單片式電容觸摸屏的制作方法
【專(zhuān)利摘要】一種單片式電容觸摸屏，包括透明基板以及遮蔽層，所述遮蔽層的內(nèi)表面與所述透明基板相連，在所述遮蔽層的外表面形成有光密度大于所述遮蔽層光密度的蓋底層，所述遮蔽層的外側(cè)邊緣距所述透明基板的周?chē)鷤?cè)邊存在間距，在靠近所述遮蔽層的內(nèi)側(cè)邊緣位置設(shè)置有光密度大于遮蔽層光密度的遮蔽增強(qiáng)層，所述遮蔽增強(qiáng)層環(huán)繞所述遮蔽層的內(nèi)側(cè)周邊設(shè)置，且所述遮蔽增強(qiáng)層的一部分位于遮蔽層與所述透明基板之間，而另一部分從所述遮蔽層的內(nèi)側(cè)邊緣處伸出。本發(fā)明的側(cè)邊不會(huì)產(chǎn)生側(cè)蝕現(xiàn)象，且本發(fā)明的遮蔽層的遮光效果好，可避免在內(nèi)側(cè)邊緣處發(fā)生漏光現(xiàn)象。
【專(zhuān)利說(shuō)明】單片式電容觸摸屏

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種觸控技術(shù)，尤其是一種單片式電容觸摸屏。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著信息技術(shù)、無(wú)線通訊技術(shù)等信息產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，人們對(duì)電子產(chǎn)品的需求與日俱增，為了使產(chǎn)品更方便人們操作和使用，許多電子產(chǎn)品已開(kāi)始采用觸摸屏作為輸入裝置，觸摸屏作為一種全新的人機(jī)交流方式，因其具有生動(dòng)直觀的操作接口且符合人體的使用習(xí)慣，在人們生活和工作中，應(yīng)用越來(lái)越廣泛。
[0003]傳統(tǒng)的電容觸摸屏通常包括保護(hù)蓋板和觸控感應(yīng)模塊，所述保護(hù)蓋板和觸控感應(yīng)模塊通過(guò)OCA膠相粘合，該種結(jié)構(gòu)形式的電容觸摸屏厚度較厚且透光性能較差；而單片式電容觸控屏是通過(guò)在透明基板上直接鍍制透明導(dǎo)電線路層，實(shí)現(xiàn)保護(hù)蓋板與觸控感應(yīng)模塊的一體化，省去了至少一片玻璃或薄膜，減少了貼合次數(shù)，其厚度更薄，透光率更高，已逐步成為電容觸摸屏發(fā)展主流之一。
[0004]參見(jiàn)圖1，傳統(tǒng)的單片式電容觸摸屏通常包括透明基板Γ，在所述透明基板的周邊設(shè)置有遮蔽層Ir，該遮蔽層1Γ主要用以遮蓋位于透明基板周邊的線路層，以避免透明基板周邊的線路層而通過(guò)透明基板透視于外，進(jìn)而影響單片式觸摸屏的視觀效果，圖1中，所述遮蔽層IP內(nèi)側(cè)部分為觸摸屏的可視區(qū)12'，其用以對(duì)外向用戶提供操作界面且顯示相應(yīng)圖像；在加工制作單片式電容觸摸屏?xí)r，由于黑色或灰色材料比白色或其它有色材料的光密度較高，在加工制造過(guò)程中，光密度相對(duì)較高的材料的工藝更容易控制，所以常見(jiàn)的單片式電容觸摸屏的遮蔽層IP通常設(shè)置為黑色或灰色。
[0005]隨著產(chǎn)品使用者對(duì)觸摸屏外觀多樣化的需求，近年來(lái)，電容觸摸屏的遮蔽層逐漸出現(xiàn)其它色彩，如白色、金色或紅色等色彩的電容觸摸屏；由于白色、金色或紅色等色彩的光阻或油墨材料的光密度較低，在采用這些光密度較低的光阻或油墨制作遮蔽層時(shí)，為了達(dá)到良好的遮光效果，遮蔽層的厚度通常加工的比較厚，該厚度較厚的遮蔽層存在以下問(wèn)題:(I)在該種結(jié)構(gòu)形式的遮蔽層上制作線路層時(shí)，因遮蔽層厚度較厚，極易造成線路層出現(xiàn)斷線現(xiàn)象；(2)由于遮蔽層的光密度較低，如工藝控制不