專利名稱：智慧型跳層方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種智慧型跳層方法，且特別是有關(guān)于一種應(yīng)用于光盤機(jī)的智慧型跳層方法。
背景技術(shù)：
隨著高容量光學(xué)儲(chǔ)存媒體需求量的增加，具雙層反射層以上的多功能光盤(Digital Versatile Disc，以下簡(jiǎn)稱DVD盤片)已日漸扮演重要角色。因此，在讀取DVD盤片時(shí)，如何快速且穩(wěn)定地讀取盤片上的資料以降低資料搜尋時(shí)間(data access time)，乃是各家廠商所致力研究的課題。
光盤機(jī)是由旋轉(zhuǎn)盤片并在盤片的徑向(radial direction)移動(dòng)光學(xué)讀取頭(pick up head)，再利用激光光束掃描光盤片的反射層來存取資料。請(qǐng)參照?qǐng)D1，其顯示傳統(tǒng)具雙層反射層的盤片的剖面示意圖。盤片10具有第一反射層102及第二反射層104，資料即儲(chǔ)存在這兩層反射層中。圖中實(shí)心箭頭106及108為指向遠(yuǎn)離盤片中心的方向，而實(shí)心箭頭110及112為指向盤片中心的方向。激光光束透過物鏡114聚焦至預(yù)定的反射層上，然后反射回光學(xué)讀取頭上的感光裝置(optical detector)上(未示于圖中)。
請(qǐng)參照?qǐng)D2，其顯示光學(xué)讀取頭上的感光裝置的配置示意圖。感光裝置中包括有六個(gè)光二極管，由光二極管202、204、206、208所組成的部分可用來產(chǎn)生聚焦誤差(Focus Error，F(xiàn)E)信號(hào)。聚焦誤差信號(hào)的大小可以FE＝(A+C)-(B+D)表示。另兩個(gè)光二極管210、212則是產(chǎn)生循軌誤差(Tracking Error，TE)信號(hào)的來源，其大小可記為TE＝(F-E)。
請(qǐng)參照?qǐng)D3A及圖3B，圖3A顯示說明激光光束跨軌的情形；圖3B顯示相對(duì)應(yīng)的循軌誤差信號(hào)。當(dāng)激光光束304往上移動(dòng)時(shí)，光二極管210接收到軌道302(track)上的反射光，而光二極管212接收到非軌道上的反射光。因此，當(dāng)光二極管212所接收到的信號(hào)較強(qiáng)，循軌誤差信號(hào)為正值(TE＝F-E＞0)；反之則產(chǎn)生負(fù)值的循軌誤差信號(hào)。若激光光束同時(shí)照射在軌道(或軌道)上，則光二極管210與光二極管212接收到的反射光強(qiáng)度相等，此時(shí)循軌誤差信號(hào)為0。每個(gè)T代表一個(gè)跨軌信號(hào)(tracking crosssignal)的周期，如圖3B中所示。
就目前而言，DVD盤片的資料儲(chǔ)存方式有多種，其中例如雙層盤片就必須有跳層讀取的機(jī)制加以配合。請(qǐng)回至圖1，在此圖中物鏡114正聚焦于反射層102上，而當(dāng)光學(xué)讀取頭要讀取反射層104上的資料時(shí)，會(huì)將物鏡114向上移動(dòng)使聚焦點(diǎn)116落在反射層104上，以讀取反射層104的資料。反之，若光盤機(jī)需要回頭讀取反射層102上的資料，則會(huì)再進(jìn)行一次跳層，使聚焦點(diǎn)116能由反射層104反向移動(dòng)至反射層102上。
然而，不同盤片制造商所制造的不同規(guī)格盤片以及主軸馬達(dá)所造成的偏心量，會(huì)使盤片在旋轉(zhuǎn)過程中上下左右抖動(dòng)及搖晃，尤其是現(xiàn)今光盤機(jī)的轉(zhuǎn)速愈來愈快，因此搖晃的程度只會(huì)變大而不會(huì)變小。而且，愈是盤片外圈，搖晃的程度愈是明顯。公知的跳層方式是直接由一反射層上的原始位置跳層至另一反射層上的目標(biāo)位置，即使目標(biāo)位置是于盤片外圈且正處于劇烈搖晃的狀態(tài)。因此很有可能因?yàn)椴灰拙劢苟鴮?dǎo)致跳層時(shí)聚焦點(diǎn)116落在反射層102與反射層104之間，或是超過反射層104上方而造成聚焦的失敗，此時(shí)光學(xué)讀取頭所偵測(cè)到的聚焦誤差信號(hào)皆為0。