間層13上濺射CoCrPt合金的方法形成厚度15nm左右的磁性層14。借助于此,完成制造磁盤10用的中間體。而后,在中間體的磁性層14上,利用例如濺射法形成厚度12nm左右的C(碳素)掩模層,同時(shí)在C掩模層上利用濺射法形成4nm左右的Si掩模層,而后在Si掩模層上旋轉(zhuǎn)涂布正型電子束抗蝕涂層,形成厚度130nm左右的掩模形成用功能層。再使用電子束繪制裝置將電子束照射于掩模形成用功能層上,繪制與凹凸圖案20s和凹凸圖案20t相同平面形狀的曝光圖案。而后,通過對完成曝光圖案繪制的掩模形成用功能層進(jìn)行顯像處理,在Si掩模層上形成抗蝕涂層圖案(凹凸圖案)。
接著,將上述抗蝕涂層圖案作為掩模使用,進(jìn)行利用氬氣(Ar)的離子束蝕刻處理,借助于此在Si掩模層上形成凹凸圖案(Si掩模圖案)。而后,將Si掩模圖案作為掩模使用,進(jìn)行以氧氣作為反應(yīng)氣體的反應(yīng)性離子蝕刻處理,以此在C掩模層上形成凹凸圖案(C掩模圖案)。接下來,將上述C掩模圖案作為掩模使用,進(jìn)行使用氬(Ar)氣的離子束蝕刻。因而,在磁性層14上用掩模圖案覆蓋的部位成為凸部21、21…,從掩模圖案露出的部位成為凹部22、22…,在中間層13上形成凹部圖案20(凹凸圖案20s、20t)。接著,對殘存于凸部21、21…上的C掩模層(C掩模圖案)進(jìn)行以氧氣為反應(yīng)氣體的反應(yīng)性離子蝕刻處理,以此使凸部21、21…的上表面露出(除去殘存的C掩模層)。
接著,一邊將例如150W左右的偏置功率施加于中間體,一邊將氬氣(Ar)的壓力設(shè)定為例如0.3Pa濺射作為非磁性材料15的SiO2。這時(shí),利用非磁性材料15將凹部22、22…完全地埋入,而且,充分濺射非磁性材料15,在凸部21、21…的上表面形成例如厚度60nm左右的非磁性材料層15。這種情況下,在對中間體層施加偏置功率的狀態(tài)下濺射非磁性材料15,借助于此,形成非磁性材料層15,并且使表面沒有大的凹凸。而后,將氬氣(Ar)設(shè)定為例如0.04Pa的壓力,同時(shí),在將對中間體的表面入射的離子束的入射角度設(shè)為2度的狀態(tài)下,對磁性層14上(凸部21、21…上面,凹部22、22…的上面及凹部22、22的內(nèi)部)的非磁性材料層15進(jìn)行離子束蝕刻處理。這時(shí),繼續(xù)進(jìn)行離子束蝕刻處理,直到中間體的各凸部21s(凸部21sp、21sa、21sb)的上表面從非磁性材料15露出為止。
在這種情況下,如圖5所示,該磁盤10(中間體)上,在例如猝發(fā)圖案利用Asb的已有的磁盤10x中,形成凸部21x的部位上,以比構(gòu)成猝發(fā)圖案的凸部21sb、21sb…的形成間距小的間距形成由凸部31sb、31sb…及凹部32sb、32sb…構(gòu)成的凹凸圖案(B凹凸圖案),利用該B凹凸圖案形成與已有的凸部21x具有相同功能的凸部21ax。從而,如圖6所示,繼續(xù)進(jìn)行離子束蝕刻處理,直到凸部21sb、21sb…的上表面從非磁性體材料15露出為止,如圖27所示,以此也除去旋轉(zhuǎn)方向上的長度比凸部21sb更短的凸部31sb上的非磁性材料15,使凸部31sb的上表面露出,結(jié)果是露出凸部21ax的整個上表面區(qū)域。還有,圖6、7表示保護(hù)層16的形成結(jié)束的完成狀態(tài)的磁盤10。因而,在完成離子束蝕刻處理的時(shí)刻,不存在該圖所示的保護(hù)層16。以此結(jié)束對非磁性材料層15的離子束蝕刻處理,使中間體的表面平坦化。接著,利用CVD法形成類金剛石(DLC)碳膜覆蓋中間體的表面,形成保護(hù)層16后,在保護(hù)層16的表面涂布フォンブリン系潤滑劑,使其平均厚度為例如2nm左右。如圖2所示,以此完成磁盤10的制作。此后,通過將完成的磁盤10安裝于主軸電動機(jī)2,制造硬盤驅(qū)動器1。
