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一種雙自由度平面拋光裝置制造方法技術資料下載

技術編號:3310786

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本發(fā)明涉及一種雙自由度平面拋光裝置,適用于光學元件、非晶薄膜襯底等工件表面的研磨與拋光加工,它包括底盤和工件移動機構,底盤為方形研磨盤,方形研磨盤的盤面粒度沿著長邊方向從左至又依次遞增;工件移動機構包括真空吸盤、工件轉動軸、氣缸、滑臺、水平云臺、控制滑臺水平方向左右移動的第一滾軸絲杠和第一直線導軌、控制水平云臺前后移動的第二滾軸絲杠和第二直線導軌;第一滾軸絲杠和第一直線導軌的兩端固定在水平云臺上,本發(fā)明結構簡單緊湊,成本較低,自動化程度高,通過方形研磨盤的...
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