在這種狀況下，可能連聚焦補(bǔ)償技術(shù)都于事無補(bǔ)，且由于跳層失敗后，往往無法得知物鏡114的位置，而使得聚焦程序得重頭來過，因而導(dǎo)致再次聚焦需要花費(fèi)較長時(shí)間，降低了資料存取的效率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種智慧型跳層方法，利用先行判斷起始軌道位置(original position)與目標(biāo)軌道位置(target position)的相對(duì)位置，以決定后續(xù)的跳層路徑與步驟。更明確地，跳層發(fā)生的時(shí)點(diǎn)都是在起始軌道位置與目標(biāo)軌道位置兩者中屬盤片上較為內(nèi)圈的位置，以此提升跳層后聚焦的成功機(jī)率，屬于一種智慧型的智慧型跳層方法。
根據(jù)上述目的，本發(fā)明提出一種智慧型跳層方法，應(yīng)用于光盤機(jī)以存取例如是盤片的光學(xué)儲(chǔ)存媒體。此光學(xué)儲(chǔ)存媒體具有至少一第一反射層及一第二反射層。第一反射層具有數(shù)個(gè)第一軌道，第二反射層具有數(shù)個(gè)第二軌道。此智慧型跳層方法包括下列步驟(a)將一光束聚焦于第一反射層上以形成一聚焦點(diǎn)，并得到一起始位置。(b)比較起始位置與位于第二反射層上的目標(biāo)位置的相對(duì)位置，以決定聚焦點(diǎn)的跳層及尋軌路徑。(c)根據(jù)設(shè)定的跳層及尋軌路徑，將聚焦點(diǎn)由起始位置移動(dòng)到目標(biāo)位置。


為讓本發(fā)明上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉一較佳實(shí)施例，并配合附圖，作詳細(xì)說明如下。
圖1顯示傳統(tǒng)具雙層反射層的盤片的剖面示意圖。
圖2顯示光學(xué)讀取頭上的感光裝置的配置示意圖。
圖3A顯示說明激光光束跨軌的情形。
圖3B顯示相對(duì)應(yīng)的循軌誤差信號(hào)。
圖4顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法的流程。
圖5顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第一種跳層流程的示意圖。
圖6顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第二種跳層流程的示意圖。
圖7顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第三種跳層流程的示意圖。
圖8顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第四種跳層流程的示意圖。
圖9顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第五種跳層流程的示意圖。
圖10顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第六種跳層流程的示意圖。
圖11顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第七種跳層流程的示意圖。
圖12顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第八種跳層流程的示意圖。
具體實(shí)施例方式
由于公知技術(shù)的跳層方式在盤片的外圈軌道處于高轉(zhuǎn)速時(shí)容易于跳層后聚焦失敗，因此本發(fā)明的目的即在解決上述的困擾。茲舉一較佳實(shí)施例說明如下。
請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D4至圖6，圖4顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法的流程；圖5顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第一種跳層流程的示意圖；圖6顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第二種跳層流程的示意圖。