好，制作完成的觸摸屏在與LCM貼合后，LCM發(fā)出的光線，很容易在遮蔽層出現(xiàn)漏光現(xiàn)象；尤其是在遮蔽層的內(nèi)側(cè)邊緣處，因工藝原因，其厚度相對(duì)較薄，很容易發(fā)生光線漏光現(xiàn)象；另外，在所述遮蔽層外表面上制作光密度相對(duì)較大的蓋底層時(shí)，因制作所述蓋底層而產(chǎn)生的相應(yīng)材料殘留很容易在透明基板邊緣處顯露于外，進(jìn)而影響整個(gè)觸摸屏產(chǎn)品的外觀效果；(3)在對(duì)所述透明基材進(jìn)行二次強(qiáng)化時(shí)，因遮蔽層與透明基板之間存在的高度差較大，在透明基板上貼附抗酸膜時(shí)，致使抗酸膜與透明基板貼附的不是很緊密，進(jìn)而在透明基板強(qiáng)化過(guò)程中，氫氟酸滲透至透明基板側(cè)邊而對(duì)透明基板造成側(cè)蝕現(xiàn)象；基于以上觸摸屏所存在的問(wèn)題，有必要對(duì)此種結(jié)構(gòu)的單片式電容觸摸屏進(jìn)一步做出改進(jìn)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種單片式電容觸摸屏，該單片式電容觸摸屏的側(cè)邊不會(huì)產(chǎn)生側(cè)蝕現(xiàn)象，且本發(fā)明的遮蔽層的遮光效果好，不會(huì)在內(nèi)側(cè)邊緣處發(fā)生漏光現(xiàn)象。
[0007]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用下述技術(shù)方案:該單片式電容觸摸屏，包括透明基板以及環(huán)繞所述透明基板周邊設(shè)置的遮蔽層，所述遮蔽層的內(nèi)表面與所述透明基板相連，在所述遮蔽層的外表面形成有光密度大于所述遮蔽層光密度的蓋底層，所述遮蔽層的外側(cè)邊緣距所述透明基板的周?chē)鷤?cè)邊存在間距，在靠近所述遮蔽層的內(nèi)側(cè)邊緣位置設(shè)置有光密度大于遮蔽層光密度的遮蔽增強(qiáng)層，所述遮蔽增強(qiáng)層環(huán)繞所述遮蔽層的內(nèi)側(cè)周邊設(shè)置，且所述遮蔽增強(qiáng)層的一部分位于遮蔽層與所述透明基板之間，而另一部分從所述遮蔽層的內(nèi)側(cè)邊緣處伸出。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的設(shè)計(jì)構(gòu)思，本發(fā)明在所述遮蔽層的外側(cè)邊緣與透明基板的間距處設(shè)置有光密度低于所述蓋底層的填充層，所述填充層的厚度大于等于所述遮蔽層而小于等于遮蔽層與蓋底層的厚度之和。
[0009]根據(jù)本發(fā)明的設(shè)計(jì)構(gòu)思，所述蓋底層的外側(cè)邊緣向所述遮蔽層外表面內(nèi)側(cè)縮進(jìn)而在遮蔽層的邊緣處形成間距，所述填充層覆蓋該間距；所述蓋底層的內(nèi)側(cè)邊緣位于所述遮蔽增強(qiáng)層的外表面內(nèi)側(cè)且所述蓋底層的內(nèi)側(cè)邊緣與所述遮蔽增強(qiáng)層的內(nèi)側(cè)邊緣亦存在間距。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的設(shè)計(jì)構(gòu)思，本發(fā)明遮蔽層為多層結(jié)構(gòu)，且所述遮蔽層的各層的內(nèi)側(cè)邊緣到所述透明基板的周邊的距離逐層縮減，所述遮蔽增強(qiáng)層位于所述遮蔽層的最下層且所述遮蔽增強(qiáng)層的內(nèi)側(cè)邊從所述遮蔽層最下層的內(nèi)側(cè)邊緣處伸出。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的設(shè)計(jì)構(gòu)思，本發(fā)明遮蔽層各層的外側(cè)邊緣至所述透明基板的周邊的距離相等。
