專利名稱：動臂機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于在光盤上光學(xué)式寫入和讀取信息的磁盤驅(qū)動器的拾取裝置，更具體地涉及一種適用于薄盤驅(qū)動器的拾取裝置。
拾取裝置通過采用預(yù)定的光學(xué)系統(tǒng)元件將從光源如激光二極管中發(fā)出的激光束引向物鏡，并經(jīng)物鏡將激光束照射在光盤的信息記錄面上。通常來說，物鏡定位成與光盤相對。來自光源的激光束被光學(xué)系統(tǒng)元件引導(dǎo)至平行于光盤設(shè)置的光路上的物鏡下方的位置。然后，激光束通過位于物鏡下方的向上鏡(raise-up mirror)而將其路徑改變到垂直方向，即物鏡的方向，并且激光束到達(dá)物鏡。物鏡安裝在鏡頭托架上，線圈基底安裝在此鏡頭托架上。通過在由放置成相互間接近的磁體形成的磁場中對線圈基底施加驅(qū)動電流，可以使鏡頭托架相對于光盤垂直地和水平地移動，因而可進(jìn)行聚焦控制和尋跡控制。在日本公開特許公報No.2001-229557中介紹了這種拾取裝置的一個例子。
然而，在上述拾取裝置中，由于線圈基底安裝在矩形鏡頭托架的相對側(cè)上，因此來自激光源的激光束的光路無法在水平方向上設(shè)置在與線圈基底相同的高度水平。即，由于這對線圈基底位于物鏡的兩側(cè)，因此線圈基底就會成為障礙，阻止了激光束被導(dǎo)向到物鏡下方與線圈基底相同的高度水平處的位置。出于此原因，例如在日本公開特許公報No.2001-229557中所介紹的拾取裝置中，激光束的光路設(shè)置在鏡頭托架之下。即，光路設(shè)置成使激光束被引向物鏡下方較線圈基底更低水平的位置處，然后通過向上鏡引向物鏡。
然而，當(dāng)激光束的光路設(shè)置在較鏡頭托架更低的高度水平處時，拾取裝置的整體高度(垂直方向上的厚度)增加。例如，在薄驅(qū)動裝置如安裝在筆記本式個人計算機中的驅(qū)動裝置中，必須采用較薄的拾取裝置，因此上述較厚的拾取裝置無法使用。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種動臂機構(gòu)，包括具有用于夾持物鏡的頂面和用于夾持線圈基底的一對側(cè)面的鏡頭托架；固定在頂面上的物鏡；以及固定在一對側(cè)面上的一對線圈基底，其中物鏡固定在從鏡頭托架的重心偏向鏡頭托架一端的某一位置處，一對線圈基底中的一個固定在鏡頭托架的一個側(cè)面上的從鏡頭托架的所述端部到鏡頭托架的中心部分的范圍內(nèi)，而另一線圈基底固定在鏡頭托架的另一側(cè)面上的從鏡頭托架的另一端部到鏡頭托架的中心部分的范圍內(nèi)。
上述動臂機構(gòu)可在用于光盤驅(qū)動裝置的拾取裝置中使用。動臂機構(gòu)定位成與光盤相對，從而將來自光源的光束照射到光盤的信息記錄面上。物鏡固定在形成了動臂機構(gòu)的鏡頭托架上的離一端更近的位置處。一個線圈基底固定在鏡頭托架的一個側(cè)面上的從鏡頭托架的所述端部到鏡頭托架的中心部分的范圍內(nèi)，而另一線圈基底固定在鏡頭托架的另一側(cè)面上的從鏡頭托架的另一端部到鏡頭托架的中心部分的范圍內(nèi)。因此，在鏡頭托架的物鏡側(cè)端部的附近，線圈基底不與鏡頭托架的一側(cè)相連，提供了處于物鏡下方的空間。通過此空間來設(shè)置將光束引導(dǎo)到物鏡的光學(xué)系統(tǒng)，就可將光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置在與動臂機構(gòu)相同的高度水平。結(jié)果，與光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置在動臂機構(gòu)下方的情況相比，可以減小拾取裝置的整體厚度，并提供用于薄式驅(qū)動裝置的更好的拾取裝置。