本發(fā)明較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法是應(yīng)用于一光盤機(jī)以存取一光學(xué)儲(chǔ)存媒體(optical recoding medium)，例如是盤片10。盤片10具有第一反射層102及第二反射層104。第一反射層102具有相當(dāng)多數(shù)的第一軌道1022，第二反射層104具有對(duì)應(yīng)多數(shù)的第二軌道1042。盤片10較佳是一具雙層反射層的數(shù)字多功能盤片(Digital Versatile Disk，DVD)。
在步驟402中，首先由光學(xué)讀取頭118所射出的激光光束聚焦于第一反射層102上以形成一聚焦點(diǎn)(focal point)116，并得到一起始位置502，如圖5所示。
接著，在步驟404中，光學(xué)讀取頭118接收到指示換層(layer change)的指令(instruction)，此時(shí)，聚焦點(diǎn)116并不會(huì)直接進(jìn)行跳層，而是先比較第一反射層102上的起始位置與第二反射層104上目標(biāo)位置的相對(duì)位置，以決定聚焦點(diǎn)116的跳層及尋軌(seek)路徑為何。其中，起始位置與目標(biāo)位置的相對(duì)位置是依據(jù)區(qū)段編號(hào)(Sector number)的方式判斷。
于步驟406中，光學(xué)讀取頭118根據(jù)決定的跳層及尋軌路徑，將聚焦點(diǎn)116由起始位置移動(dòng)到目標(biāo)位置。在圖5中，當(dāng)比較結(jié)果是目標(biāo)位置504相對(duì)于起始位置502位于盤片10的較內(nèi)圈區(qū)域，亦即較接近中心參考點(diǎn)101，此時(shí)光盤機(jī)切換至開回路(open loop)系統(tǒng)。尋軌伺服系統(tǒng)(seeking servo)驅(qū)動(dòng)光學(xué)讀取頭118往盤片中心的方向110移動(dòng)，使得聚焦點(diǎn)116以跨越部分第一軌道1022的方式移動(dòng)至一預(yù)備跳層位置(beforelaver change position)506，而此預(yù)備跳層位置506相對(duì)于目標(biāo)位置504。在尋軌過程中，尋軌伺服系統(tǒng)(seeking servo)可由跨軌信號(hào)(tracking crosssignal)計(jì)算橫跨的軌道數(shù)。
接著于步驟410，聚焦伺服系統(tǒng)(focusing servo)控制致動(dòng)器120并帶動(dòng)物鏡114往垂直盤片方向122移動(dòng)，使聚焦點(diǎn)116跟著往上移以進(jìn)行跳層。最后，聚焦點(diǎn)116于第二反射層104上鎖軌(hold)并循著(follow)第二軌道1042的一移至目標(biāo)位置504，而完成整個(gè)跳層及聚焦的程序。此時(shí)光盤機(jī)處于閉回路(close loop)系統(tǒng)狀態(tài)，并且光學(xué)讀取頭118由循軌伺服系統(tǒng)(tracking servo)所控制。
相反地，在圖6中，當(dāng)比較的結(jié)果是目標(biāo)位置604相對(duì)于起始位置602是位于盤片10的較外圈區(qū)域，亦即較遠(yuǎn)離中心參考點(diǎn)101，此時(shí)光盤機(jī)切換至開回路(open loop)系統(tǒng)。接著進(jìn)行聚焦跳層的步驟，聚焦伺服系統(tǒng)控制致動(dòng)器120并帶動(dòng)物鏡114往垂直盤片方向122移動(dòng)，使聚焦點(diǎn)116跟著往上移至第二反射層104上的一對(duì)應(yīng)跳層位置(corresponding layerchange position)606，如圖4中的步驟412。
