專利名稱：：光信息記錄媒體及其制造方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及光信息記錄媒體，尤其是一種通過前置凹坑(pre-pit)的形式對廠商名稱或者著作權保護對策用的信息等的媒體(media)信息進行寫入的光信息記錄媒體。
背景技術：
：近年來，具有數(shù)倍光盤(CD-CompactDisc)記錄容量的數(shù)字通用光盤(DVD-DigitalVersatileDisc)作為圖像和聲音等的信息記錄媒體被廣泛使用。另外，可以認為，對于DVD，已經(jīng)將用戶只能進行一次信息記錄的可刻錄數(shù)字通用光盤(DVD-R--DigitalVersatiledisc-Recordable)、及可以改寫信息的DVD-RW(DigitalVersatileDisc-Rewritable)商品化，并且已經(jīng)作為大容量的信息記錄媒體被普及。通常，在DVD-R及DVD-RW中，光盤的廠商信息、及著作權保護對策用信息等的信息(以下稱為媒體信息)都被預先記錄在光盤最內(nèi)周或最外周上。這些媒體信息是在光盤制造工序的最終階段，利用記錄裝置并通過光照等使記錄層改性而被記錄的。對此，有如下記錄方法被公開(例如，參考專利文獻1-日本特開2001-67733號公報的第5-6頁，圖1-3)不將媒體信息記錄到如上所述的記錄層中，而在光盤底板的制造階段，預先通過壓紋凹痕(embosspit)(以下稱為槽內(nèi)凹坑(in-groovepit))的形式記錄在底板的槽溝(groove)中。圖1表示利用該方法制作的光信息記錄媒體的一部分。圖1(a)是光信息記錄媒體的部分放大平面圖，大概地表示了形成了槽內(nèi)凹坑的區(qū)域(以下稱為槽內(nèi)凹坑區(qū)域)。另外，圖1(b)及圖1(c)分別表示沿圖1(a)的A-A線的截面及B-B線的截面圖。如圖1(b)所示，在該光信息記錄媒體中，以形成了凸臺(land)及槽溝的底板101的凸臺表面101a為基準，此時的直到槽溝105的底面(最下面)105a的深度dg”做得更深。由此，在該底板101的圖案(pattern)形成面上形成了記錄層102及反射層103的情況下，在形成了槽內(nèi)凹坑107的部分和沒有形成槽內(nèi)凹坑107的槽溝部分中就會產(chǎn)生所形成的各層表面高度的不同。因此，通過利用該槽內(nèi)凹坑部分和槽溝部分的深度的不同，可以將媒體信息等數(shù)據(jù)記錄到槽溝中。在DVD-R及DVD-RW底板上，在形成于槽溝之間的凸臺上設置凹坑(pit)(以下稱為凸臺前置凹坑(landpre-pit))，并進行光盤的地址信息等的記錄(例如，參考專利文獻2日本特開平09-326138號公報的第1-8頁、圖3、圖15；及專利文獻3日本特開2001-118288號公報的第1-8頁、圖1)。另外，在用于制造具有凹坑的底板的原盤曝光工序中，公知的方法有一種在對與凹坑對應的圖案曝光的期間內(nèi)切換曝光強度的方法(例如，參考專利文獻4-日本特開昭63-153743號公報的第278頁、第280-282頁，圖3)。如圖1所示，在具有槽內(nèi)凹坑的光信息記錄媒體中，槽內(nèi)凹坑與軌道方向(即槽溝方向)的端部比較，軌道方向的中間部分附近(以下簡稱中間部分)的寬度(光盤的半徑方向的長度)形成得較寬。這可以認為是由于在為在原盤上形成與槽內(nèi)凹坑對應的圖案進行曝光時，在圖案的中間部照射激光的累計曝光量增大而產(chǎn)生的。由此，槽內(nèi)凹坑的中間部分的寬度就會大于槽溝的寬度，并且侵蝕相鄰的凸臺的側壁。即，與槽內(nèi)凹坑相鄰的凸臺寬度就會變窄。尤其在與槽內(nèi)凹坑相鄰的凸臺上已形成凸臺前置凹坑的時候，則不能充分確保槽內(nèi)凹坑和凸臺前置凹坑之間的凸臺面的寬度。結果，如圖11(b)所示，會產(chǎn)生以下問題，凸臺前置凹坑的檢測信號的跳動(jitter)增大，孔徑比(apertureratio)(AR)不能滿足規(guī)定的要求值，并且錯誤率(errorrate)增加。