鏡頭托架可具有位于另一端部一側(cè)處的質(zhì)量部分，此質(zhì)量部分可具有比鏡頭托架的所述端部的質(zhì)量更大的質(zhì)量。這樣，當(dāng)物鏡固定在所述端部的附近時，可以校正鏡頭托架的重心偏移。
鏡頭托架可包括設(shè)置在所述端部的第一止動部分以及設(shè)置在另一端部的第二和第三止動部分，其中第二止動部分與安裝了動臂機構(gòu)的主體上的一部分接觸，限制了鏡頭托架在光盤的聚焦方向上的運動，第三止動部分與主體上的所述部分接觸，限制了鏡頭托架在光盤的尋跡方向上的運動，而第一止動部分與主體上的所述部分接觸，限制了鏡頭托架在聚焦方向和尋跡方向上的運動。
在此特征中，在鏡頭托架的物鏡側(cè)端部，止動部分可限制鏡頭托架在聚焦方向和尋跡方向上的行程。因此，鏡頭托架可形成為更薄。
動臂機構(gòu)還可包括具有一對磁軛的動臂機構(gòu)基座；以及固定在這對磁軛上的一對磁體，其中各磁體均可定位成與各線圈基底相對。在此特征中，通過對處于由磁體形成的磁場內(nèi)的線圈基底上的線圈施加驅(qū)動電流，就可移動物鏡以進(jìn)行聚焦控制和尋跡控制。
各線圈基底可包括尋跡線圈和聚焦線圈，它們在線圈基底的水平方向上相互對齊地形成，線圈基底可以只在形成聚焦線圈的區(qū)域處相互面對。因此，可以在線圈基底之間形成適當(dāng)?shù)拇艌?，并保證用于設(shè)置光學(xué)系統(tǒng)的空間。
各線圈基底可包括位于形成聚焦線圈的區(qū)域中的焊接區(qū)，鏡頭托架還可包括將這對線圈基底上的焊接區(qū)電連接的連接線。因此，可通過處于線圈基底相互面對的區(qū)域內(nèi)的短導(dǎo)線來將線圈基底電連接。
各磁體可包括磁化圖案，其具有邊界區(qū)域以及位于邊界區(qū)域兩側(cè)的北極區(qū)域和南極區(qū)域。邊界區(qū)域的垂直延伸部分可垂直地穿過線圈基底的尋跡線圈，邊界區(qū)域的水平延伸部分可垂直地穿過線圈基底的聚焦線圈。在此特征中，通過磁體形成的磁場和施加給線圈的驅(qū)動電流，可以正確地進(jìn)行尋跡伺服和聚焦伺服。從關(guān)于本發(fā)明的優(yōu)選實施例的下述詳細(xì)介紹中并結(jié)合下面簡短介紹的附圖，可以更加清楚本發(fā)明的性質(zhì)、效用及其它特征。
下面將參考附圖來介紹本發(fā)明的優(yōu)選實施例。


圖1A到1C顯示了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的拾取裝置的結(jié)構(gòu)。圖1A是拾取裝置100的頂視圖，圖1B是拾取裝置100的透視圖，而圖1C是合取裝置100的底平面視圖。如圖1A到1C所示，拾取裝置100具有多個安裝在主體1上的部件。動臂機構(gòu)基座8固定在主體1上，動臂機構(gòu)基座8采用四條懸置線10來支撐鏡頭托架5，其可在聚焦方向F和尋跡方向T上運動。鏡頭托架5具有安裝在其相對側(cè)上的線圈基底7a和7b，以及安裝在頂面上的物鏡4。
磁體6a和6b固定在主體1上，以便分別與安裝在鏡頭托架5上的這對線圈基底7a和7b相面對。這對磁體6a和6b固定成相互面對，根據(jù)磁體6a和6b的磁化圖案而在磁體6a和6b之間的空間內(nèi)形成了磁場。在側(cè)面具有線圈基底7a和7b的鏡頭托架5放置在由這對磁體6a和6b所形成的磁場中。因此，當(dāng)在形成于線圈基底7a和7b上的聚焦線圈和尋跡線圈上施加預(yù)定的驅(qū)動電流時，鏡頭托架5就會因線圈中的電流和磁場所產(chǎn)生的作用力而在聚焦方向F和尋跡方向T上運動。由于鏡頭托架5的運動，鏡頭托架5上的物鏡4就產(chǎn)生運動以執(zhí)行聚焦控制和尋跡控制。
