專利名稱：X射線曝光計(jì)算器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種X射線曝光計(jì)算器。
X射線探傷中，關(guān)鍵在于得到一張黑度，反差等符合標(biāo)準(zhǔn)的X光片。然后要做到這一點(diǎn)將與諸多因素有關(guān)，如膠片種類(lèi)、工件厚度、拍攝焦距、X光機(jī)工作電壓(KV值)，以及曝光量等。因此，探傷人員在拍片時(shí)很需要正確、快速地選定拍出好片所需的有關(guān)要求數(shù)據(jù)。最近，一種標(biāo)有膠片類(lèi)型及特性數(shù)值、黑度、焦距、工作厚度、曝光量和X光機(jī)工作電壓KV值的轉(zhuǎn)盤(pán)式曝光計(jì)算器。能一定程度地滿足上述要求，它由上、中、底三張園盤(pán)構(gòu)成，上、中盤(pán)如附圖4、圖3所示，底盤(pán)如附

圖1所示。它的不足之處是底盤(pán)(圖1)上膠片類(lèi)型選用不能直觀、快速地確定，還需對(duì)照不同型號(hào)膠片進(jìn)行分析計(jì)算。
本實(shí)用新型的目的就是針對(duì)上述底盤(pán)(圖1)上的不足之處，改進(jìn)為能夠直觀、快速地確定多種常用膠片類(lèi)型的轉(zhuǎn)盤(pán)式X射線曝光計(jì)算器。
本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是X射線曝光計(jì)算器，它包括一鉚釘同心串接且可相互轉(zhuǎn)動(dòng)的底盤(pán)(圖2)、中盤(pán)(圖3)和透明色的上盤(pán)(圖4)，其底盤(pán)(圖2)的一園弧線上標(biāo)有焦距(CM.FFD)的刻度和0～240范圍的數(shù)字；中盤(pán)(圖3)凸緣部分的園弧線上標(biāo)有黑度(Density)的刻度和1.5～4.0范圍的數(shù)字，二條直線上標(biāo)有厚度的0～100范圍的數(shù)字，上盤(pán)(圖4)中標(biāo)有若干條曲線(KVp)和100～300范圍的數(shù)字；其特別之處是底盤(pán)(圖2)的另一園弧線上用5個(gè)框標(biāo)注上5組膠片類(lèi)型和相應(yīng)的五條刻線。
本實(shí)用新型由于(一)將底盤(pán)(圖1)上各類(lèi)膠片歸納成5類(lèi)，并把國(guó)產(chǎn)膠片也歸類(lèi)進(jìn)去，并采用5個(gè)方框標(biāo)示。(二)將底盤(pán)(圖1)上表示膠片類(lèi)型特性的0.15～3的微分刻度刪去，并改進(jìn)為與5組膠片類(lèi)型相應(yīng)的5條刻線。這樣，在使用時(shí)就能供操作人員任意選用進(jìn)口或國(guó)產(chǎn)膠片，從而可直觀、快速地對(duì)應(yīng)上某類(lèi)型的膠片。
附圖1為本實(shí)用新型改進(jìn)前的底盤(pán)示意圖。
附圖2為本實(shí)用新型的底盤(pán)示意圖。
附圖3為本實(shí)用新型的中盤(pán)示意圖。
附圖4為本實(shí)用新型的上盤(pán)示意圖。
附圖5為本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
下面對(duì)本實(shí)用新型作詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型采用上、中、底三層轉(zhuǎn)盤(pán)式結(jié)構(gòu)，底盤(pán)(圖2)上的膠片類(lèi)型標(biāo)示系參照已知底盤(pán)(圖1)上的標(biāo)示刻度，結(jié)合目前在我國(guó)常用的膠片類(lèi)型，通過(guò)分析計(jì)算歸成五大類(lèi)，并把技術(shù)指標(biāo)相同或相近的國(guó)產(chǎn)膠片與進(jìn)口膠片歸并在同一類(lèi)，并標(biāo)明在同一方框中，再在每一框下選定一點(diǎn)標(biāo)上刻度線。這樣，探傷人員就可非常方便地選擇對(duì)應(yīng)的類(lèi)型膠片。使用方法是若測(cè)工件厚度30cm，選擇“天津5型”膠片，黑度2.0，焦距40cm，曝光量25mA.min。則把中盤(pán)(圖3)凸緣處的黑度2.0標(biāo)示處的刻線對(duì)準(zhǔn)底盤(pán)(圖2)中標(biāo)示有“天津5型”方框下的刻線，然后在上盤(pán)(圖4)的曝光量弧線上找到25的刻度，轉(zhuǎn)動(dòng)上盤(pán)(圖4)。使25刻點(diǎn)的刻度線對(duì)準(zhǔn)底盤(pán)(圖2)上焦距40的刻度線上，這樣，從中盤(pán)(圖3)的厚度標(biāo)示直線30mm的點(diǎn)上和與該點(diǎn)相交的可看到上盤(pán)(圖4)中的一條電壓曲線就可得出200KV的X光機(jī)的工作電壓了。
權(quán)利要求X射線曝光計(jì)算器，它包括一鉚釘同心串接且可相互轉(zhuǎn)動(dòng)的底盤(pán)、中盤(pán)和透明色的上盤(pán)，其特征是底盤(pán)的一圓弧線上標(biāo)有焦距(CmFFD)的刻度和0～240范圍的數(shù)字，另一圓弧線上用5個(gè)框標(biāo)注上5組膠片類(lèi)型和相應(yīng)的5條刻線；中盤(pán)凸緣部分的圓弧線上標(biāo)有黑度(Density)的刻度和1.5～4.0范圍的數(shù)字，二條直線上標(biāo)有厚度的刻度和0～100范圍的數(shù)字；上盤(pán)中標(biāo)有若干條電壓曲線(KVP)和100～300范圍的數(shù)字。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種X射線曝光計(jì)算器，它采用上、中、底三層轉(zhuǎn)盤(pán)式結(jié)構(gòu)，由底盤(pán)(圖2)，中盤(pán)(圖3)、透明色上盤(pán)(圖4)，以及鉚釘組成，三個(gè)盤(pán)中各標(biāo)有膠片型號(hào)、黑度、曝光量、焦距、工件厚度和KV值，使用該計(jì)算器能快速、方便地得到拍攝某一工件厚度所需的X光機(jī)工作電壓KV值。
文檔編號(hào)G06G1/00GK2114193SQ9123243
公開(kāi)日1992年8月26日 申請(qǐng)日期1991年12月10日 優(yōu)先權(quán)日1991年12月10日
發(fā)明者孫云奇 申請(qǐng)人:孫云奇