[0012]根據(jù)本發(fā)明的設(shè)計(jì)構(gòu)思，本發(fā)明遮蔽增強(qiáng)層的厚度為1-3μπι，寬度為300-500 μ m ;且位于所述遮蔽層與所述透明基板之間的遮蔽增強(qiáng)層的寬度為90-200 μ m。
[0013]根據(jù)本發(fā)明的設(shè)計(jì)構(gòu)思，本發(fā)明遮蔽增強(qiáng)層的寬度為350-450 μ m，且位于所述遮蔽層與所述透明基板的遮蔽增強(qiáng)層的寬度為110-180 μ m。
[0014]根據(jù)本發(fā)明的設(shè)計(jì)構(gòu)思，本發(fā)明遮蔽層的外側(cè)邊緣與所述透明基板的周?chē)鷤?cè)邊的間距為350-450 μ m，所述蓋底層的外側(cè)邊緣與所述遮蔽層的外側(cè)邊緣的間距為150-300 μ mD
[0015]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有下述有益效果:(1)由于本發(fā)明的遮蔽層的外側(cè)邊緣距所述透明基板的周?chē)鷤?cè)邊存在間距，在對(duì)觸摸屏進(jìn)行二次強(qiáng)化而在透明基板上貼附抗酸膜時(shí)，抗酸膜在該間距處貼附的比較緊湊，進(jìn)而避免了氫氟酸滲透至透明基板側(cè)邊而對(duì)透明基板造成側(cè)蝕現(xiàn)象；(2)又因?yàn)楸景l(fā)明在遮蔽層的外表面形成有蓋底層，且在遮蔽層的內(nèi)側(cè)邊緣處設(shè)置有遮蔽增強(qiáng)層，該蓋底層和遮蔽增強(qiáng)層的光密度比較高，遮光效果較好，當(dāng)觸摸屏與LCM貼合后，由于遮蔽層的外表面以及內(nèi)側(cè)邊緣處具有光密度相對(duì)較大的蓋底層和遮蔽增強(qiáng)層遮擋，LCM發(fā)出的光線，不會(huì)在在遮蔽層以及遮蔽層的內(nèi)側(cè)邊緣處產(chǎn)生漏光現(xiàn)象；(3)由于本發(fā)明的遮蔽層的外側(cè)邊緣與所述透明基板的側(cè)邊之間設(shè)置有間距，且蓋底層的外側(cè)邊緣向遮蔽層外表面內(nèi)側(cè)縮進(jìn)一定間距，這樣，在制作蓋底層時(shí)，如果制作蓋底層的材料存在殘留，由于間距的存在，可保證制作蓋底層的相應(yīng)的材料殘留最大限度的位于該艱巨內(nèi)，由于該間距內(nèi)的材料殘留具有遮蔽層遮擋，進(jìn)而可防止因制作蓋底層所產(chǎn)生的相應(yīng)的材料殘留，造成觸摸屏邊緣被玷污而形成黑邊或灰邊等外部不良現(xiàn)象；(4)本發(fā)明在所述遮蔽層的外側(cè)邊緣和所述蓋底層外側(cè)邊緣與所述透明基板的側(cè)邊的間距處設(shè)置填充層，該填充層可在產(chǎn)品二次強(qiáng)化后，防止LCM發(fā)出的光經(jīng)觸摸屏邊緣預(yù)留的余量處發(fā)出，提高了觸摸屏的防漏光性能；(5)由于發(fā)明遮蔽層的各層的內(nèi)側(cè)邊緣與所述透明基板的周邊的距離逐層縮減，在該種結(jié)構(gòu)形式的遮蔽層上設(shè)置線路層時(shí)，由于各層之間較為平緩上升，因此，位于透明基板可視區(qū)的觸控線路在蓋底層或遮蔽層上設(shè)置線路時(shí)而不會(huì)產(chǎn)生斷線，從而提聞了廣品品質(zhì)。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0016]圖1為傳統(tǒng)單片式電容觸摸屏的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為本發(fā)明的俯視結(jié)構(gòu)示意圖，
