觸摸屏的制作方法
【專利摘要】一種觸摸屏，包括：觸控基板，包括透明襯底、設(shè)于透明襯底一側(cè)的第一導(dǎo)電層、設(shè)于透明襯底與第一導(dǎo)電層之間的透明粘結(jié)層及設(shè)于透明襯底上的第二觸控電極；第一導(dǎo)電層包括基質(zhì)及嵌入基質(zhì)中的導(dǎo)電納米絲線，導(dǎo)電納米絲線交錯(cuò)連接形成導(dǎo)電網(wǎng)格；基質(zhì)為固化的透明感光樹脂，第一導(dǎo)電層被圖案化而形成多個(gè)第一觸控電極；第一觸控電極與第二觸控電極分別用于確定觸控點(diǎn)的X軸向坐標(biāo)及Y軸向坐標(biāo)；保護(hù)面板，設(shè)于觸控基板的一側(cè)；透明光學(xué)膠層，設(shè)于觸控基板及保護(hù)面板之間，用于粘結(jié)觸控基板及保護(hù)面板。上述觸摸屏具有較好的導(dǎo)電性能。
【專利說明】觸摸屏
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及觸控【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種觸摸屏。
【背景技術(shù)】
[0002]觸摸屏是可接收觸摸輸入信號的感應(yīng)式裝置。觸摸屏賦予了信息交互嶄新的面貌，是極富吸引力的全新信息交互設(shè)備。觸摸屏技術(shù)的發(fā)展引起了國內(nèi)外信息傳媒界的普遍關(guān)注，已成為光電行業(yè)異軍突起的朝陽高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)。
[0003]觸摸屏包括觸控基板及層疊于觸控基板上的保護(hù)面板。傳統(tǒng)的觸控基板的制作方法通常為:
[0004](I)直接在透明襯底上形成導(dǎo)電層。以ITO(Indium Tin Oxide,氧化銦錫)導(dǎo)電層為例，需要先進(jìn)行ITO鍍膜，再對得到的ITO層進(jìn)行圖形化處理。由于導(dǎo)電層裸露在外，容易被劃傷，進(jìn)而導(dǎo)致導(dǎo)電層的導(dǎo)電性能降低。
[0005](2)在透明襯底上設(shè)置透明基質(zhì)層，然后采用壓印等方式在透明基質(zhì)層上形成網(wǎng)格狀凹槽，再于網(wǎng)格狀凹槽中填充導(dǎo)電材料(例如，金屬、石墨烯等)，形成網(wǎng)格狀導(dǎo)電層。由于網(wǎng)格狀導(dǎo)電層的一側(cè)暴露于透明基質(zhì)層外，而很多導(dǎo)電材料(例如，金屬銀)易被空氣氧化。而導(dǎo)電材料被氧化會(huì)導(dǎo)致網(wǎng)格狀導(dǎo)電層的導(dǎo)電性能降低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]基于此，有必要提供一種具有較好導(dǎo)電性能的觸摸屏。
[0007]一種觸摸屏，包括:
[0008]觸控基板，包括透明襯底、設(shè)于所述透明襯底一側(cè)的第一導(dǎo)電層、設(shè)于所述透明襯底與所述第一導(dǎo)電層之間的透明粘結(jié)層及設(shè)于所述透明襯底上的第二觸控電極；所述第一導(dǎo)電層包括基質(zhì)及嵌入所述基質(zhì)中的導(dǎo)電納米絲線，所述導(dǎo)電納米絲線交錯(cuò)連接形成導(dǎo)電網(wǎng)格；所述基質(zhì)為固化的透明感光樹脂，所述第一導(dǎo)電層被圖案化而形成多個(gè)第一觸控電極；所述第一觸控電極與所述第二觸控電極分別用于確定觸控點(diǎn)的X軸向坐標(biāo)及Y軸向坐標(biāo)；
[0009]保護(hù)面板，設(shè)于所述觸控基板的一側(cè)；及
[0010]透明光學(xué)膠層，設(shè)于所述觸控基板及所述保護(hù)面板之間，用于粘結(jié)所述觸控基板及保護(hù)面板。
[0011]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述透明襯底的厚度為0.02mm?0.5mm。
[0012]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述透明襯底的厚度為0.05mm?0.2mm。