在該磁盤10中,如圖5所示,在已有磁盤10x上形成長度L1x的凸部21x的部位上,以與根據(jù)伺服信息(猝發(fā)圖案)形成的凸部21sb、21sb…的形成間距不同的形成間距(在本例中,相對于凸部21sb、21sb…的形成間距為1/2的形成間距)形成多個凸部31sb、31sb…(B凹凸圖案),構(gòu)成凸部21ax。因而,在猝發(fā)圖案區(qū)域Asb內(nèi)不存在擔(dān)心對非磁性材料15的蝕刻進(jìn)行得緩慢的長的凸部21(上表面寬的凸部21),因此在猝發(fā)圖案區(qū)域Asb內(nèi)的整個區(qū)域中,制造磁盤10時(shí)的非磁性材料15的蝕刻速度幾乎相等。
在這種情況下,即使是以相對于凸部21sb、21sb…的形成間距未滿1/10的形成間距來形成凸部31sb、31sb…(B凹凸圖案),由于掩膜形成時(shí)的圖案倒塌,細(xì)小圖案的形成有困難,因此擔(dān)心會導(dǎo)致凸部31sb、31sb…的欠缺。此外,在以與凸部21sb、21sb…相等的形成間距形成凸部31sb、31sb…(B凹凸圖案)的情況下,對應(yīng)于凸部31sb、31sb…(B凹凸圖案)的信號成分的去除或衰減變得困難。因而,最好是以凸部21sb、21sb…的形成間距的1/10以下范圍的形成間距形成凸部31sb、31sb。
此外,由于以比凸部21sb、21sb…的形成間距更小的形成間距形成凸部31sb、31sb…,凸部31sb的長度L1b比凸部21sb的長度L1a短得多,同時(shí)凹部32s的長度L2b比凹部22sb的長度L2a短得多。因而,以能夠除去凸部21sb、21sb…上的殘?jiān)奈g刻條件對猝發(fā)圖案區(qū)域Asb的整個區(qū)域進(jìn)行蝕刻時(shí),能夠避免在凸部31sb、31sb…上殘留厚殘?jiān)?。而且如圖8所示,在該磁盤10中,構(gòu)成前序圖案的凸部21sp、21sp…以由多個凸部31sp、31sp…與凹部32sp、32sp…構(gòu)成的凹凸圖案構(gòu)成。在這種情況下,由于凸部31sp的長度L4b比凸部21sp的長度L4a短得多,因此能夠避免在對非磁性材料15進(jìn)行蝕刻處理時(shí)在凸部31sp上殘留厚殘?jiān)氖聭B(tài)發(fā)生。
另一方面,在利用這種磁盤驅(qū)動器1錄放記錄數(shù)據(jù)時(shí),控制部9控制主軸電動機(jī)2,使磁盤10以例如4200rpm的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)。接著,在控制部9的控制下驅(qū)動器8控制致動器3b使磁頭3在磁盤10上移動。這時(shí),利用磁頭3從伺服圖案區(qū)域As取得的信號在通過信號變換部4進(jìn)行A/D變換后被輸出到信號提取部5。