在主體1的一端安裝了激光源2。激光源2發(fā)出的激光束穿過由設(shè)置在主體1內(nèi)的光學(xué)系統(tǒng)所構(gòu)成的光路3，并到達(dá)物鏡4下方的位置。在物鏡下方設(shè)有向上鏡9。向上鏡9將激光束的路徑改變成向上，這樣激光束就從下方朝上穿過物鏡4。光盤置于物鏡4的上方，物鏡4將激光束聚集在光盤的信息記錄面上。
接著將參考圖2A到2C來介紹拾取裝置100的動臂機構(gòu)。圖2A是動臂機構(gòu)的頂視圖，圖2B是動臂機構(gòu)的透視圖，而圖2C是動臂機構(gòu)的底平面視圖。動臂機構(gòu)50是用于在聚焦方向F和尋跡方向T上移動物鏡4的機構(gòu)，其包括動臂機構(gòu)基座8、鏡頭托架5、一對磁體6a和6b，以及安裝在鏡頭托架5上的一對線圈基底7a和7b。
如圖1A到1C以及圖2A到2C所示，動臂機構(gòu)基座8固定在拾取裝置100的主體1上。另外，在主體1上形成了一對磁軛11，磁體6a和6b固定在磁軛11內(nèi)。在本發(fā)明的拾取裝置100中，這對磁軛11并不完全地相互面對，而是在尋跡方向T上相互間偏開。這種設(shè)置提供了用于設(shè)置光路(光學(xué)系統(tǒng))3的空間，光路3在圖2A中以虛線示出。磁體6a和6b安裝在磁軛11內(nèi)，因此在這對磁體6a和6b之間的空間內(nèi)產(chǎn)生了磁場。
同時在動臂機構(gòu)基座8上，鏡頭托架5由四條懸置線10支撐。鏡頭托架5由懸置線10的彈性所支撐，以便可在聚焦方向F和尋跡方向T上移動。物鏡4安裝在鏡頭托架5上。通過在由這對磁體6a和6b所形成的磁場內(nèi)對安裝在鏡頭托架5上的線圈基底7a和7b上的聚焦線圈和尋跡線圈施加驅(qū)動電流，就可在聚焦方向F和尋跡方向T上對線圈基底7a和7b以及與線圈基底7a和7b形成一體的鏡頭托架5施加作用力，因此物鏡4可相對于光盤的信息記錄面和信息紋跡運動。
如圖2A和2B中清楚地顯示，在本發(fā)明的拾取裝置100中，這對線圈基底7a和7b在側(cè)向(即尋跡方向T)上沿相反方向偏開，并不完全地在水平方向上相互面對。這種設(shè)置使得可將來自激光源2的光路3置于與磁體6a和6b以及線圈基底7a和7b相同的高度水平上。
在普通的拾取裝置中，成對的磁體和線圈基底在寬度方向上幾乎完全地相互面對。因此，磁體和線圈基底如墻一樣覆蓋了物鏡的兩側(cè)，激光束無法被引導(dǎo)到相同高度水平的物鏡上。因此，激光束的光路必須置于低于磁體和線圈基底的高度上，因而增加了拾取裝置的整體厚度。
相反，在本發(fā)明的動臂機構(gòu)50中，磁體6a和6b以及線圈基底7a和7b在尋跡方向T上相互間反向偏開。即，這對磁體6a和6b只是部分地相互面對，而且線圈基底7a和7b也只是部分地相互面對。因此，如圖2A和2B所示，物鏡4在周向上部分地形成了一個空間。光路3置于此空間內(nèi)，來自激光源2的激光束被引到物鏡4下方的位置處。通過這種結(jié)構(gòu)，就可以將磁體6a和6b、線圈基底7a和7b以及來自激光源2的激光束的光路3設(shè)置在相同的高度水平，從而減小了拾取裝置的整體高度(厚度)。
圖3A到3C顯示了磁體和線圈基底之間的位置關(guān)系。圖3A顯示了磁體6a和6b相對于動臂機構(gòu)50的設(shè)置，圖3B顯示了線圈基底7a和7b相對于動臂機構(gòu)50的設(shè)置，而圖3C顯示了磁體6a和6b以及線圈基底7a和7b相對于動臂機構(gòu)50的設(shè)置。除此之外，圖3A到3C顯示了從安裝位置中向上移出的磁體和線圈基底。即，在圖3A到3C中，磁體和線圈基底從所示位置中平行地移動到下方的位置并固定于此。