[0013]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一導(dǎo)電層的厚度為0.05 μ m?10 μ m。
[0014]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一導(dǎo)電層的厚度為0.08μπι?2μπι。
[0015]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一導(dǎo)電層的方阻為0.1 Ω / □?500 Ω / 口，所述導(dǎo)電納米絲線為金納米絲線、銀納米絲線、銅納米絲線、鋁納米絲線或碳納米絲線。
[0016]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一導(dǎo)電層的方阻為50 Ω / □?200 Ω / 口。[0017]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述導(dǎo)電納米絲線的直徑為IOnm?IOOOnm,長度為20nm?50 μ m0
[0018]在其中一個(gè)實(shí)施例中，部分所述導(dǎo)電納米絲線露出所述第一導(dǎo)電層遠(yuǎn)離所述透明襯底的一側(cè)外。
[0019]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述透明粘結(jié)層的材質(zhì)與所述基質(zhì)的材質(zhì)相同。
[0020]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述透明粘結(jié)層的厚度為0.5 μ m?50 μ m。
[0021]在其中一個(gè)實(shí)施例中，還包括折射率調(diào)節(jié)層；所述折射率調(diào)節(jié)層設(shè)于所述觸控基板具有所述第一導(dǎo)電層的一側(cè)，所述折射率調(diào)節(jié)層的折射率為1.6?2.8。
[0022]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述折射率調(diào)節(jié)層的材質(zhì)為Ti02、Nb2O5或1，3，5-三嗪_2，4，6-三胺類化合物。
[0023]在其中一個(gè)實(shí)施例中，還包括保護(hù)層；所述保護(hù)層設(shè)于所述觸控基板具有所述第一導(dǎo)電層的一側(cè)。
[0024]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述保護(hù)層遠(yuǎn)離所述透明襯底的一側(cè)與所述第一導(dǎo)電層遠(yuǎn)離所述透明襯底的一側(cè)之間的距離為0.1 μ m?10 μ m。
[0025]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述觸控基板還包括設(shè)于所述透明襯底另一側(cè)的第二導(dǎo)電層，所述第二觸控電極由所述第二導(dǎo)電層圖案化而形成；所述第一觸控電極呈長條狀，多個(gè)所述第一觸控電極平行間隔排列，所述第二觸控電極呈長條狀，多個(gè)所述第二觸控電極平行間隔排列，且所述第二觸控電極與所述第一觸控電極垂直設(shè)置。
[0026]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一觸控電極的結(jié)構(gòu)及材質(zhì)與所述第二觸控電極的結(jié)構(gòu)及材質(zhì)相同。
[0027]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第二導(dǎo)電層為ITO導(dǎo)電層、金屬網(wǎng)格導(dǎo)電層、石墨烯導(dǎo)電層、碳納米管導(dǎo)電層或?qū)щ姼叻肿訉?dǎo)電層。
[0028]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第二觸控電極也由第一導(dǎo)電層圖案化而形成，多個(gè)所述第一觸控電極分別沿縱向延伸并橫向間隔排列，每一所述第一觸控電極與若干所述第二觸控電極配合用于相互耦合形成耦合電容，與每一所述第一觸控電極配合的若干所述第二觸控電極沿縱向間隔排列。