此外,信號提取部5將對應(yīng)于從信號變換部4輸出的信號中的B凹凸圖案(由前序圖案區(qū)域Asp中的凸部31sp和凹部32sp構(gòu)成的凹凸圖案、以及由猝發(fā)圖案區(qū)域Asb中的凸部31sb與凹部32sb構(gòu)成的凹凸圖案等)的信號成分除去或使其衰減,一邊將對應(yīng)于A凹凸圖案(由前序圖案區(qū)域Asp中的凸部21sp和凹部22sp構(gòu)成的凹凸圖案、以及由猝發(fā)圖案區(qū)域Asb中的凸部21sb和凹部22sb構(gòu)成的凹凸圖案等)的信號成分提取出后輸出到檢測用時(shí)鐘脈沖輸出部6與伺服數(shù)據(jù)檢測部7。
這時(shí),檢測用時(shí)鐘脈沖輸出部6,根據(jù)信號提取部5提取出的信號中對應(yīng)于由凸部21sp和凹部22sp構(gòu)成的凹凸圖案(前序圖案)的信號,生成作為基準(zhǔn)時(shí)鐘脈沖使用的檢測用時(shí)鐘脈沖Cls輸出到伺服數(shù)據(jù)檢測部7。另一方面,伺服數(shù)據(jù)檢測部7利用與從檢測用時(shí)鐘脈沖輸出部6輸出的檢測用時(shí)鐘脈沖Cls同步讀入,從信號提取部5提取的信號中取得伺服數(shù)據(jù)Ds,并輸出到控制部9。還有,控制部9通過隨著從伺服數(shù)據(jù)檢測部7輸出的伺服數(shù)據(jù)Ds,控制驅(qū)動器8,以使磁頭3在所期望的記錄磁道上。此后,在控制部9的控制下進(jìn)行對記錄磁道(凸部21t、21t…)的記錄數(shù)據(jù)的記錄,或從記錄磁道讀出(重放)記錄數(shù)據(jù)。
這樣,如果采用裝置磁盤10和硬盤驅(qū)動器1,在以具有多個凸部31sp、31sp…(非伺服用凸部)的凹凸圖案(B凹凸圖案)構(gòu)成前序圖案區(qū)域Asp內(nèi)的凸部21sp(伺服用凸部)的同時(shí),以具有多個凸部31sb、31sb…(非伺服用凸部)的凹凸圖案(B凹凸圖案)構(gòu)成猝發(fā)圖案區(qū)域Asb內(nèi)的凸部21ax(伺服用凸部),借助于此,可以以旋轉(zhuǎn)方向上的長度比已有的磁盤10中的伺服用凸部的對應(yīng)的長度更短的非伺服用凸部構(gòu)成伺服用凸部(凸部21sp、21ax)。從而,通過對覆蓋構(gòu)成前序圖案的凹凸圖案20sp和構(gòu)成猝發(fā)圖案的凹凸圖案20sb形成的非磁性材料層15在能夠使凸部21sb等的上表面露出的蝕刻條件下進(jìn)行蝕刻處理,也可以使凸部31sp與凸部31sb的上表面同樣露出。借助于此,能夠避免在已有的磁盤10上形成凸部21x的部位與形成沿旋轉(zhuǎn)方向的長度比較長的前序圖案用的凸部21sx的部位上產(chǎn)生厚殘?jiān)虼丝梢院芎玫鼐S持前序圖案區(qū)域Asp與猝發(fā)圖案區(qū)域Asb內(nèi)(伺服圖案區(qū)域As)的表面平滑性。從而能夠使磁頭3在伺服圖案區(qū)域As中維持適當(dāng)?shù)纳细×?,維持于這樣的狀態(tài)的結(jié)果是,如果采用搭載這種磁盤10的硬盤驅(qū)動器1,就能夠穩(wěn)定地進(jìn)行對磁盤10的錄放。