圖3為本發(fā)明圖2中A-A向的剖視結(jié)構(gòu)示意圖，圖中只是象征性的示出了遮蔽層的結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)中遮蔽層的單層或多層結(jié)構(gòu)均作為一個(gè)整體結(jié)構(gòu)示出。
[0017]圖4為本發(fā)明圖3中B區(qū)的局部放大結(jié)構(gòu)示意圖；
圖5為本發(fā)明圖2中A-A向的另一種結(jié)構(gòu)形式的剖視結(jié)構(gòu)示意圖，圖中象征性的示出了遮蔽層為三層時(shí)的結(jié)構(gòu)。
[0018]圖6為本發(fā)明圖5中C區(qū)的局部放大結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0019]首先，需要進(jìn)行說(shuō)明的是，本發(fā)明所稱(chēng)的透明基材I為透明材質(zhì)，該透明材質(zhì)可以是無(wú)堿玻璃或透明柔性樹(shù)脂板，當(dāng)然也可以是有堿玻璃；透明柔性樹(shù)脂板可以是聚對(duì)苯二甲酸乙二脂(PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚碳酸脂。本發(fā)明所稱(chēng)的遮蔽層、蓋底層、遮蔽增強(qiáng)層以及填充層既可采用油墨材料制成，也可采用光阻材料所制成，光密度較大的材料可選擇黑色或灰色油墨或光阻，光密度較小的材料，可選擇白色、紅色或金色等色彩的油墨或光阻。
[0020]參見(jiàn)圖2、圖3和圖4，本發(fā)明的單片式電容觸摸屏，包括透明基材I，在靠近所述透明基材I的周邊位置設(shè)置有遮蔽層11，遮蔽層11環(huán)繞透明基板I的周邊設(shè)置。所述遮蔽層11的內(nèi)側(cè)為觸摸屏的可視區(qū)12，在該可視區(qū)12內(nèi)設(shè)置有感應(yīng)電極區(qū)，在感應(yīng)電極區(qū)的周邊設(shè)置有線路層，所述線路層與所述感應(yīng)電極區(qū)電性連接。而遮蔽層11的主要作用就是為了遮蓋位于透明基板周邊的線路層，以避免線路層透視于外而影響單片式電容觸摸屏的視覺(jué)效果。
[0021]本發(fā)明的遮蔽層11如采用光密度較低的材料制作，比如采用白色、金色或紅色等光阻或油墨材料制作時(shí)，由于該類(lèi)材料的光密度比較低，為對(duì)光線達(dá)到良好的遮蔽效果，遮蔽層11通常加工的比較厚，進(jìn)而，在遮蔽層11周邊設(shè)置線路層時(shí)，線路層很容易產(chǎn)生斷線現(xiàn)象；為避免遮蔽層11厚度過(guò)厚而致使線路層產(chǎn)生斷線現(xiàn)象，且提高遮蔽層11對(duì)光線的遮蔽性能，本發(fā)明在遮蔽層11的外表面還形成有蓋底層13，該蓋底層13的材料的光密度大于遮蔽層11材料的光密度，比如蓋底層13可采用光密度較高的黑色或灰色光阻或油墨而制成，而遮蔽層11可采用光密度相對(duì)較小的白色、金色或紅色等光密度相對(duì)較小的光阻或油墨材料而制成。
[0022]由于本發(fā)明的遮蔽層11的外表面設(shè)置有蓋底層13，且該蓋底層13的光密度較大，因此，該種結(jié)構(gòu)形式的遮蔽層11的厚度可相對(duì)做的較薄，且本發(fā)明的遮蔽層11各層之間為層階式結(jié)構(gòu)，在該種結(jié)構(gòu)形式的遮蔽層上設(shè)置線路層時(shí)，由于各層之間較為平緩上升，因此，位于透明基板可視區(qū)的觸控線路在蓋底層或遮蔽層上設(shè)置線路時(shí)而不會(huì)產(chǎn)生斷線，進(jìn)而使產(chǎn)品良率得到提升。