[0029]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一觸控電極及所述第二觸控電極呈梳狀，所述第一觸控電極與若干所述第二觸控電極相互嵌合。
[0030]上述觸控基板的第一導(dǎo)電層中的導(dǎo)電網(wǎng)格被基質(zhì)包覆，從而使得上述第一導(dǎo)電層能較好的避免劃傷，不容易損壞。同時(shí)大大降低了導(dǎo)電網(wǎng)格與空氣接觸的機(jī)會(huì)，使得上述第一導(dǎo)電層不容易被氧化。因此，上述觸摸屏具有較好導(dǎo)電性能。而且上述第一導(dǎo)電層以導(dǎo)電納米絲線交錯(cuò)連接形成的導(dǎo)電網(wǎng)格實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電，相對于ITO導(dǎo)電層，其具有相對較低的電阻率。而且導(dǎo)電納米絲線相對于ITO柔韌性更好，從而使得上述觸摸屏具有較好的抗彎折性。此外，導(dǎo)電納米絲線交錯(cuò)連接形成的導(dǎo)電網(wǎng)格以基質(zhì)為載體，且該基質(zhì)由透明感光樹脂固化而成，在制作第一導(dǎo)電層時(shí)，直接通過曝光顯影即可得到，無需額外涂覆、剝離光刻膠的步驟，可以簡化工藝。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0031]圖1為一實(shí)施方式的觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖；[0032]圖2為圖1中的觸摸屏的分解圖；
[0033]圖3為圖1中的觸控基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖4為圖3中的第一導(dǎo)電層與透明粘結(jié)層的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖5為另一實(shí)施方式中的觸控基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖6為另一實(shí)施方式中的觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖7為一實(shí)施方式中的觸控基板的制作方法的流程圖；
[0038]圖8為一實(shí)施方式中的干膜未去除保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0039]圖9為一實(shí)施方式中的干膜處于第一次曝光的狀態(tài)圖；
[0040]圖10為圖9中的干膜處于第二次曝光的狀態(tài)圖；
[0041]圖11為圖10中的干膜顯影后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0042]圖12為另一實(shí)施方式中的干膜顯影后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043]圖13為另一實(shí)施方式的觸控基板的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0044]下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對觸摸屏進(jìn)行進(jìn)一步的說明。
[0045]如圖1及圖2所示，一實(shí)施方式的觸摸屏10，包括觸控基板100、透明光學(xué)膠層200及保護(hù)面板300。
[0046]觸控基板100包括透明襯底、設(shè)于透明襯底一側(cè)的第一導(dǎo)電層、設(shè)于透明襯底與第一導(dǎo)電層之間的透明粘結(jié)層及設(shè)于透明襯底上的第二觸控電極。第一導(dǎo)電層包括基質(zhì)及嵌入基質(zhì)中的導(dǎo)電納米絲線，導(dǎo)電納米絲線交錯(cuò)連接形成導(dǎo)電網(wǎng)格?；|(zhì)為固化的透明感光樹脂，第一導(dǎo)電層被圖案化而形成若干第一觸控電極。第一觸控電極與第二觸控電極分別用于確定觸控點(diǎn)的X軸向坐標(biāo)及Y軸向坐標(biāo)。