此外,在磁盤10與硬盤驅(qū)動器1中,形成本發(fā)明的B凹凸圖案并且使凸部31sp、31sp…的旋轉(zhuǎn)方向上的形成間距與凸部21sp、21sp…的旋轉(zhuǎn)方向上的形成間距不同,構(gòu)成凹凸圖案20sp,形成本發(fā)明的B凹凸圖案,使凸部31sb、31sb…的旋轉(zhuǎn)方向上的形成間距與凸部21sb、21sb…的旋轉(zhuǎn)方向上的形成間距不相同,構(gòu)成凹凸圖案20sb。因而,如果采用這種磁盤10和硬盤驅(qū)動器1,則在從磁盤10讀取伺服數(shù)據(jù)時(shí),可以使對應(yīng)由凸部21sp和凹部22sp構(gòu)成的凹凸圖案(A凹凸圖案)的信號的頻率(凸部21sp通過磁頭下方的周期)與對應(yīng)由凸部31sp和凹部32sp構(gòu)成的圖案(B凹凸圖案)的信號的頻率(凸部31sp通過磁頭下方的周期)不同,同時(shí)也可以使對應(yīng)由凸部21sb和凹部22sb構(gòu)成的凹凸圖案(A凹凸圖案)的信號的頻率(凸部21sb通過磁頭下方的周期)與對應(yīng)由凸部31sb和凹部32sb構(gòu)成的凹凸圖案(B凹凸圖案)的信號的頻率(凸部31sb通過磁頭下方的周期)不同。因此,如果采用搭載這種磁盤10的硬盤驅(qū)動器1,則能夠從通過磁頭3取得的信號中將對應(yīng)本發(fā)明的B凹凸圖案的信號成分除去或使其衰減,并提取對應(yīng)本發(fā)明的A凹凸圖案的信號成分,所以能夠不受B凹凸圖案(凸部31sp,31sb或凹部32sp、32sb)存在的影響地取得伺服數(shù)據(jù),進(jìn)行伺服控制。
還有,如果采用這種磁盤10與硬盤驅(qū)動器1,在以比各凸部21sp、21sp…的形成間距小的形成間距形成各凸部31sp、31sp…,構(gòu)成B凹凸圖案的同時(shí),以比各凸部21sb、21sb…的形成間距小的形成間距形成各凸部31sb、31sb…,構(gòu)成凹凸圖案(沿基體的旋轉(zhuǎn)方向的長度為伺服用凸部對應(yīng)的長度以下那樣形成非伺服用凸部的例子),這樣可以使凸部31sp的長度L4b比凸部21sp的長度L4a短很多,同時(shí)使凸部31sb的長度L1b比凸部21sb的長度L1a短很多。因而,在能夠除去凸部21sb、21sb…上的殘?jiān)奈g刻條件下對猝發(fā)圖案區(qū)域Asb的整個區(qū)域進(jìn)行蝕刻的時(shí)候能夠切實(shí)避免在凸部31sb、31sb…上留有厚殘?jiān)氖聭B(tài)發(fā)生,其結(jié)果是,能夠更好地維持磁盤10的猝發(fā)圖案區(qū)域Asb內(nèi)的表面平滑性。同樣,也可以在前序圖案區(qū)域Asp內(nèi)切實(shí)避免殘留厚的殘?jiān)氖聭B(tài)發(fā)生,更好地維持其表面平滑性。此外,由于對應(yīng)于本發(fā)明的B凹凸圖案的信號成分的頻率比對應(yīng)于本發(fā)明的A凹凸圖案的信號成分的頻率更高,因此使用搭載于這種錄放裝置的一般的噪音濾波器也可以除去對應(yīng)于B凹凸圖案的信號成分或使其衰減。
此外,在該硬盤驅(qū)動器1中,具備磁盤10、以及從通過磁頭3取得的信號中將對應(yīng)于本發(fā)明的B凹凸圖案的信號成分除去或使其衰減并提取對應(yīng)于本發(fā)明的A凹凸圖案的信號成分的信號提取部5,控制部9根據(jù)以提取的信號成分為依據(jù)的伺服數(shù)據(jù)進(jìn)行伺服控制。從而,如果采用這種硬盤驅(qū)動器1,就不會影響為使表面平滑性良好而形成的凸部31sb、31sb…31sp、31sp…,能夠從前序圖案區(qū)域Asp讀出前序數(shù)據(jù),并且從猝發(fā)圖案區(qū)域Asb讀出猝發(fā)數(shù)據(jù),進(jìn)行正確的循跡伺服。