[0023]同時(shí)，為避免在加工制作所述蓋底層13時(shí)，制作所述蓋底層13的材料在透明基板11的邊緣處產(chǎn)生殘留，而影響觸摸屏產(chǎn)品邊緣的呈現(xiàn)效果，比如:因制作所述蓋底層13而產(chǎn)生的材料殘留，在透明基板I的邊緣處經(jīng)透明基板I顯露于外；本發(fā)明的蓋底層13的邊緣位于所述遮蔽層11的外表面內(nèi)側(cè)，也就是說(shuō)，本發(fā)明的蓋底層13的邊緣向遮蔽層11的外表面內(nèi)側(cè)縮進(jìn)一定距離，即所述遮蔽層11的外側(cè)邊緣與所述遮蓋層11的外側(cè)邊緣存在間距，該間距優(yōu)選為150-300 μ m。由于該間距的存在，在制作所述蓋底層13時(shí)，即使產(chǎn)生相應(yīng)材料的殘留，由于該材料殘留位于該間距內(nèi)，因該間距的范圍為所述遮蔽層11所覆蓋，因此，可保證殘留的材料不會(huì)從透明基板I處而顯露于外，進(jìn)而使單片式觸摸屏的產(chǎn)品良率得到進(jìn)一步提升。
[0024]同樣的，為了避免制作蓋底層13所產(chǎn)生的相應(yīng)材料殘留而在遮蔽層11內(nèi)側(cè)邊緣處顯露于外，本發(fā)明的蓋底層13的內(nèi)側(cè)邊緣亦位于所述遮蔽層11的外表面內(nèi)側(cè)位置，即蓋底層13的內(nèi)側(cè)邊緣向所述遮蔽層11外表面內(nèi)側(cè)縮進(jìn)而在遮蔽層11的邊緣處形成間距；在制作蓋底層13時(shí)，由于蓋底層13的內(nèi)側(cè)邊緣位于遮蔽層11的外表面內(nèi)側(cè)位置，且蓋底層13與遮蔽層11的內(nèi)側(cè)邊緣存在間距，因此，即使蓋底層13的產(chǎn)生相應(yīng)的材料殘留，該材料殘留也會(huì)位于遮蔽層11的內(nèi)側(cè)，而不會(huì)通過(guò)透明基板I而顯露于外，進(jìn)而確保產(chǎn)品品質(zhì)。
[0025]另外，由于遮蔽層11內(nèi)側(cè)邊緣處的邊緣厚度較薄，如采用光密度較低的材料制作遮蔽層11時(shí)，遮蔽層11內(nèi)側(cè)邊緣處的遮蔽性能較差，很容易發(fā)生漏光現(xiàn)象，為避免該不良現(xiàn)象，本發(fā)明在所述遮蔽層11的內(nèi)側(cè)邊緣處設(shè)置遮蔽增強(qiáng)層14，該遮蔽增強(qiáng)層14的材料的光密度大于遮蔽層11材料的光密度；所述遮蔽增強(qiáng)層14環(huán)繞所述遮蔽層11的內(nèi)側(cè)周邊設(shè)置，且遮蔽增強(qiáng)層14的一部分位于遮蔽層11與所述透明基板I之間，而另一部分從所述遮蔽層11的內(nèi)側(cè)邊緣伸出；為避免制作蓋底層13而產(chǎn)生的相應(yīng)材料殘留而在遮蔽層11內(nèi)側(cè)邊緣處顯露于外，所述蓋底層13的內(nèi)側(cè)邊緣位于所述遮蔽增強(qiáng)層14的外表面內(nèi)側(cè)位置，且所述蓋底層13的內(nèi)側(cè)邊緣與所述遮蔽增強(qiáng)層14的內(nèi)側(cè)邊緣亦存在間距。
[0026]由以上結(jié)構(gòu)可以看出，由于本發(fā)明的遮蔽層11的外表面覆蓋有光密度相對(duì)較大的蓋底層13，遮蔽層11的內(nèi)側(cè)邊緣處設(shè)置有光密度相對(duì)較大的遮蔽增強(qiáng)層14，在該蓋底層13和遮蔽增強(qiáng)層14的作用下，遮蔽層11以及遮蔽層11的內(nèi)側(cè)邊緣處均不會(huì)產(chǎn)生漏光現(xiàn)象；另外，由于蓋底層13的內(nèi)側(cè)邊緣位于所述遮蔽增強(qiáng)層14的外表面內(nèi)側(cè)位置，該結(jié)構(gòu)也可避免在制作該蓋底層13時(shí)，因蓋底層13所產(chǎn)生的材料殘留使觸摸屏的可視區(qū)12受到侵蝕的現(xiàn)象。