發(fā)明內(nèi)容僅限于本發(fā)明人所知，還沒有為了控制形成比槽溝更深的槽內(nèi)凹坑的形狀，而在原盤曝光中控制槽內(nèi)凹坑形成圖案的曝光強度的例子。因此，本發(fā)明的目的在于提供一種光信息記錄媒體及其制造方法，其在具有形成了槽內(nèi)凹坑的底板的光信息記錄媒體中，可以可靠地檢測來自凹坑的信號并降低再生錯誤率。根據(jù)本發(fā)明的第一方案，提供了一種光信息記錄媒體，其具有形成了多個凸臺及槽溝的圓形底板，并且在該圓型底板上具有記錄層和反射層，該光信息記錄媒體的特征在于，在上述槽溝的底部形成了第一凹坑和、在槽溝方向的長度大于第一凹坑的第二凹坑，第一凹坑中的底板半徑方向的最大寬度用W1表示、第二凹坑中的底板半徑方向的最大寬的用W2表示的時候，1＜W2/W1＜1.2。在本發(fā)明的光信息記錄媒體底板上形成了多個凸臺及槽溝，在一部分的槽溝底部上形成了凹坑(槽內(nèi)凹坑)。該槽內(nèi)凹坑與槽溝方向的長度無關，抑制了底板半徑方向?qū)挾鹊臄U展，與槽內(nèi)凹坑相鄰的凸臺形狀也不會大幅度削減側壁，并且可以維持固定的凸臺及槽溝形狀。尤其在使用并制作了在與槽內(nèi)凹坑相鄰的凸臺上形成了凹坑(凸臺前置凹坑)的底板的光信息記錄媒體中，也可以準確地檢測出凸臺前置凹坑的記錄信號。再有，凸臺前置凹坑的深度也可以與槽溝的深度相同。這里，第一凹坑和第二凹坑是根據(jù)由調(diào)制的數(shù)據(jù)決定的長度單位而決定的任意長度，例如在DVD規(guī)格中采用的EFM調(diào)制中，是具有3T～14T范圍內(nèi)的長度。不具有槽內(nèi)凹坑的槽溝中的相鄰凸臺前置凹坑，因為槽溝和凸臺前置凹坑之間的累計曝光量很少，所以可以形成充分的凸臺面(以下作為凸臺前置凹坑的側壁)。但是，就會產(chǎn)生不具有槽內(nèi)凹坑的槽溝的記錄·再生中的再生錯誤數(shù)增加的結果。從本發(fā)明人進行的槽溝和凸臺前置凹坑的形成條件實驗的結果中可以了解，從槽溝底面開始的凸臺高度dg和與凸臺前置凹坑相鄰的側壁高度dlg如圖12(a)所示，如果不在0.3？dlg/dg？0.7的條件下，則再生錯誤數(shù)就會增加。制作該形狀，必須使在凸臺部使槽溝曝光的激光和、使凸臺前置凹坑曝光的激光的累計曝光量達到某種程度。尤其，根據(jù)在使用并制作了在與槽內(nèi)凹坑相鄰的凸臺上形成了凹坑(凸臺前置凹坑)的底板的信息記錄媒體中，也可以確切檢測凸臺前置凹坑的記錄信號的觀點，本發(fā)明人進行槽內(nèi)凹坑和凸臺前置凹坑的形成條件的試驗，為了從圖12(b)中可以了解該實驗結果，最好將從凹槽底面開始的凸臺前置凹槽側壁的高度設為dlp，為了使從凹槽底面開始的凸臺高度與從凸臺面開始的深度相同而設為dg，并且0.4？dlp/dg＜1。在本發(fā)明中，上述記錄層最好由色素材料形成。另外，上述色素材料最好為氮系的色素材料。在本發(fā)明中，也可以還在上述圓形底板上形成沒有形成第一及第二凹坑的槽溝。在上述圓形底板上還形成了沒有形成第一及第二凹坑的槽溝的時候，也可以在凹槽之間形成凸臺前置凹坑，此時，為了與從凸臺面開始的深度相同最好將從凹槽底面開始的凸臺高度設為dg，與以凹槽底面為基準的凸臺前置凹坑相鄰的側壁高度設為dlg，此時，設0.3≤dlg/dg≤0.7。本發(fā)明第二方案提供了一種光信息記錄媒體的制造方法，其是第一方案中的光信息記錄媒體的制造方法，其包含通過變化第一曝光強度和、低于第一曝光強度的第二曝光強度的同時，對原盤上形成的感光材料上進行曝光，在該感光材料上至少使與第二凹坑對應的圖案曝光，通過在低于第二曝光強度的第三曝光強度下使上述感光材料曝光，從而使上述感光材料的與上述槽溝對應的圖案曝光；進行上述曝光之后，使原盤顯像，并形成與第一凹坑、第二凹坑及與上述凹槽對應的圖案；使用形成了上述圖案的原盤，并使底板成形；在該底板上形成記錄層及反射層。