此外,本發(fā)明不限于上述構(gòu)成。例如,在上述磁盤10中,在猝發(fā)圖案區(qū)域Asb內(nèi)以比凸部21sb、21sb…的形成間距小的形成間距形成凸部31sb、31sb…,但也可以如圖9所示的磁盤10a那樣,在形成已有的磁盤10x的猝發(fā)圖案用的凸部21x的部位上,以比凸部21sb、21sb…的形成間距大的形成間距形成凸部41sb、41sb…(本發(fā)明的非伺服用凸部的一個例子),構(gòu)成本發(fā)明的B凹凸圖案,以這種B凹凸圖案構(gòu)成凸部21bx(作為本發(fā)明的伺服用凸部的另一例子,具有與已有的磁盤10x的凸部21x相同功能的凸部圖9中以虛線圍繞的部位)。具體地說,在磁盤10的猝發(fā)圖案區(qū)域Asba上,以由凸部21sb和凹部22sb構(gòu)成的凹凸圖案與以由凸部41sb和凹部42sb構(gòu)成的B凹凸圖案構(gòu)成的凸部21bx、21bx…,構(gòu)成與本發(fā)明的A凹凸圖案相當(dāng)?shù)陌纪箞D案20sba。
在這種情況下,凸部41sb的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L1c被規(guī)定為比凸部21sb的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L1a長的長度。同樣,凹部42sb的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L2c被規(guī)定為比凹部22sb的旋轉(zhuǎn)方向上的長度L2a長,而且比已有的磁盤10x上的凸部21x的長度L1x短得多的長度。因此,作為凸部41sb的長度L1c和凹部42sb的長度L2c的合計(jì)長度(即凸部41sb的形成間距)的L3c,比作為凸部21sb的長度L1a和凹部22sb的長度L2a的合計(jì)長度(即凸部21sb的形成間距)的L3a長(「以與各伺服用凸部的形成間距不同的形成間距形成各非伺服用凸部的狀態(tài)」的一個例子)。從而,在從猝發(fā)圖案區(qū)域Asba讀取猝發(fā)數(shù)據(jù)時(shí),利用信號提取部5除去對應(yīng)于凸部41sb、41sb…的信號成分,與所述的磁盤10一樣,可以根據(jù)以對應(yīng)于凸部21sb、21sb…的信號成分為依據(jù)的猝發(fā)數(shù)據(jù)進(jìn)行循跡控制。
如果采用這種磁盤10a與硬盤驅(qū)動器1,可以通過在猝發(fā)圖案區(qū)域Asba形成具有多個凸部21sb、21sb…,構(gòu)成猝發(fā)圖案的A凹凸圖案和以比各凸部21sb、21sb…的形成間距大的形成間距形成的凸部41sb、41sb…的B凹凸圖案,在已有的磁盤10x的形成凸部21x的部位上,取代凸部21x,形成比凸部21x的長度L1x短得多的長度L1c的多個凸部41sb、41sb,構(gòu)成凸部21bx。從而,以能夠使凸部21sb、21sb…的上表面露出的蝕刻條件對非磁性材料層15進(jìn)行蝕刻處理,如圖10所示,也可以使凸部41sb、41sb的上表面同樣地露出。借助于此,可以避免已有的磁盤10x中在形成凸部21x的部位上產(chǎn)生厚殘?jiān)氖聭B(tài)發(fā)生,因此能夠很好地維持猝發(fā)圖案區(qū)域Asba內(nèi)的表面平滑性。因而可以使猝發(fā)圖案區(qū)域Asba內(nèi)的磁頭3的上浮量維持于適當(dāng)?shù)臓顟B(tài),其結(jié)果是,如果采用搭載這種磁盤10a的硬盤驅(qū)動器1,能夠穩(wěn)定進(jìn)行錄放。