[0027]作為本發(fā)明的實(shí)施例，本發(fā)明的遮蔽增強(qiáng)層14的厚度為1_3μπι，寬度為300-500 μ m;且使位于所述遮蔽層11與所述透明基板I之間的遮蔽增強(qiáng)層14的寬度為90-200 μ m。為使本發(fā)明的效果達(dá)到最優(yōu)，作為本發(fā)明的優(yōu)選方案，所述遮蔽增強(qiáng)層14的寬度優(yōu)選為350-450 μ m，且位于所述遮蔽層11與所述透明基板I的遮蔽增強(qiáng)層14的寬度優(yōu)選為 110-180 μ m。
[0028]此外，為防止在二次強(qiáng)化時(shí)，氫氟酸滲透至透明基板I的側(cè)邊而對(duì)本發(fā)明的透明基板I造成側(cè)蝕現(xiàn)象，本發(fā)明的遮蔽層11設(shè)置在透明基板I的內(nèi)部，也就是說(shuō)，遮蔽層11的外側(cè)邊緣相對(duì)透明基板I的外側(cè)邊緣向透明基板I的內(nèi)部縮進(jìn)一定距離，使所述遮蔽層11的外側(cè)邊緣與所述透明基板I的周?chē)鷤?cè)邊存在間距，該間距優(yōu)選為350-450 μ m ;由于該間距的存在，在對(duì)觸摸屏進(jìn)行二次強(qiáng)化而在透明基板I上貼附抗酸膜時(shí)，抗酸膜在該間距處與所述透明基板I貼附的比較緊湊，進(jìn)而可防止氫氟酸滲透至透明基板I的側(cè)邊而對(duì)透明基板I造成側(cè)蝕現(xiàn)象。
[0029]同時(shí)，在對(duì)觸摸屏進(jìn)行二次強(qiáng)化后，為防止光線從透明基板的側(cè)邊間距處漏出，本發(fā)明在遮蔽層11的外側(cè)邊緣和外側(cè)邊緣與透明基板的間距處設(shè)置有填充層15，同時(shí)，在蓋底層13的外側(cè)邊緣相對(duì)遮蔽層11的外側(cè)邊緣向遮蔽層11內(nèi)部縮進(jìn)而形成的間距處亦覆蓋該填充層15，該填充層15光密度小于所述蓋底層13的材料的光密度，填充層15的厚度優(yōu)選大于或等于遮蔽層11的厚度，而小于等于遮蔽層11與蓋底層13的厚度之和。
[0030]參見(jiàn)圖5和圖6，作為對(duì)本發(fā)明上述實(shí)施例中的遮蔽層11的進(jìn)一步細(xì)化，作為示例，圖5和圖6中所示出的遮蔽層11為三層結(jié)構(gòu)，且所述遮蔽層11的各層的內(nèi)側(cè)邊緣至所述透明基板I的周邊的距離逐層縮減，進(jìn)而使所述遮蔽層11各層之間從下到上形成層階式結(jié)構(gòu)。另外，為了保證遮蔽層11遮蔽效果，本發(fā)明的遮蔽層11各層的外側(cè)邊緣至所述透明基板I的周邊的距離優(yōu)選為等距離設(shè)置。遮蔽增強(qiáng)層14位于所述遮蔽層11的最下層位置且所述遮蔽增強(qiáng)層14的內(nèi)側(cè)邊從所述遮蔽層11最下層的內(nèi)側(cè)邊緣處伸出。
[0031]采用該層階式結(jié)構(gòu)設(shè)置的遮蔽層11，由于遮蔽層11各層的內(nèi)側(cè)邊緣與所述透明基板I的周邊的距離逐層縮減，在該種結(jié)構(gòu)形式的遮蔽層11上設(shè)置線路層時(shí)，由于各層之間的坡度平緩上升，可避免在遮蔽層11上或蓋底層13上設(shè)置線路時(shí)產(chǎn)生斷線現(xiàn)象，進(jìn)而使產(chǎn)品良率得到提高。另外，遮蔽增強(qiáng)層14位于所述遮蔽層11的最下層位置，也可確保在遮蔽層11的內(nèi)側(cè)邊緣處不會(huì)產(chǎn)生漏光現(xiàn)象。