如圖3A所示，磁體6a和6b固定在磁軛11內(nèi)以相互面對。而且，如圖3B所示，線圈基底7a和7b沿鏡頭托架5的縱向分別安裝在側(cè)面上。如上所述，鏡頭托架5通過四條懸置線10可動地支撐于磁體6a和6b之間的空間內(nèi)。結(jié)果，如圖3C所示，磁體6a和線圈基底7a設(shè)置成相互接近，而磁體6b和線圈基底7b設(shè)置成相互接近。
圖4A到4C為顯示了磁體的平面圖。圖4A顯示了磁體6a，而圖4B顯示了磁體6b。磁體6a和6b通過用磁化裝置將預(yù)定大小的鐵件進(jìn)行磁化而制出。通過此磁化裝置，可以在磁體6a和6b上形成所示的磁化圖案。如圖4A所示，磁體6a具有由北極磁化區(qū)域18a、南極磁化區(qū)域19a以及區(qū)域18a和19a之間的邊界區(qū)域20a構(gòu)成的磁化圖案。另外，如圖4B所示，磁體6b具有由北極磁化區(qū)域18b、南極磁化區(qū)域19b以及區(qū)域18b和19b之間的邊界區(qū)域20b構(gòu)成的磁化圖案。
圖4C顯示了磁體6a和6b之間的位置關(guān)系。如圖3A所示，磁體6a和6b分別固定在磁軛11上以相互面對。圖4C顯示了在磁體6a和6b在磁軛11上相互面對的狀態(tài)下磁體6a和6b的磁化圖案之間的位置關(guān)系。圖4C顯示了從圖3A中箭頭80的方向看去的磁體6a和6b的磁化圖案之間的相對位置關(guān)系。磁體6a由虛線表示，磁體6b由實線表示。
如圖4C所示，當(dāng)從箭頭80的方向看去時，磁體6a和6b部分地相互面對且在側(cè)向上部分地具有重疊部分。在此處，在從圖3A中箭頭80的方向看去的透視圖中，磁體6a的北極磁化區(qū)域18a和磁體6b的北極磁化區(qū)域18b相互重疊，而磁體6a的南極磁化區(qū)域19a和磁體6b的南極磁化區(qū)域19b相互重疊。另外，磁體6a的邊界區(qū)域20a和磁體6b的邊界區(qū)域20b相互重疊。結(jié)果，在磁體6a和6b之間的空間、即放置了鏡頭托架5的空間內(nèi)形成了基本上下凹的磁場，其對應(yīng)于圖4C中示意性示出的磁化圖案(在下文中稱為“組合磁化圖案”)。
接著將介紹線圈基底。圖5A是線圈基底7a的平面圖，而圖5B是線圈基底7b的平面圖。線圈基底7a為印刷布線板，并具有形成于基底表面上的尋跡線圈13a和聚焦線圈14a。另外，在線圈基底7a上形成了焊接區(qū)15a和16a以與相對的線圈基底7b相連。
同時，線圈基底7b也為印刷布線板，并具有形成于基底表面上的尋跡線圈13b和聚焦線圈14b。而且，在線圈基底7b上形成了焊接區(qū)15b和16b以與相對的線圈基底7a相連。在安裝于鏡頭托架5的側(cè)面上的狀態(tài)下，線圈基底7a的聚焦線圈14a和線圈基底7b的聚焦線圈14b基本上相互面對。
圖6A顯示了在安裝于鏡頭托架5上的狀態(tài)下的線圈基底7a和7b之間的相對位置關(guān)系。圖6A透視性地顯示了從圖3B所示的箭頭81方向看去的鏡頭托架5上的線圈基底7a和7b之間的相對位置關(guān)系。線圈基底7a由虛線表示，而線圈基底7b由實線表示。如圖6A所示，線圈基底7a和7b安裝在鏡頭托架5上，其相對位置關(guān)系使得從鏡頭托架5一側(cè)看去時，聚焦線圈14a和14b基本上相互重疊。另外在此狀態(tài)下，線圈基底7a的焊接區(qū)15a和線圈基底7b的焊接區(qū)15b相互面對，線圈基底7a的焊接區(qū)16a和線圈基底7b的焊接區(qū)16b相互面對。在線圈基底7a和7b以這種方式安裝在鏡頭托架5上的狀態(tài)下，相對的焊接區(qū)15a和15b以及相對的焊接區(qū)16a和16b通過連接線22(見圖3A到3C)電連接在一起。此電連接對線圈基底7b的尋跡線圈13b和聚焦線圈14b施加驅(qū)動電流。