通過利用本發(fā)明的方法，可以制造本發(fā)明的光信息記錄媒體。在本光信息記錄媒體的制造方法中，最好包含通過在上述第一曝光強度下使上述感光材料曝光，從而在上述感光材料上使與第一凹坑對應的圖案曝光的內(nèi)容。另外，在上述感光材料上使與第二凹坑對應的圖案曝光之際的曝光強度，最好在最初設為第一曝光強度，接下來設為第二曝光強度，進一步再變化為第一曝光強度。進一步，最好包含在使與第一凹坑及第二凹坑對應的圖案曝光前后，將曝光強度設為0的內(nèi)容。最好包含在上述顯像中，RIE蝕刻的內(nèi)容。圖1(a)是表示具有現(xiàn)有的槽內(nèi)凹坑的光信息記錄媒體一部分的示意俯視圖、圖1(b)是沿圖1(a)的A-A線的截面圖；圖2是說明實施例1的玻璃原盤制作方法的圖；圖3是表示照射在實施例1的玻璃原盤的激光的曝光強度的時間變化圖；圖4(a)是表示在實施例1中，表示光致抗蝕劑(photo-resist)曝光·顯像之后的玻璃原盤一部分的示意俯視圖、圖4(b)是沿圖4(a)的A’-A’線的截面圖；圖5是實施例1的沒有形成槽內(nèi)凹坑的區(qū)域的模式圖，圖5(a)是表示光致抗蝕劑(photo-resist)曝光·顯像之后的玻璃原盤的一部分的示意俯視圖、圖5(b)是沿圖5(a)的A’-A’線的截面圖；圖6是說明實施例2的槽內(nèi)凹坑形成區(qū)域的玻璃原盤制作方法的圖；圖7是說明實施例2的沒有形成槽內(nèi)凹坑區(qū)域的玻璃原盤制作方法的圖；圖8是在實施例1中得到的底板的圖案形成面的立體示意圖；圖9是在實施例1中得到的底板的示意圖；圖10(a)表示實施例1的底板的槽內(nèi)凹坑附近的示意俯視圖、圖10(b)是沿圖10(a)的C-C線的截面上，在底板上形成了記錄層及反射層的狀態(tài)的示意截面圖；圖11是表示凸臺前置凹坑的再生信號的圖，圖11(a)是表示在實施例1中制作的信息記錄媒體的信號的圖，圖11(b)是表示具有現(xiàn)有的槽內(nèi)凹坑的信息記錄媒體的信號的圖；圖12(a)是表示dlg/dg比和再生錯誤量的關系的圖表，圖12(b)是表示dlp/dg比和再生錯誤量的關系的圖表；圖13(a)表示實施例1的底板沒有槽內(nèi)凹坑的區(qū)域的示意俯視圖、圖13(b)是在圖13(a)的截面上，在底板上形成了記錄層及反射層的狀態(tài)下的截面示意圖。具體實施例方式下面利用附圖對本發(fā)明的實施例進行說明，但本發(fā)明不受這些限定。實施例1首先，說明用于制作底板的原盤及模板的制作方法。本發(fā)明的光信息記錄媒體的底板1如圖9所示，從底板1的內(nèi)周開始依次劃分為槽溝區(qū)域71、槽內(nèi)凹坑區(qū)域73及槽溝區(qū)域75。利用圖2～9對于用于制作該底板1的原盤及模板的制作方法進行說明。如圖2(a)所示，準備直徑200mm、厚度6mm的玻璃原盤50。隨后，如圖2(b)所示，在玻璃原盤50的一個表面50a上，利用旋涂(spin-coating)法均勻涂覆200nm厚的光致抗蝕劑52。接下來，將形成了光致抗蝕劑52的玻璃原盤50安裝在未圖示的光刻(cutting)裝置(原盤曝光裝置)上。光刻裝置主要由以下幾部分構成振蕩產(chǎn)生波長351nm的激光的氪(Kr)氣體激光光源、由聲光調(diào)制元件組成的光調(diào)制器、用于使聚光鏡及玻璃原盤旋轉的驅(qū)動裝置等。如圖2(c)所示，從上述光刻裝置的激光光源發(fā)射出的激光LS通過光調(diào)制器及聚光鏡，照射在玻璃原盤50上的光致抗蝕劑52上。此時，使玻璃原盤50按照規(guī)定轉數(shù)繞玻璃原盤50的中心軸AX旋轉。