此外,在所述的磁盤10中,可以使凸部31sb和凹部32sb沿磁盤10的旋轉(zhuǎn)方向并排構(gòu)成本發(fā)明的B凹凸圖案,但是也可以例如,如圖11所示的磁盤10b那樣,使相當(dāng)于本發(fā)明的非伺服用凸部的凸部51sb與形成于凸部51sb、51sb間的凹部52sb沿磁盤10b的半徑方向(該圖的上下方向)并排構(gòu)成本發(fā)明的B凹凸圖案,以該B凹凸圖案構(gòu)成凸部21cx(作為本發(fā)明的伺服用凸部的又一例子,具有與已有的磁盤10x的凸部21x相同的功能的凸部圖11中以虛線圍繞的部位)。在這種情況下,凸部51sb的半徑方向上的長度L5b比凸部21sb的半徑方向上的長度L5a和已有的磁盤10x的凸部21x的半徑方向上的長度L5x(參照圖14)短得多。因而,以能夠使凸部21sb、21sb…的上表面露出的蝕刻條件對非磁性材料層15進(jìn)行蝕刻,能夠使凸部51sb、51sb的上表面露出。這樣,如果采用這種磁盤10b與硬盤驅(qū)動器1,能夠避免已有的磁盤10x中形成凸部21x的部位上產(chǎn)生厚度殘?jiān)氖聭B(tài)發(fā)生,因此可以很好地維持磁盤10b的猝發(fā)圖案區(qū)域Asbb內(nèi)(凹凸圖案20sbb)的表面平滑性。因而,可以使猝發(fā)圖案區(qū)域Asbb內(nèi)的磁頭3的上浮量維持于適當(dāng)?shù)臓顟B(tài),其結(jié)果是,如果采用搭載這種磁盤10b的硬盤驅(qū)動器1,能夠進(jìn)行穩(wěn)定的錄放。
還有,前序圖案區(qū)域Asa內(nèi)的凸部21sa也可以用具有多個非伺服用凸部的凹凸圖案(本發(fā)明的B凹凸圖案)構(gòu)成。此外,本發(fā)明的伺服圖案不限于上述例子,也可以在使磁盤10的伺服圖案區(qū)域As的凹凸圖案20s的凹凸形狀反轉(zhuǎn),同時(shí)規(guī)定各凸部的長度以滿足本發(fā)明的各種條件來形成伺服圖案。此外,在上述磁盤10中,以磁性材料形成凹凸圖案20的各凸部21、21…,但并不限于本發(fā)明,如圖12所示的磁盤10c那樣,覆蓋形成于基體11c的凹凸圖案形成磁性層14c,利用以磁性層14形成其表面的凸部21c、21c…和以磁性層14c形成底面的凹部22c、22c…,能夠構(gòu)成凹凸圖案20c。還有,如圖13所示的磁盤10d那樣,也能夠使構(gòu)成各凸部21d、21d…的磁性層14d與構(gòu)成各凸部21d、21d…間的凹部22d、22d的底面的磁性層14相連構(gòu)成凹凸圖案20d。對于這些磁盤10c、10d,也可以用具有以不同于各伺服用凸部的形成間距的形成間距形成的多個非伺服用凸部的B凹凸圖案形成伺服用凸部,以此能夠明顯地提高伺服圖案區(qū)域內(nèi)的表面平滑性。