于步驟414中，尋軌伺服系統(tǒng)控制光學(xué)讀取頭118往遠(yuǎn)離盤片中心的方向106移動(dòng)，使得聚焦點(diǎn)116于第二反射層104上以跨越部分第二軌道1042的方式移動(dòng)至目標(biāo)位置604附近并進(jìn)行鎖軌程序。然后，當(dāng)聚焦伺服系統(tǒng)收到聚焦誤差信號(hào)時(shí)，代表已完成鎖軌程序，此時(shí)光盤機(jī)切換至閉回路系統(tǒng)狀態(tài)。最后，聚焦點(diǎn)116于第二反射層104上循著第二軌道1042的一移至目標(biāo)位置604。
依照本發(fā)明較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法的精神，除了上述二種跳層流程以外，其他的跳層流程依序分述如下請(qǐng)參照?qǐng)D7，其顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上第三種跳層流程的示意圖。當(dāng)目標(biāo)位置704比起始位置702更靠近中心參考點(diǎn)101時(shí)，跳層路徑設(shè)定為一依序循軌、跳層及再循軌的路徑。步驟依序?yàn)橐匝壍姆绞綄⒕劢裹c(diǎn)116由起始位置702往中心參考點(diǎn)101的方向移動(dòng)至第二反射層104上的一預(yù)備跳層位置706，其中預(yù)備跳層位置706的位址(address)或時(shí)間點(diǎn)比目標(biāo)位置704更靠近中心參考點(diǎn)101。接著以跳層的方式將聚焦點(diǎn)116由預(yù)備跳層位置移動(dòng)到第一反射層102上的一對(duì)應(yīng)跳層位置708，此對(duì)應(yīng)跳層位置708的位址或時(shí)間點(diǎn)與預(yù)備跳層位置706的位址或時(shí)間點(diǎn)相同。最后，以循軌的方式將聚焦點(diǎn)116由對(duì)應(yīng)跳層位708移動(dòng)到目標(biāo)位置704。
請(qǐng)參照?qǐng)D8，其顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上第四種跳層流程的示意圖。當(dāng)目標(biāo)位置804比起始位置802更靠近中心參考點(diǎn)101時(shí)，跳層路徑設(shè)定為一依序循軌、跳層及再循軌的路徑。步驟依序?yàn)橐匝壍姆绞綄⒕劢裹c(diǎn)116由起始位置802往中心參考點(diǎn)101的方向跨越部分的第二軌道1042，并移動(dòng)至第二反射層104上的預(yù)備跳層位置806，此預(yù)備跳層位置806比目標(biāo)位置804更靠近中心參考點(diǎn)101。接著以跳層的方式將聚焦點(diǎn)116由預(yù)備跳層位置806移動(dòng)到第一軌道1022上的一對(duì)應(yīng)跳層位置808，此對(duì)應(yīng)跳層位置808的位址或時(shí)間點(diǎn)與預(yù)備跳層位置806的位址或時(shí)間點(diǎn)相同。最后，執(zhí)行鎖軌并以循軌的方式將聚焦點(diǎn)116由對(duì)應(yīng)跳層位置808移動(dòng)到目標(biāo)位置804。
請(qǐng)參照?qǐng)D9，其顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第五種跳層流程的示意圖。當(dāng)目標(biāo)位置904與起始位置902距離中心參考101點(diǎn)皆相同時(shí)，且位于盤片10的較內(nèi)圈時(shí)，以跳層的方式直接將聚焦點(diǎn)116由起始位置902移動(dòng)至目標(biāo)位置904。
相對(duì)地，請(qǐng)參照?qǐng)D10，其顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第六種跳層流程的示意圖。當(dāng)目標(biāo)位置908與起始位置906的位址或時(shí)間點(diǎn)相同時(shí)，但卻屬于盤片10的外圈軌道時(shí)，決定出跳層路徑為依序循軌、跳層及再循軌的路徑。例如起始位置所在的第二軌道為第二最外圈軌道914，目標(biāo)位置所在的第一軌道為第一最外圈軌道916。此時(shí)步驟依序?yàn)橐匝壍姆绞綄⒕劢裹c(diǎn)116由起始位置914移動(dòng)至預(yù)備跳層位置910，而此預(yù)備跳層位置910比起始位置914及目標(biāo)位置916更靠近中心參考點(diǎn)101。以跳層方式將聚焦點(diǎn)116由預(yù)備跳層位置910移動(dòng)到一對(duì)應(yīng)跳層位置912。最后，以循軌的方式將聚焦點(diǎn)116由對(duì)應(yīng)跳層位置912移動(dòng)到目標(biāo)位置916。