另外，移動激光LS(箭頭AR2)，以使在玻璃原盤50上的激光LS的照射位置沿玻璃原盤50的半徑方向，從玻璃原盤50的內(nèi)側向外側移動。如上所述，移動激光LS的同時，使用上述光調(diào)制器使照射在玻璃原盤50上的激光LS的曝光強度改變。從玻璃原盤50的中心軸AX到半徑22mm～23.9mm的區(qū)域相當于圖9所示的底板1的槽溝區(qū)域71(以下稱為第一槽溝形成區(qū)域)。另外，半徑23.9mm～24mm的區(qū)域相當于底板1的槽內(nèi)凹坑區(qū)域73(以下稱為槽內(nèi)凹坑區(qū)域)。進一步，半徑24mm～58mm的區(qū)域是用戶數(shù)據(jù)(userdata)區(qū)域，相當于底板1的槽溝區(qū)域75(以下稱為第二槽溝形成區(qū)域)。在本實施例中，第一及第二槽溝形成區(qū)域的曝光強度設定在低水平(level)(以下稱為槽溝水平(groovelevel))。另外，在槽內(nèi)凹坑形成區(qū)域中，如圖3所示，使激光的曝光強度在低水平、中水平及高水平的三個階段變化。形成與槽內(nèi)凹坑形成區(qū)域的槽內(nèi)凹坑對應的部分(以下稱為槽內(nèi)凹坑形成部分)時候的曝光強度，設定在高水平(以下稱為第一凹坑水平(pitlevel))及中水平(以下稱為第二凹坑水平)的兩個階段的水平，此外的槽溝部分的曝光強度設定在槽溝水平。在本實施例中，將第一凹坑水平的信號振幅設為100％的時候，則設定第二凹坑水平為70％、槽溝水平的信號振幅為50％。另外，在將與槽內(nèi)凹坑區(qū)域內(nèi)形成的凸臺前置凹坑對應的部分(以下稱為凸臺前置凹坑形成部分)曝光時，調(diào)整激光的曝光強度，以使底板的凸臺前置凹坑的深度與槽溝深度大致相同。如圖3所示，在槽內(nèi)凹坑形成部分的曝光中，從開始到1T-1.5T(T時鐘(clock)周期)的期間在第一凹坑水平(高水平)下曝光，接下來，將曝光強度降低到第二凹坑水平(中水平)進行曝光。進一步，在直到槽內(nèi)凹坑形成部分結束的1T-1.5T的期間內(nèi)，再次將曝光強度返回到第一凹坑水平進行曝光。由此，內(nèi)槽溝形成部分的原盤半徑方向的寬度在槽內(nèi)凹坑形成部分的中間附近不會擴大。這可以認為是因為在第二凹水平下曝光的期間內(nèi)的累計曝光量減少，抑制了在這段時間向原盤半徑方向的曝光范圍的擴大。再有，底板的槽內(nèi)凹坑區(qū)域的槽內(nèi)凹坑沿著軌道(槽溝)方向，按照3T～11T或者14T中的任何一個信道比特(channelbit)長度形成所要求的圖案。因為在按照最短信道比特長度、即按3T形成的槽內(nèi)凹坑形成部分中，幾乎沒有由于累計曝光量的影響而導致寬度的擴大，所以不進行上述兩個階段的曝光強度的切換，并固定在第一凹坑水平進行曝光。在本實施例中，通過進行上述曝光強度的切換，可以將具有大于最短信道比特長度的信道比特長度的槽內(nèi)凹坑形成部分的寬度做成與具有最短信道比特長度的槽內(nèi)凹坑形成部分的寬度相同的大小。再有，時鐘周期T可以根據(jù)使用的再生裝置進行適當?shù)卣{(diào)節(jié)。進一步，在本實施例中，如圖3所示，每當曝光強度從第一凹坑水平切換到槽溝水平、或者從槽溝水平切換到第一凹坑水平，都要暫時設置激光的曝光強度為0水平的時期。0水平時期與形成的凹坑的信道比特長度相應變化。在最短信道比特長度為3T的槽內(nèi)凹坑形成部分曝光的時候，設0水平的時間為0.2T。由此，可以提高原盤的槽內(nèi)凹坑形成部分的加工精度。接下來，從光刻裝置中取出光致抗蝕劑已經(jīng)被感光的玻璃原盤，并進行顯像處理。由此，在玻璃原盤50上形成了如圖4(a)及圖4(b)所示的槽溝形成部40、槽內(nèi)凹坑形成部44及凸臺前置凹坑形成部42。槽溝形成部40及凸臺前置凹坑形成部42形成截面為V字形的槽型。此時，凸臺前置凹坑形成部42的槽寬度drl要比槽溝形成部40的槽寬度drg窄。