圖6B顯示了由磁體6a和6b形成的磁場以及尋跡線圈和聚焦線圈在此磁場中的設(shè)置。如圖所示，磁體6a和6b形成了一個與圖6B中基本上下凹形狀(由虛線示出)的組合磁化圖案相對應(yīng)的磁場。圖4A所示的磁體6a的邊界區(qū)域20a幾乎縱向地穿過圖5A所示線圈基底7a的矩形尋跡線圈13a的中心。圖4B所示的磁體6b的邊界區(qū)域20b幾乎穿過圖5B所示線圈基底7b的矩形尋跡線圈13b的中心。另外，磁體6a和6b的邊界區(qū)域20a和20b幾乎橫向地穿過線圈基底7a和7b的矩形聚焦線圈14a和14b的中心。其上連接了線圈基底7a和7b的鏡頭托架5置于磁體6a和6b之間的空間內(nèi)，以便形成這種相對位置關(guān)系。
接著將介紹懸置線10的設(shè)置。懸置線10由具有彈性的線性金屬等制成。在本發(fā)明的動臂機構(gòu)50中，鏡頭托架5由四條懸置線10支撐。如圖1A和3A所示，四條懸置線10的一端固定在動臂機構(gòu)基座8上，而另一端固定在與鏡頭托架5形成一體的線圈基底7a和7b上。因此，鏡頭托架5處于磁體6a和6b之間的空間內(nèi)，同時通過四條懸置線10在水平方向上得到支撐。通過懸置線10的彈性，夾持物鏡4的鏡頭托架5可以在與懸置線10的縱向(振動方向J)正交的聚焦方向F和尋跡方向T上移動。
圖7顯示了動臂機構(gòu)基座8、懸置線10和鏡頭托架5之間的相對位置關(guān)系。在本發(fā)明中，為了將激光束的光路放置在與線圈基底7相同的垂直水平處，兩個相對的線圈基底7a和7b安裝在鏡頭托架5上并在橫向(尋跡方向T)上偏開。因此，懸置線10并不與振動方向J平行。即，懸置線10在與振動方向J形成預(yù)定角度的方向上延伸，懸置線10的端部固定在動臂機構(gòu)基座8上。
參考圖7B和7C，圖中詳細(xì)地描述了上述結(jié)構(gòu)。圖7B顯示了在典型的動臂機構(gòu)基座、懸置線和鏡頭托架之間的相對位置關(guān)系。在圖7B中，鏡頭托架121被動臂機構(gòu)基座123的四條懸置線124所支撐。應(yīng)當(dāng)注意的是，由于圖7B是顯示了動臂機構(gòu)的頂部的平面圖，因此只顯示出了兩條上懸置線。在鏡頭托架121上安裝了物鏡120和一對線圈基底122a和122b。如圖7B所示，當(dāng)這對線圈基底122a和122b置于鏡頭托架121的兩側(cè)以完全地相互面對(即與本發(fā)明不同，在尋跡方向T上沒有偏移)時，固定在動臂機構(gòu)基座8和鏡頭托架121上的四條懸置線124相互間平行地設(shè)置。
另一方面，圖7C示意性地顯示了在本發(fā)明的動臂機構(gòu)50中的動臂機構(gòu)基座8、懸置線10和鏡頭托架5之間的相對位置關(guān)系。在本發(fā)明的情況下，線圈基底7a和7b安裝在鏡頭托架5的兩側(cè)以部分地相互面對。具體地說，線圈基底7a在圖7C中向下偏移，而線圈基底7b在圖7C中向上偏移，從而形成了用于設(shè)置光路3的空間。