請(qǐng)參照?qǐng)D11，其顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第七種跳層流程的示意圖。當(dāng)目標(biāo)位置124比起始位置122更遠(yuǎn)離中心參考點(diǎn)101時(shí)，決定出跳層路徑為依序循軌、跳層及再循軌的路徑。步驟依序?yàn)槭紫纫匝壍姆绞綄⒕劢裹c(diǎn)116由起始位置122移動(dòng)至第一反射層102上的一預(yù)備跳層位置126，預(yù)備跳層位置126的位址或時(shí)間點(diǎn)比該起始位置122更接近中心參考點(diǎn)101。接著以跳層方式將聚焦點(diǎn)116由預(yù)備跳層位置126移動(dòng)到第二反射層104上的一對(duì)應(yīng)跳層位置128，且此對(duì)應(yīng)跳層位置128的位址或時(shí)間點(diǎn)與預(yù)備跳層位置126的位址或時(shí)間點(diǎn)相同。最后以循軌的方式將聚焦點(diǎn)116由對(duì)應(yīng)跳層位置128移動(dòng)到目標(biāo)位置124。
請(qǐng)參照?qǐng)D12，其顯示說明依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法于盤片上的第八種跳層流程的示意圖。當(dāng)目標(biāo)位置134比起始位置132更遠(yuǎn)離中心參考點(diǎn)101時(shí)，決定出跳層路徑為依序循軌、跳層及再循軌的路徑。步驟依序?yàn)槭紫纫匝壍姆绞綄⒕劢裹c(diǎn)116由起始位置132移動(dòng)至第一反射層102上的一預(yù)備跳層位置136，而此預(yù)備跳層位置136的位址或時(shí)間點(diǎn)介于起始位置132及目標(biāo)位置134的位址或時(shí)間點(diǎn)之間。接著以跳層方式將聚焦點(diǎn)116由預(yù)備跳層位置136移動(dòng)到第二反射層104上的一對(duì)應(yīng)跳層位置138。最后，完成聚焦并以循軌的方式將聚焦點(diǎn)116由對(duì)應(yīng)跳層位置138移動(dòng)到目標(biāo)位置134。
由上述說明得知，本發(fā)明較佳實(shí)施例的智慧型跳層方法擁有智慧判斷的功能，使得光盤機(jī)在執(zhí)行聚焦跳層的前先行判斷起始位置與目標(biāo)位置的相對(duì)位置，再?zèng)Q定出一個(gè)較佳的跳層路徑。且無論此路徑為何，聚焦點(diǎn)在進(jìn)行跳層時(shí)都是在位于盤片較內(nèi)圈的位置，因此，可以大幅提升跳層后的聚焦成功機(jī)率，而有效克服公知技術(shù)的缺失。如此一來，光盤機(jī)的轉(zhuǎn)速可以再加快，并進(jìn)一步增進(jìn)存取資料的速度，使得整體產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力提升不少。
綜上所述，雖然本發(fā)明已以一較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟習(xí)此技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動(dòng)與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視申請(qǐng)的專利范圍所界定為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種智慧型跳層方法，用于一光盤機(jī)存取一盤片時(shí)，該盤片具有一中心參考點(diǎn)、至少一第一反射層(recoding