另外，在槽內(nèi)凹坑形成部44中，通過顯像處理將玻璃原盤50上的光致抗蝕劑52去除，如圖4(b)所示，玻璃原盤50的表面50a作為露出部44a被顯現(xiàn)。接下來，如圖6(a)所示，使用未圖示的活性離子蝕刻(RIE--reactive-ion-etching))裝置，在C2F6的氣體氛圍中對玻璃原盤50上形成的光致抗蝕劑52進行蝕刻。由此，槽內(nèi)凹坑形成部44分別被蝕刻到距玻璃原盤50的表面50a為90nm的深度。接下來，如圖6(b)所示，為了使槽溝形成部40及凸臺前置凹坑形成部42中的玻璃原盤50的表面50a露出，使用未圖示的O2(抗蝕劑拋光(resist-ashing)裝置，將光致抗蝕劑52僅削減成規(guī)定厚度。由此，使槽溝形成部40及凸臺前置凹坑形成部42的玻璃原盤表面50a露出。進一步，如圖6(c)所示，再一次在C2F6的氣體氛圍中對玻璃原盤50的光致抗蝕劑52形成面進行RIE。由此，槽溝形成部40被蝕刻至距玻璃原盤表面50a為175nm的深度。另外，凸臺前置凹坑形成部42被蝕刻至距玻璃原盤50a為175nm的深度。同時，槽內(nèi)凹坑形成部44被蝕刻至距玻璃原盤50a為265nm的深度。接下來，如圖6(d)所示，再一次使用抗蝕劑拋光裝置(未圖示)，去除玻璃原盤50上的光致抗蝕劑52。由此，得到在表面上形成了希望的圖案的玻璃原盤50。在該玻璃原盤50的圖案形成面上施加作為鍍金前處理的無電解鍍金。進一步，通過利用該鍍金層作為導電膜，利用電鑄法形成厚度為0.3mm的Ni層。接下來，對在玻璃原盤50上形成的Ni層表面進行研磨，進一步，通過從玻璃原盤上剝離上述Ni層而得到模板。再有，也可以利用濺射(sputtering)法或蒸鍍法進行上述鍍金層的前處理的導電膜的形成。其次，說明信息記錄媒體的制作方法。將上述模板安裝在現(xiàn)有的注射成型裝置中，通過注射成型而得到底板1。底板1是直徑120mm、厚度0.6mm的聚碳酸脂(poly-carbonate)制的底板，如圖8所示，在底板1的一面上轉印與玻璃原盤上形成的凹凸圖案形狀相同的圖案。如上所述，在底板1上形成了槽溝區(qū)域71、槽內(nèi)凹坑區(qū)域73及槽溝區(qū)域(用戶數(shù)據(jù)區(qū)域)75。另外，如圖10(a)所示，在槽內(nèi)凹坑區(qū)域73中，形成了槽溝80、凸臺前置凹坑82及槽內(nèi)凹坑84。其中，利用DigitalInstruments公司制造的掃描型探測顯微鏡測定具有最短信道比特長度3T的槽內(nèi)凹坑的底板半徑方向的寬度、及具有比其更長的信道比特長度的槽內(nèi)凹坑的底板半徑方向的寬度。具有最短信道長度3T的槽內(nèi)凹坑的最大寬度是0.34μm。另外，具有信道比特長度11T的槽內(nèi)凹坑的最大寬度是0.38μm。進一步，具有信道比特長度14T的槽內(nèi)凹坑的最大幅度是0.4μm。從本發(fā)明人的實驗中可以了解，具有比最短信道比特長度3T更長的的信道比特長度的槽內(nèi)凹坑的最大寬度與具有最短信道比特長度3T的槽內(nèi)凹坑的最大寬度之比在112～118％范圍內(nèi)，在比最短信道比特長度更長的槽內(nèi)凹坑中，底板半徑方向?qū)挾鹊臄U展被抑制了。例用旋涂法在該底板1的圖案形成面上涂覆具有以下述化學式(1)表示的偶氮系色素1重量％的濃度的溶液，以使槽溝之間，即凸臺上達到厚度為30nm。此時，設上述溶液的涂覆量為1g，使底板從開始涂覆的30秒鐘內(nèi)以轉數(shù)100rpm旋轉、之后的30秒鐘內(nèi)以轉數(shù)800～1000rpm旋轉。再有，涂覆上述色素溶液之際，作為溶劑通過使用四氟丙醇作為偶氮系色素溶劑，并用過濾器過濾除去雜質(zhì)。接下來，在70℃將涂覆了上述色素材料的底板1干燥1小時，進一步在室溫下冷卻1小時。這樣，底板1上就形成了記錄層2(參照圖10(b))?；?