[0047]如圖3所示，在本實(shí)施方式中，觸控基板100包括透明襯底110、第一導(dǎo)電層120、透明粘結(jié)層130、第二導(dǎo)電層140、折射率調(diào)節(jié)層150及保護(hù)層160。
[0048]透明襯底110的材質(zhì)可以為玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、環(huán)烯烴共聚物或環(huán)烯烴聚合物。透明襯底110的厚度為0.02mm?0.5mm0進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，在綜合考慮透明襯底110的加工難易程度及觸摸屏10的整體厚度后，透明襯底110的厚度優(yōu)選為0.05mm?0.2mm。
[0049]如圖2?4所示，第一導(dǎo)電層120設(shè)于透明襯底110—側(cè)。第一導(dǎo)電層120包括基質(zhì)122及均勻嵌入基質(zhì)122中的導(dǎo)電納米絲線124。這些導(dǎo)電納米絲線124交錯(cuò)連接形成導(dǎo)電網(wǎng)格，使得該第一導(dǎo)電層120整體均勻?qū)щ??；|(zhì)122為固化的透明感光樹脂。第一導(dǎo)電層120被圖案化而形成多個(gè)第一觸控電極126。在本實(shí)施方式中,第一觸控電極126呈長條狀，多個(gè)第一觸控電極126平行間隔排列。
[0050]在本實(shí)施方式中，部分導(dǎo)電納米絲線124露出第一導(dǎo)電層120遠(yuǎn)離透明襯底110的一側(cè)外。雖然部分導(dǎo)電納米絲線124暴露在基質(zhì)122外，但是導(dǎo)電納米絲線124交錯(cuò)連接形成的導(dǎo)電網(wǎng)格的主體部分還是被基質(zhì)122包覆，因此，上述觸控基板100相對于傳統(tǒng)的觸控基板具有更好的抗氧化及抗劃傷能力。
[0051]第一導(dǎo)電層120的厚度為0.05 μ m?10 μ m。在設(shè)計(jì)第一導(dǎo)電層120的厚度時(shí),需要考慮導(dǎo)電納米絲線124是否能較好的嵌入基質(zhì)122中以及觸摸屏10的整體厚度等因素。在綜合上述因素后，第一導(dǎo)電層120的厚度優(yōu)選為0.08 μ m?2 μ m。
[0052]在本實(shí)施方式中，導(dǎo)電納米絲線124的直徑為IOnm?lOOOnm，長度為20nm?50 μ m。由于導(dǎo)電納米絲線124的直徑小于人眼的可視寬度，從而保證第二導(dǎo)電層140的視覺透明性。導(dǎo)電納米絲線124可以為金納米絲線、銀納米絲線、銅納米絲線、鋁納米絲線、碳納米絲線等易于制備且具有較好導(dǎo)電性能的導(dǎo)電絲線。
[0053]進(jìn)一步,在本實(shí)施方式中,第一導(dǎo)電層120的方阻為0.1 Ω/ □?500 Ω / □,相較于ITO導(dǎo)電層具有更好的導(dǎo)電性,更適合用于制作如平板電腦(pad)、一體機(jī)(All in one,ΑΙ0)、筆記本(NoteBook)等尺寸較大的觸控產(chǎn)品。
[0054]第一導(dǎo)電層120的導(dǎo)電性與導(dǎo)電納米絲線124的直徑及導(dǎo)電納米絲線124分布密度相關(guān)，直徑越大，分布密度越大，則導(dǎo)電性越好，即方阻越低。然而，導(dǎo)電納米絲線124的直徑越大、分布密度越大，導(dǎo)電層的透過率越低。因此，為了保證透過率和導(dǎo)電性的平衡，第一導(dǎo)電層120的方阻優(yōu)選為50 Ω / □?200 Ω / □。
[0055]透明粘結(jié)層130設(shè)于透明襯底110及第一導(dǎo)電層120之間，從而使得第一導(dǎo)電層120能較好的附著于透明襯底110上。在本實(shí)施方式中，透明粘結(jié)層130的厚度為0.5 μ m?50 μ m。進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，透明粘結(jié)層130的厚度大于第一導(dǎo)電層120的厚度。
[0056]進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，透明粘結(jié)層130的材質(zhì)與基質(zhì)122的材質(zhì)相同，即均為固化的透明感光樹脂，從而便于同時(shí)對第一導(dǎo)電層120及透明粘結(jié)層130進(jìn)行圖案化。