layer)及一第二反射層，該第一反射層具有復(fù)數(shù)個(gè)第一軌道(track)，該第二反射層具有復(fù)數(shù)個(gè)第二軌道，該方法包括將該光盤機(jī)的一激光光束聚焦于該第一反射層上以形成一聚焦點(diǎn)(focal point)，并得到一起始位置(original position)；比較該起始位置與位于該第二反射層上的一目標(biāo)位置(target position)的相對(duì)位置，以決定該聚焦點(diǎn)的一跳層及尋軌路徑；以及根據(jù)該跳層及尋軌路徑，將該聚焦點(diǎn)由該起始位置移動(dòng)到該目標(biāo)位置。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，其中該方法于將該聚焦點(diǎn)由該起始位置移動(dòng)到該目標(biāo)位置的步驟中還包括當(dāng)該目標(biāo)位置相對(duì)于該起始位置系比較接近該中心參考點(diǎn)時(shí)，先于該第一反射層上以跨越部分該些第一軌道的方式移動(dòng)該聚焦點(diǎn)至一預(yù)備跳層位置(before layer change position)，該預(yù)備跳層位置相對(duì)于該目標(biāo)位置；以及執(zhí)行聚焦跳層，將該聚焦點(diǎn)移動(dòng)至該目標(biāo)位置。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，其中該方法于將該聚焦點(diǎn)由該起始位置移動(dòng)到該目標(biāo)位置的步驟中還包括當(dāng)該目標(biāo)位置相對(duì)于該起始位置比較遠(yuǎn)離該中心參考點(diǎn)時(shí)，先執(zhí)行聚焦跳層，使得該聚焦點(diǎn)由該起始位置移動(dòng)至該第二反射層上的一對(duì)應(yīng)跳層位置(corresponding layer change position)；以及于該第二反射層上以跨越部分該些第二軌道的方式移動(dòng)該聚焦點(diǎn)至該目標(biāo)位置。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，其中該盤片為具雙層反射層的一數(shù)字多功能盤片(Digital Versatile Disk，DVD)。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，其中該起始位置與該目標(biāo)位置的相對(duì)位置是依據(jù)區(qū)段編號(hào)(Sector number)的方式判斷。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，其中該方法于將該聚焦點(diǎn)由該起始位置移動(dòng)到該目標(biāo)位置的步驟中還包括當(dāng)該目標(biāo)位置比該起始位置更接近該中心參考點(diǎn)，先于該第一反射層上以跨越部分該些第一軌道的方式移動(dòng)該聚焦點(diǎn)至一預(yù)備跳層位置，該預(yù)備跳層位置比該目標(biāo)位置更靠近該中心參考點(diǎn)；以跳層方式將聚焦點(diǎn)由該預(yù)備跳層位置移動(dòng)到該第二反射層上的一對(duì)應(yīng)跳層位置，該對(duì)應(yīng)跳層位置比該目標(biāo)位置更靠近該中心參考點(diǎn)；以及于該第二反射層上以跨越部分該些第二軌道的方式將該聚焦點(diǎn)由該對(duì)應(yīng)跳層位置移動(dòng)到該目標(biāo)位置。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，其中該方法于將該聚焦點(diǎn)由該起始位置移動(dòng)到該目標(biāo)位置的步驟中還包括當(dāng)該目標(biāo)位置比該起始位置更接近該中心參考點(diǎn)，先于該第一反射層上往該中心參考點(diǎn)的方向移動(dòng)該聚焦點(diǎn)至一預(yù)備跳層位置，該預(yù)備跳層位置比該目標(biāo)位置更遠(yuǎn)離該中心參考點(diǎn)；以跳層方式將聚焦點(diǎn)由該預(yù)備跳層位置移動(dòng)到該第二反射層上的一對(duì)應(yīng)跳層位置，該對(duì)應(yīng)跳層位置比該目標(biāo)位置更遠(yuǎn)離該中心參考點(diǎn)；以及于該第二反射層上將該聚焦點(diǎn)由該對(duì)應(yīng)跳層位置移動(dòng)到該目標(biāo)位置。
