技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種觸摸屏銅制程方法，包括以下步驟：S1：提供基材層，在所述基材層上依次形成ITO膜層及金屬銅膜層，且所述金屬銅膜層包括可視區(qū)及非可視區(qū)，所述ITO膜層位于所述可視區(qū)內(nèi)；S2：對所述金屬銅膜層進(jìn)行光刻，以得到預(yù)設(shè)的ITO膜層圖案；S3：在所述金屬銅膜層的非可視區(qū)表面形成保護(hù)膜層；S4：對所述可視區(qū)內(nèi)的金屬銅膜層進(jìn)行蝕刻，以去除所述ITO膜層上的金屬銅膜層；S5：去除所述金屬銅膜層的非可視區(qū)表面的保護(hù)膜層。本發(fā)明提供的觸摸屏銅制程方法，通過將金屬銅膜層與ITO采用一次成型的方式，替代了采用Ag與ITO進(jìn)行搭接方式，解決了采用Ag與ITO的搭接精度不高的問題。另，本發(fā)明還提供了一種采用上述銅制程方法制備得到的觸摸屏。

技術(shù)研發(fā)人員：宋洪波;李均;李學(xué)才
受保護(hù)的技術(shù)使用者：意力（廣州）電子科技有限公司
文檔號碼：201610653312
技術(shù)研發(fā)日：2016.08.10
技術(shù)公布日：2017.01.04