進一步，如圖10(b)所示，利用濺射法在記錄層2上形成100nm厚的Ag合金作為反射層3。接下來，利用旋涂法在反射層3上涂覆10μm厚度的UV樹脂材料，進一步，在其上面放置厚度0.6mm的聚碳酸脂制的底板(空的(dummy)底板)。在該狀態(tài)下，通過對形成了各層的底板進行UV照射，得到了形成了各層的底板和空底板粘貼而成的光信息記錄媒體。關于這樣得到的光信息記錄媒體，使用DigitalInstruments公司制造的掃描型探測顯微鏡測定槽內(nèi)凹坑區(qū)域73的槽內(nèi)凹坑、槽溝及凸臺前置凹坑的最大深度。這些深度如圖10(b)所示，形成從底板的凸臺81的表面開始的深度。槽溝的最大深度dg為170nm、槽內(nèi)凹坑的最大深度dp為265nm。另外，凸臺前置凹坑的最大深度dlp與槽溝的最大深度dg相同都為175nm。另外，使用DigitalInstruments公司制造的掃描型探測顯微鏡測定槽內(nèi)凹坑區(qū)域73的槽內(nèi)凹坑、槽溝及凸臺前置凹坑的記錄層溝的深度。這里，記錄層溝的深度是指以凸臺81上形成的記錄層2的表面2a為基準時的記錄層2的最大溝量。槽溝的記錄層溝深Tg是100nm，槽內(nèi)凹坑的記錄層溝深是170nm。另外，凸臺前置凹坑的記錄層溝深Tlp是90nm。在上述實施例中得到的光信息記錄媒體，使用具有波長650nm的激光及數(shù)值孔徑為0.6的透鏡的拾取器，進行槽內(nèi)凹坑區(qū)域的記錄信號的再生?？梢苑€(wěn)定地進行信號的檢測及再生，另外，此時的再生信號的信號調(diào)制度是61％，跳動是7.2％，任何一個都能取得良好的結果。另外，如圖11(a)所示，也可以穩(wěn)定地檢測出凸臺前置凹坑的記錄信號。由此，孔徑比也可以滿足要求值，錯誤率也可以充分滿足標準規(guī)定的5％。在上述實施例的光信息記錄媒體中，雖然使用了聚碳酸脂作為底板，但也可以使用聚甲基丙烯酸甲脂(poly-methyl-methacrylate)或非晶態(tài)聚烯烴(amorphous-polyolefin)等。實施例2首先，說明用于底板制作的原盤及模板的制作方法。對于實施例1中制作的模板，如圖9所示，在半徑22mm～58mm的整個區(qū)域中，在槽溝之間的凸臺上形成了凸臺前置凹坑，作為與半徑23.9mm～24mm的槽內(nèi)凹坑區(qū)域形成的凸臺前置凹坑對應的部分(以下稱為第一凸臺前置凹坑的形成部分)，如圖3所示，將激光的強度水平設為低水平(以下設為第二LPP水平)，將與半徑22mm～23.9mm、半徑24mm～58mm的上述第一及第二槽溝形成區(qū)域的凸臺前置凹槽對應的部分(以下稱為第二凸臺前置凹坑形成部分)設為第二凸臺前置凹坑水平(以下設為第二LPP水平)，將激光的強度水平設為高水平的第二階段的水平。在第二LPP水平的信號輸出設為100％時，制作第一LPP水平的信號輸出設為90％的原盤。因為該凸臺前置凹坑形成部42的底面與槽溝形成部相同，所以，如果以槽溝底面為基準，則第一凸臺前置凹坑的側壁高度dlp為170nm。同時，槽內(nèi)凹坑形成部44從玻璃原盤表面50a被蝕刻至260nm的深度。接下來，如圖6(d)所示，再一次使用抗蝕劑拋光裝置(未圖示)，去除玻璃原盤50上的光致抗蝕劑52。由此，得到了表面上形成了希望圖案的玻璃原盤50。第一及第二槽溝形成區(qū)域也同樣在玻璃原盤51上形成如圖5(a)(b)所示的槽溝形成部40、第二凸臺前置凹坑形成部43。槽溝形成部40及第二凸臺前置凹坑形成部43形成截面是V字形的槽形。此時，與第二凸臺前置凹坑相鄰的凸臺部分受到第二凸臺前置凹坑的曝光強度和槽溝的曝光強度的累計曝光強度的影響，稍微進行顯像，并且形成比凸臺面有所下降的狀態(tài)。接下來如圖7所示，進行與圖5相同的處理，如圖7(a)使用未圖示的RIE裝置，在C2F6的氣體氛圍中進行蝕刻。因為此時玻璃面沒有露出來，所以不會被蝕刻。