8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，其中該方法于將該聚焦點(diǎn)由該起始位置移動(dòng)到該目標(biāo)位置的步驟中還包括當(dāng)該目標(biāo)位置與該起始位置距離該中心參考點(diǎn)皆相同時(shí)，以跳層的方式將該聚焦點(diǎn)由該起始位置移動(dòng)至該目標(biāo)位置。
9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，其中該方法還包括于該第一反射層上以跨越部分該些第一軌道的方式將該聚焦點(diǎn)由該起始位置移動(dòng)至一預(yù)備跳層位置，該預(yù)備跳層位置比該起始位置更靠近該中心參考點(diǎn)；以跳層方式將該聚焦點(diǎn)由該預(yù)備跳層位置移動(dòng)到該第二反射層上的一對(duì)應(yīng)跳層位置，該對(duì)應(yīng)跳層位置比該目標(biāo)位置更靠近該中心參考點(diǎn)；以及于該第二反射層上以跨越部分該些第二軌道的方式將該聚焦點(diǎn)由該對(duì)應(yīng)跳層位置移動(dòng)到該目標(biāo)位置。
10.一種智慧型跳層方法，用以將一光盤機(jī)的一聚焦點(diǎn)從一盤片的一第一反射層的一起始位置移動(dòng)至該盤片的一第二反射層的一目標(biāo)位置，該第一反射層具有復(fù)數(shù)個(gè)第一軌道，該第二反射層具有復(fù)數(shù)個(gè)第二軌道，該起始位置位于該些第一軌道之一上，該目標(biāo)位置位于該些第二軌道之一上，該方法包括根據(jù)該起始位置及該目標(biāo)位置，決定出一跳層路徑；以及根據(jù)該跳層路徑，將該聚焦點(diǎn)由該起始位置移動(dòng)到該目標(biāo)位置。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，其中該盤片具有一中心參考點(diǎn)，該目標(biāo)位置對(duì)應(yīng)于該些第一軌道上的一預(yù)備跳層位置，該預(yù)備跳層位置及該目標(biāo)位置的位址(address)或時(shí)間點(diǎn)相同，該方法于決定出該跳層路徑的步驟中還包括當(dāng)該目標(biāo)位置比該起始位置更靠近該中心參考點(diǎn)時(shí)，決定出該跳層路徑為一先循軌而后跳層的路徑。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，其中該方法于將該聚焦點(diǎn)由該起始位置移動(dòng)到該目標(biāo)位置的步驟中還包括以循軌的方式將該聚焦點(diǎn)由該起始位置移動(dòng)到該預(yù)備跳層位置；以及以跳層的方式將該聚焦點(diǎn)由該預(yù)備跳層位置移動(dòng)至該目標(biāo)位置。
全文摘要
一種智慧型跳層方法，應(yīng)用于光盤機(jī)讀取一盤片時(shí)。盤片具有中心參考點(diǎn)、至少一第一反射層及一第二反射層。第一反射層具有數(shù)個(gè)第一軌道，第二反射層具有數(shù)個(gè)第二軌道。此方法包括將光盤機(jī)的激光光束聚焦于第一反射層上以形成一聚焦點(diǎn)，并得到一起始位置；比較起始位置與位于第二反射層上目標(biāo)位置的相對(duì)位置，以決定聚焦點(diǎn)的跳層及尋軌路徑；根據(jù)設(shè)定的跳層及尋軌路徑，將聚焦點(diǎn)由起始位置移動(dòng)到目標(biāo)位置。
文檔編號(hào)G11B7/005GK1707634SQ20041004855
公開日2005年12月14日 申請(qǐng)日期2004年6月8日 優(yōu)先權(quán)日2004年6月8日
發(fā)明者許世昌, 賴志名, 黃伯臻, 喬執(zhí)中 申請(qǐng)人:建興電子科技股份有限公司