因此，懸置線10并不相互平行，而是在鏡頭托架5的方向上一定程度地打開。具體地說，如圖7C所示，各條懸置線10以與鏡頭托架5的方向(即振動方向J)形成一個增大的角度而延伸到鏡頭托架5中，懸置線10的端部固定在動臂機構(gòu)基座8上。而且，從與圖7B的比較中可明顯看出，懸置線10與動臂機構(gòu)基座8的固定位置31和32在振動方向J上偏移了距離L。也就是說，懸置線與動臂機構(gòu)基座8的固定位置31和32間的連線并不與線圈基底7a和7b平行。其原因如下所述。由于鏡頭托架5一側(cè)上的懸置線10的支撐位置相對于振動方向J設(shè)置在不同的水平，因此當(dāng)動臂機構(gòu)基座8一側(cè)上的懸置線10的支撐位置在振動方向J上沒有偏移時，四條懸置線10無法具有相同的長度，這樣便破壞了鏡頭托架5的重心和四條懸置線10的彈簧常數(shù)之間的關(guān)系。為了防止這一問題的發(fā)生，動臂機構(gòu)基座8一側(cè)上的懸置線10的支撐位置31和32在振動方向J上產(chǎn)生偏移，四條懸置線10可具有相同的長度。
而且，當(dāng)采用相同長度的懸置線時，可以減少部件的數(shù)量，從而降低生產(chǎn)成本。然而，并不總是需要懸置線具有相同的長度，也可以采用不同的長度。在這種情況下，此結(jié)構(gòu)可由適當(dāng)?shù)卦O(shè)定懸置線的彈簧常數(shù)等來形成。
另外，圖7C只顯示了四條懸置線10中處于聚焦方向上的兩條上懸置線10。兩條下懸置線10夾持在下方并與兩條上懸置線10平行。
這樣，在本發(fā)明的動臂機構(gòu)50中，懸置線10的方向并未設(shè)置成平行，而是朝向鏡頭托架5一定程度地打開。其原因之一是，由于鏡頭托架的寬度在尋跡方向上通過偏移線圈基底的位置而增大，因此動臂機構(gòu)一側(cè)上的彈簧間隔(即支撐線10之間的間隔)可降低到在拾取裝置上具有較小的投影區(qū)域。另一原因是，通過提供互不平行的懸置線，懸置線的彈簧常數(shù)在從圖3的箭頭81方向看去的扭轉(zhuǎn)方向上增大，因此扭轉(zhuǎn)方向上的波形頻率(滾動頻率)可高于平行的彈簧。另外，動臂機構(gòu)基座8一側(cè)上的懸置線10的固定位置31和32在振動方向J上偏開。
接著將介紹鏡頭托架。圖8A到8D顯示了鏡頭托架5的結(jié)構(gòu)。圖8A是鏡頭托架5的頂視圖，圖8B是鏡頭托架5的底視平面圖，圖8C是從斜上方看去的鏡頭托架5的透視圖，而圖8D是從斜下方看去的鏡頭托架5的透視圖。
如圖8A到8D所示，鏡頭托架5具有用于安裝物鏡4的安裝孔40。安裝孔40從鏡頭托架5的重心41偏向光路3的一側(cè)。物鏡通常置于鏡頭托架中心的周圍(鏡頭托架的重心周圍，見圖7B)。然而在本發(fā)明中，拾取裝置100構(gòu)造成使得安裝在鏡頭托架5上的線圈基底7a和7b在尋跡方向T上偏開，從而得到用于將激光束引到物鏡下方的光路。因此，將物鏡安裝在鏡頭托架5上的位置朝向激光束的光路3偏移。由于激光束的光路3必須到達(dá)物鏡4的下方，因此當(dāng)物鏡4位于鏡頭托架5的中心的周圍時，激光束的光路3必須到達(dá)鏡頭托架5的中心的周圍。因此，光路3一側(cè)上的線圈基底7b應(yīng)當(dāng)更大地偏移，以得到在鏡頭托架5一側(cè)上更大的空間。相反，如圖8A所示，當(dāng)物鏡4的位置(即安裝孔40的位置)朝向光路3偏移時，光路3更靠近鏡頭托架5的端部，從而減少了光路3一側(cè)上的線圈基底7b的偏移量。因此，可以減少鏡頭托架5的長度。
而且，當(dāng)鏡頭托架5上的物鏡4的安裝位置沿光路3的方向偏移時，鏡頭托架5自身的重心在安裝了物鏡4之后朝向光路3的一側(cè)偏移。因此，如圖8C和8D所示，鏡頭托架5的結(jié)構(gòu)應(yīng)如下所述地設(shè)計。也就是說，例如，鏡頭托架5的物鏡4的另一側(cè)上的壁部分42和43的厚度應(yīng)形成為大于物鏡安裝孔40一側(cè)上的部分44的厚度，這樣當(dāng)物鏡4安裝在鏡頭托架5上時，鏡頭托架5的重心基本上處于中心位置。這樣，可以消除因沿光路方向移動物鏡位置而可能引起的鏡頭托架的重心偏移。