接下來，如圖7(b)所示使用未圖示的用O2的抗蝕劑拋光裝置，將光致抗蝕劑52削減成只有規(guī)定厚度。由此，使槽溝形成部40及凸臺前置凹坑形成部43的玻璃原盤表面51a露出。進一步，如圖7(c)所示，再一次在C2F6的氣體氛圍中對玻璃原盤51的光致抗蝕劑52的形成面進行RIE。由此，槽溝形成部40從玻璃原盤表面50a被蝕刻至170nm的深度。另外，因為側壁的光致抗蝕劑比其他部分薄，所以第二凸臺前置凹坑形成部43從C2F6的處理過程中就開始被蝕刻。因為第二凸臺前置凹坑的底面與槽溝相同，所以如果以溝槽底面為基準，則第二凸臺前置凹坑的側壁高度dlg就形成90nm的高度。接下來，如圖7(d)所示，再一次使用抗蝕劑拋光裝置(未圖示)，去除玻璃原盤51上的光致抗蝕劑52。由此，可以得到表面上形成了希望圖案的玻璃原盤51。在該玻璃原盤50的圖案形成面上施加作為鍍金層的前處理的無電解鍍金。進一步，通過利用該鍍金層作為導電膜，利用電鑄法形成厚度為0.3mm的Ni層。接下來，對在玻璃原盤50上形成的Ni層表面進行研磨，進一步，通過從玻璃原盤上剝離上述Ni層而得到模板。再有，也可以利用濺射法或蒸鍍法進行上述鍍金的前處理以形成導電膜。其次，說明信息記錄媒體的制作方法。使用該模板與實施例1同樣地制作信息記錄媒體，使用DigitalInstruments公司制造的掃描型探測顯微鏡測定槽內(nèi)凹坑區(qū)域73的槽內(nèi)凹坑、槽溝及凸臺前置凹坑的最大深度。這些深度如圖10(b)所示，作為從底板的凸臺81的表面開始的深度。槽溝的最大深度dg為170nm、槽內(nèi)凹坑的最大深度dp為260nm。另外，凸臺前置凹坑的最大深度dlp與槽溝的最大深度dg都同樣為175nm。另外，使用DigitalInstruments公司制造的掃描型探測顯微鏡測定槽內(nèi)凹坑區(qū)域73的槽內(nèi)凹坑、槽溝及第一凸臺前置凹坑的記錄層溝的深度。這里，記錄層溝的深度是指以凸臺81上形成的記錄層2的表面2a為基準時的記錄層2的最大溝量。槽溝的記錄層溝深Tg是100nm，槽內(nèi)凹坑的記錄層溝深Tp是170nm。另外，凸臺前置凹坑的記錄層溝深Tlp是90nm。另外，使用DigitalInstruments公司制造的掃描型探測顯微鏡在槽溝形成部上測定槽溝及凸臺前置凹坑的深度。關于第二凸臺前置凹坑側壁的高度，因為沒有形成凸臺面，所以關于圖13(b)，將槽溝底面作為基準面，第一凸臺前置凹坑的側壁高度dlg是90nm。另外，槽溝深度(高度)dg是170nm。另外，使用DigitalInstruments公司制造的掃描型探測顯微鏡測定槽溝形成區(qū)域的槽溝及第二凸臺前置凹坑的記錄層溝的深度。記錄層溝的深度與上述相同，槽溝記錄層溝深Tg與上述同樣為100nm，第二凸臺前置凹坑的記錄層溝深Tlp是110nm。在上述實施例中得到的光信息記錄媒體，使用具有波長650nm的激光及數(shù)值孔徑為0.6的透鏡的拾取器，進行槽內(nèi)凹坑區(qū)域的記錄信號的再生。可以穩(wěn)定地進行信號的檢測及再生，另外，此時的再生信號的信號調(diào)制度是61％，跳動是7.2％，任何一個都能取得良好的結果。另外，如圖11(a)所示，也可以穩(wěn)定地檢測出凸臺前置凹坑的記錄信號。由此，孔徑比也可以滿足要求值，錯誤率也可以充分地滿足標準規(guī)定的5％。另外，在進行記錄·再生的槽溝形成區(qū)域內(nèi)也可以改善再生錯誤，并在全面滿足標準的要求。在本發(fā)明的光信息記錄媒體中，可以控制源于槽內(nèi)凹坑形狀的凹坑長度的形狀變化，并且防止對相鄰凸臺形狀所產(chǎn)生的惡劣影響。尤其是，即使在與凸臺前置凹坑相鄰的情況下，也能可靠地檢測出凸臺前置凹坑的記錄信號，降低錯誤率。另外，本發(fā)明的光信息記錄媒體的制造方法是為制造本發(fā)明的光信息記錄媒體有用方法。權利要求1.