此外,在上述硬盤驅(qū)動器1中,采用利用以DSP構(gòu)成的信號提取部5除去對應(yīng)于B凹凸圖案的信號成分或使其衰減,同時(shí)提取對應(yīng)于A凹凸圖案的信號成分的結(jié)構(gòu),但本發(fā)明不限于此,也可以采用使用LPF、HPF(高通濾波器)與BPF(帶通濾波器)等各種濾波器除去對應(yīng)于B凹凸圖案的信號成分或使其衰減,同時(shí)提取對應(yīng)于A凹凸圖案的信號成分的結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種信息記錄媒體,其特征在于,利用具有多個凸部的凹凸圖案,在基體的至少一側(cè)的面上形成數(shù)據(jù)道圖案和伺服圖案,同時(shí)在該凹凸圖案的各凹部埋入非磁性材料,構(gòu)成所述伺服圖案的A凹凸圖案具備對應(yīng)伺服數(shù)據(jù)形成的多個伺服用凸部,在該多個伺服用凸部中的至少一部分伺服用凸部以具有多個非伺服用凸部的B凹凸圖案構(gòu)成。
2.如權(quán)利要求1所述的信息記錄媒體,其特征在于,形成所述B凹凸圖案形,使得沿著所述基體的旋轉(zhuǎn)方向的所述各非伺服用凸部的形成間距與沿該旋轉(zhuǎn)方向的所述各伺服用凸部的形成間距不同。
3.如權(quán)利要求2所述的信息記錄媒體,其特征在于,形成所述B凹凸圖案形,使得沿著所述旋轉(zhuǎn)方向的所述各非伺服用凸部的形成間距、比沿該旋轉(zhuǎn)方向的所述各伺服用凸部的形成間距小。
4.如權(quán)利要求1所述的信息記錄媒體,其特征在于,形成所述非伺服用凸部,使得沿旋轉(zhuǎn)方向的長度與沿所述基體的半徑方向的長度中的至少一個長度在所述伺服用凸部對應(yīng)的長度以下。
5.如權(quán)利要求2所述的信息記錄媒體,其特征在于,形成所述非伺服用凸部,使得沿旋轉(zhuǎn)方向的長度與沿所述基體的半徑方向的長度中的至少一個長度在所述伺服用凸部對應(yīng)的長度以下。
6.如權(quán)利要求3所述的信息記錄媒體,其特征在于,形成所述非伺服用凸部,使得沿旋轉(zhuǎn)方向形成的長度與沿所述基體的半徑方向的長度中的至少一個長度在所述伺服用凸部對應(yīng)的長度以下。
7.一種錄放裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的信息記錄媒體、取得記錄于該信息記錄媒體的信號用的磁頭、一邊從利用該磁頭取得的信號中除去對應(yīng)于所述B凹凸圖案的信號成分或使其衰減,一邊提取對應(yīng)于所述A凹凸圖案的信號成分的信號提取部、以及按照以所述信號提取部提取的信號為依據(jù)的伺服數(shù)據(jù)進(jìn)行伺服控制的控制部。
全文摘要
本發(fā)明提供一種表面平滑性良好的信息記錄媒體。利用具有多個凸部的凹凸圖案,在基體的至少一個側(cè)面上形成數(shù)據(jù)磁道圖案和伺服圖案,同時(shí)在凹凸圖案的各凹部埋入非磁性材料,構(gòu)成伺服圖案(猝發(fā)圖案)的凹凸圖案20sb(A凹凸圖案),具備對應(yīng)伺服數(shù)據(jù)形成的多個凸部21sb、21sb…21ax、21ax…(伺服用凸部),以具有多個凸部31sb、31sb…(非伺服用凸部)的B凹凸圖案構(gòu)成多個伺服用凸部中的至少一部分伺服用凸部(凸部21ax)。
文檔編號G11B5/012GK1770270SQ200510104160
公開日2006年5月10日 申請日期2005年9月16日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月16日
發(fā)明者森谷誠, 田上勝通 申請人:Tdk股份有限公司
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