另外如圖8A所示，懸置線10在鏡頭托架5上的固定位置33和34的中點與由懸置線10所支撐的鏡頭托架5的重心41基本上重合。即，在圖8A中，懸置線10分別固定在鏡頭托架5(更準(zhǔn)確地說是鏡頭托架5上的線圈基底7b和7a)的固定位置33和34處。在這種情況下，固定位置33和34的中點與鏡頭托架5的重心41基本上重合。結(jié)果，鏡頭托架5的兩端可由懸置線10均衡地夾持，因而防止了鏡頭托架5的擺動等。
另外，如圖8A到8D所示，鏡頭托架5包括止動部分59，51和52。止動部分59，51和52用于限制鏡頭托架5在聚焦方向F和尋跡方向T上的行程(移動范圍)。因此，當(dāng)聚焦伺服或?qū)ほE伺服引起故障時，可以防止鏡頭托架5不受限制地移動而與主體1及其它部件接觸并損壞鏡頭托架5、物鏡4等。
在本發(fā)明的鏡頭托架5中，止動部分59具有聚焦方向F上的止動件和尋跡方向T上的止動件的功能。也就是說，鏡頭托架5在聚焦方向F上的運動受到止動部分59和51的限制，而鏡頭托架5在尋跡方向T上的運動受到止動部分59和52的限制。
圖9A顯示了通過止動部分59和51在聚焦方向F上限制行程的狀態(tài)。止動部分59(以虛線示出)從下方與主體1的蓋子55接觸，止動部分51類似地從下方與主體1的蓋子56接觸，從而限制了鏡頭托架5在聚焦方向F(即圖9A中的向上方向)上的運動。
圖9B和9C顯示了通過止動部分59和52在尋跡方向T上限制行程的狀態(tài)。在圖9B中，止動部分59與設(shè)于主體1上的下凹部分57的側(cè)壁接觸。在圖9C中，止動部分52與設(shè)于主體1上的下凹部分58的側(cè)壁接觸。這樣就限制了鏡頭托架5在尋跡方向T上的運動范圍。
如上所述，在本發(fā)明的鏡頭托架5中，物鏡4的位置在光路3的方向上偏移。另外，如圖8D所示，鏡頭托架5上的物鏡安裝孔40一側(cè)的部分具有較小的厚度，而鏡頭托架5上的物鏡安裝孔40相反一側(cè)的部分具有較大的厚度，從而可調(diào)節(jié)鏡頭托架5的重心。而且，希望能減少在安裝孔40周圍設(shè)于光路3的方向上的部件數(shù)量，以便不妨礙從激光源2到達(dá)物鏡4下方的激光束的光路。出于這些原因，止動部分59具有在聚焦方向F和尋跡方向T上的行程限制功能。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的動臂機構(gòu)，安裝在鏡頭托架上的一對線圈基底在鏡頭托架的縱向(尋跡方向T)上偏開，以得到用于將激光束引到物鏡下方的位置處的光路。因此，可將激光束引到物鏡下方與線圈基底和磁體相同高度水平的位置處，從而減少整個動臂機構(gòu)的厚度。
權(quán)利要求
1.一種動臂機構(gòu)(50)，包括具有用于夾持物鏡(4)的頂面和用于夾持線圈基底(7a，7b)的一對側(cè)面的鏡頭托架(5)；固定在所述頂面上的所述物鏡；和固定在所述一對側(cè)面上的所述一對線圈基底，其特征在于，所述物鏡固定在從所述鏡頭托架的重心(41)偏向所述鏡頭托架一端的位置處，和所述一對線圈基底中的一個固定在所述鏡頭托架的一個所述側(cè)面上的從所述鏡頭托架的所述端部到所述鏡頭托架的中心部分的范圍內(nèi)，而所述線圈基底中的另一個固定在所述鏡頭托架的另一所述側(cè)面上的從所述鏡頭托架的另一端部到所述鏡頭托架的中心部分的范圍內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的動臂機構(gòu)(50)，其特征在于，所述鏡頭托架(5)具有位于所述另一端部一例處的質(zhì)量部分(42，43)，所述質(zhì)量部分具有比所述鏡頭托架的所述端部(44)的質(zhì)量更大的質(zhì)量。