一種光信息記錄媒體，具有形成了多個凸臺及槽溝的圓形底板，并且在該圓形底板上具有記錄層和反射層，其特征在于在上述槽溝的底部形成了第一凹坑和槽溝方向的長度大于第一凹坑的第二凹坑，第一凹坑的底板半徑方向的最大寬度用W1表示、第二凹坑的底板半徑方向的最大寬度用W2表示的時候，1＜W2/W1＜1.2。2.根據(jù)權利要求1所述的光信息記錄媒體，其特征在于，在上述凸臺上形成了第三凹坑。3.根據(jù)權利要求2所述的光信息記錄媒體，其特征在于，第三凹坑的深度與上述槽溝的深度相同。4.一種光信息記錄媒體，具有形成了多個凸臺及槽溝的圓形底板，并且在該圓形底板上具有記錄層和反射層，其特征在于在上述槽溝的底部形成了第一凹坑和槽溝方向的長度大于第一凹坑的第二凹坑，并且，在形成了上述第一及第二凹坑的槽溝之間的凸臺上形成了第三凹坑，以槽溝底面為基準測定的第三凹坑高度設為dlp，槽溝高度設為dg時，0.4≤dlg/dg≤1。5.根據(jù)權利要求1所述的光信息記錄媒體，其特征在于，在沒有形成上述第一及第二凹坑的槽溝之間的凸臺上形成了第四凹坑，以槽溝底面為基準測定的第四凹坑高度設為dlg，槽溝高度設為dg的時候，0.3≤dlg/dg≤0.7.6.根據(jù)權利要求1～5中任何一項所述的光信息記錄媒體，其特征在于，上述記錄層由色素材料形成。7.根據(jù)權利要求6所述的光信息記錄媒體，其特征在于，上述色素材料是偶氮系色素材料。8.根據(jù)權利要求1～7中任何一項所述的光信息記錄媒體，其特征在于，在上述圓形底板上還形成了沒有形成第一及第二凹坑的槽溝。9.一種光信息記錄媒體的制造方法，是用于權利要求1～8中任何一項所述的光信息記錄媒體的制造方法，其特征在于，包括以下步驟通過變化第一曝光強度和低于第一曝光強度的第二曝光強度的同時，對原盤上形成的感光材料進行曝光，使該感光材料上至少與第二凹坑對應的圖案曝光，通過以低于第二曝光強度的第三曝光強度使上述感光材料曝光，從而使上述感光材料與上述槽溝對應的圖案曝光；進行上述曝光之后，使原盤顯像，并形成第一凹坑、第二凹坑及與上述槽溝對應的圖案；使用形成了上述圖案的原盤以成形底板；在該底板上形成記錄層及反射層。10.根據(jù)權利要求9所述的光信息記錄媒體的制造方法，其特征在于，包含通過以第一曝光強度使上述感光材料曝光，從而使上述感光材料與第一凹坑對應的圖案曝光。11.根據(jù)權利要求10所述的光信息記錄媒體的制造方法，其特征在于，對上述感光材料的曝光強度如下變化將與第二凹坑對應的圖案進行曝光時的曝光強度作為開始的第一曝光強度，隨后用第二曝光強度，再變化為第一曝光強度。12.根據(jù)權利要求9～11中任何一項所述的光信息記錄媒體的制造方法，其特征在于，包括在使與第一凹坑及第二凹坑對應的圖案進行曝光的前后，將曝光強度設為0。13.根據(jù)權利要求9～12中任何一項所述的光信息記錄媒體的制造方法，其特征在于，在上述顯像中，進行RTE蝕刻。全文摘要本發(fā)明涉及光信息記錄媒體。本發(fā)明提供的光信息記錄媒體及其制造方法在具有形成了槽內(nèi)凹坑的底板的光信息記錄媒體中，可以從凹坑中可靠地檢測出信號并降低再生錯誤率。在本發(fā)明的光信息記錄媒體的底板上形成了多個凸臺及槽溝，并在一部分的槽溝的底面上形成了槽內(nèi)凹坑。該槽內(nèi)凹坑與槽溝方向的長度無關，并可抑制底板半徑方向的寬度擴展，并且與槽內(nèi)凹坑相鄰的凸臺的形狀不會大幅度削減側壁，維持了固定的凸臺及槽溝形狀。尤其在使用并制作形成了與槽內(nèi)凹坑相鄰的凸臺前置凹坑的底板的光信息記錄媒體中，也可以可靠地檢測出凸臺前置凹坑的記錄信號。文檔編號G11B7/24085GK1503248SQ200310115029公開日2004年6月9日申請日期2003年11月18日優(yōu)先權日2002年11月19日發(fā)明者末永正志,介,高橋裕介,則,宮田勝則,布村豐幸,幸申請人:日立麥克賽爾株式會社