[0032]顯而易見(jiàn)的是，本發(fā)明中的遮蔽層11亦可設(shè)置為其它數(shù)目的多層結(jié)構(gòu)，同樣的，多層結(jié)構(gòu)形式下的遮蔽層11，其各層的內(nèi)側(cè)邊緣至所述透明基板I的周邊的距離亦逐層縮減，亦在所述遮蔽層11各層之間從下到上形成層階式結(jié)構(gòu)，同時(shí)，確保所述遮蔽增強(qiáng)層14位于所述遮蔽層11的最下層位置，且使所述遮蔽增強(qiáng)層14的內(nèi)側(cè)邊從所述遮蔽層11最下層的內(nèi)側(cè)邊緣處伸出。該種結(jié)構(gòu)形式的遮蔽層11和遮蔽增強(qiáng)層14結(jié)構(gòu)，可防止在遮蔽層11上布線時(shí)，線路層產(chǎn)生斷線現(xiàn)象；同時(shí)，遮蔽增強(qiáng)層14結(jié)構(gòu)可確保在遮蔽層11的內(nèi)側(cè)邊緣處不會(huì)產(chǎn)生漏光現(xiàn)象。
【權(quán)利要求】
1.一種單片式電容觸摸屏，包括透明基板以及環(huán)繞所述透明基板周邊設(shè)置的遮蔽層，所述遮蔽層的內(nèi)表面與所述透明基板相連，其特征在于，在所述遮蔽層的外表面形成有光密度大于所述遮蔽層光密度的蓋底層，所述遮蔽層的外側(cè)邊緣距所述透明基板的周?chē)鷤?cè)邊存在間距，在靠近所述遮蔽層的內(nèi)側(cè)邊緣位置設(shè)置有光密度大于遮蔽層光密度的遮蔽增強(qiáng)層，所述遮蔽增強(qiáng)層環(huán)繞所述遮蔽層的內(nèi)側(cè)周邊設(shè)置，且所述遮蔽增強(qiáng)層的一部分位于遮蔽層與所述透明基板之間，而另一部分從所述遮蔽層的內(nèi)側(cè)邊緣處伸出。
2.如權(quán)利要求1所述的單片式電容觸摸屏，其特征在于，在所述遮蔽層的外側(cè)邊緣與透明基板的間距處設(shè)置有光密度低于所述蓋底層的填充層，所述填充層的厚度大于等于所述遮蔽層而小于等于遮蔽層與蓋底層的厚度之和。
3.如權(quán)利要求2所述的單片式電容觸摸屏，其特征在于，所述蓋底層的外側(cè)邊緣向所述遮蔽層外表面內(nèi)側(cè)縮進(jìn)而在遮蔽層的邊緣處形成間距，所述填充層覆蓋該間距；所述蓋底層的內(nèi)側(cè)邊緣位于所述遮蔽增強(qiáng)層的外表面內(nèi)側(cè)且所述蓋底層的內(nèi)側(cè)邊緣與所述遮蔽增強(qiáng)層的內(nèi)側(cè)邊緣亦存在間距。
4.如權(quán)利要求3所述的單片式電容觸摸屏，其特征在于，所述遮蔽層為多層結(jié)構(gòu)，且所述遮蔽層的各層的內(nèi)側(cè)邊緣到所述透明基板的周邊的距離逐層縮減，所述遮蔽增強(qiáng)層位于所述遮蔽層的最下層且所述遮蔽增強(qiáng)層的內(nèi)側(cè)邊從所述遮蔽層最下層的內(nèi)側(cè)邊緣處伸出。
5.如權(quán)利要求4所述的單片式電容觸摸屏，其特征在于，所述遮蔽層各層的外側(cè)邊緣至所述透明基板的周邊的距離相等。
6.如權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的單片式電容觸摸屏，其特征在于，所述遮蔽增強(qiáng)層的厚度為1-3 μ m，寬度為300-500 μ m;且位于所述遮蔽層與所述透明基板之間的遮蔽增強(qiáng)層的寬度為90-200 μ m。
7.如權(quán)利要求6所述的單片式電容觸摸屏，其特征在于，所述遮蔽增強(qiáng)層的寬度為350-450 μ m,且位于所述遮蔽層與所述透明基板的遮蔽增強(qiáng)層的寬度為110-180 μ m。
8.如權(quán)利要求7所述的單片式電容觸摸屏，其特征在于，所述遮蔽層的外側(cè)邊緣與所述透明基板的周?chē)鷤?cè)邊的間距為350-450 μ m，所述蓋底層的外側(cè)邊緣與所述遮蔽層的外側(cè)邊緣的間距為150-300 μ m。
【文檔編號(hào)】G06F3/044GK104461199SQ201410728409
【公開(kāi)日】2015年3月25日 申請(qǐng)日期:2014年12月3日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月3日
【發(fā)明者】胡峰, 袁天下, 賴(lài)正憲 申請(qǐng)人:伯恩光學(xué)(惠州)有限公司