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的動臂機構(gòu)(50)，其特征在于，所述鏡頭托架包括設(shè)置在所述端部的第一止動部分(59)以及設(shè)置在所述另一端部的第二止動部分(51)和第三止動部分(52)，所述第二止動部分(51)與安裝了所述動臂機構(gòu)的主體(1)上的一部分接觸，從而限制所述鏡頭托架在光盤的聚焦方向(F)上的運動，所述第三止動部分(52)與所述主體上的所述部分接觸，從而限制所述鏡頭托架在所述光盤的尋跡方向(T)上的運動，和所述第一止動部分(59)與所述主體上的所述部分接觸，從而限制所述鏡頭托架在所述聚焦方向和尋跡方向上的運動。
4.根據(jù)權(quán)利要求1到3中任一項所述的動臂機構(gòu)(50)，其特征在于，所述動臂機構(gòu)還包括具有一對磁軛(11)的動臂機構(gòu)基座(8)；以及固定在所述這對磁軛上的一對磁體(6a，6b)，其中各所述磁體均定位成與各所述線圈基底(7a，7b)相對。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的動臂機構(gòu)(50)，其特征在于，各所述線圈基底(7a，7b)包括尋跡線圈(13a，13b)和聚焦線圈(14a，14b)，它們在所述線圈基底的水平方向上相互對齊地形成，所述線圈基底只在形成所述聚焦線圈的區(qū)域處相互面對。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的動臂機構(gòu)(50)，其特征在于，各所述線圈基底(7a，7b)包括位于形成所述聚焦線圈(14a，14b)的區(qū)域內(nèi)的一對焊接區(qū)(15a，15b，16a，16b)，所述鏡頭托架(5)還包括將所述一對線圈基底上的焊接區(qū)電連接的連接線(22)。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的動臂機構(gòu)(50)，其特征在于，各所述磁體(6a，6b)包括磁化圖案，其具有邊界區(qū)域(20a，20b)以及位于所述邊界區(qū)域兩側(cè)的北極區(qū)域(18a，18b)和南極區(qū)域(19a，19b)，所述邊界區(qū)域的垂直延伸部分垂直地穿過所述線圈基底的尋跡線圈(13a，13b)，所述邊界區(qū)域的水平延伸部分垂直地穿過所述線圈基底的聚焦線圈(14a，14b)。
全文摘要
一種在用于光盤的驅(qū)動裝置的拾取裝置(100)中使用的動臂機構(gòu)(50)。動臂機構(gòu)定位成與光盤相對以將來自光源的光束照射到光盤的信息記錄面上。物鏡(4)固定在形成了動臂機構(gòu)(50)的鏡頭托架(5)上的離其一端更近的位置處。一個線圈基底(7)固定在鏡頭托架的一個側(cè)面上的從鏡頭托架的所述端部到鏡頭托架的中心部分的范圍內(nèi)，而另一線圈基底(7)固定在鏡頭托架的另一側(cè)面上的從鏡頭托架的另一端部到鏡頭托架的中心部分的范圍內(nèi)。因此，在鏡頭托架的靠近物鏡側(cè)的端部，線圈基底不與鏡頭托架的一側(cè)相連，提供了處于物鏡下方的空間。通過此空間來設(shè)置將光束引導(dǎo)到物鏡的光學(xué)系統(tǒng)(3)，就可將光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置在與動臂機構(gòu)相同的高度水平。
文檔編號G11B7/12GK1462033SQ03138078
公開日2003年12月17日 申請日期2003年5月27日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月27日
發(fā)明者鈴木純, 黑木英治, 堀口宗之 申請人:日本先鋒公司