[0057]第二導(dǎo)電層140設(shè)于透明襯底110另一側(cè)，第二觸控電極由第二導(dǎo)電層140圖案化而形成。該第二導(dǎo)電層140為ITO導(dǎo)電層，并被圖案化而形成多個(gè)長條狀的第二觸控電極142。這些第二觸控電極142平行間隔排列并與第一觸控電極126垂直設(shè)置。當(dāng)導(dǎo)體，例如手指觸摸時(shí)，第一觸控電極126及第二觸控電極142由于電容變化而形成觸控信號，分別用于確定觸控點(diǎn)的X軸向坐標(biāo)及Y軸向坐標(biāo)。
[0058]可以理解，在其他實(shí)施方式中，第二導(dǎo)電層140也可以是金屬網(wǎng)格導(dǎo)電層、石墨烯導(dǎo)電層、碳納米管導(dǎo)電層或?qū)щ姼叻肿訉?dǎo)電層。第二導(dǎo)電層140也可以與第一導(dǎo)電層120具有相似的結(jié)構(gòu)。第二導(dǎo)電層140的結(jié)構(gòu)及材質(zhì)與第一導(dǎo)電層120結(jié)構(gòu)及材質(zhì)相同。即第二導(dǎo)電層140包括基質(zhì)及均勻嵌入該基質(zhì)中的導(dǎo)電納米絲線，這些導(dǎo)電納米絲線交錯(cuò)連接形成導(dǎo)電網(wǎng)格，使得該第二導(dǎo)電層140整體均勻?qū)щ姟？梢岳斫猓诙?dǎo)電層140與透明襯底110之間也可以設(shè)有透明粘結(jié)層。
[0059]由于第一導(dǎo)電層120被圖案化而形成，使得第一導(dǎo)電層120不連續(xù)，保留的部分構(gòu)成觸控基板100的圖案部，被去除的部分構(gòu)成觸控基板100的背景部，圖案部與背景部由于材質(zhì)不同，存在反射率差異，特別是，當(dāng)圖案部與背景部存在較大的高度差時(shí)，光線照射在觸控基板100上時(shí)，觸控基板100上的圖案容易被用戶看到，進(jìn)而影響觸控基板100的視覺效果。
[0060]在本實(shí)施方式中，通過設(shè)置折射率調(diào)節(jié)層150來解決上述問題。折射率調(diào)節(jié)層150的折射率為1.6?2.8，設(shè)于第一導(dǎo)電層120上，并同時(shí)覆蓋圖案部及背景部。
[0061]進(jìn)一步，在實(shí)施方式中，折射率調(diào)節(jié)層150的材質(zhì)為Ti02、Nb205、l，3，5-三嗪_2，4，6-三胺類化合物等透明絕緣材質(zhì)。進(jìn)一步，折射率調(diào)節(jié)層150的厚度為20nm?10 μ m0
[0062]為防止第一導(dǎo)電層120在生產(chǎn)和使用過程中被刮傷，還在第一導(dǎo)電層120遠(yuǎn)離透明襯底110的一側(cè)設(shè)置保護(hù)層160，并同時(shí)覆蓋圖案部及背景部。在本實(shí)施方式中，保護(hù)層160的材質(zhì)為熱固化樹脂、紫外固化樹脂等絕緣材質(zhì)。保護(hù)層160遠(yuǎn)離透明襯底110的一側(cè)與第一導(dǎo)電層120遠(yuǎn)離透明襯底110的一側(cè)之間的距離為0.Ιμπι?ΙΟμπι。
[0063]可以理解，在其他實(shí)施方式中，可以同時(shí)缺省折射率調(diào)節(jié)層150及保護(hù)層160，也可以缺省射率調(diào)節(jié)層150與保護(hù)層160中的一者。圖5即為缺省折射率調(diào)節(jié)層150的情況。
[0064]如圖6所示，在其他實(shí)施方式中，觸控基板400僅包括透明襯底410及設(shè)于透明襯底410相對兩表面其中之一的導(dǎo)電層420。導(dǎo)電層420被圖案化而形成多個(gè)第一觸控電極421及多個(gè)第二觸控電極423。多個(gè)第一觸控電極421分別沿縱向延伸并橫向間隔排列，每一第一觸控電極421與若干第二觸控電極423配合用于相互耦合形成耦合電容。與每一第一觸控電極421配合的若干第二觸控電極423沿縱向間隔排列。這些第一觸控電極421及第二觸控電極423呈梳狀。每一第一觸控電極421與若干相互間隔并沿縱向排列的第二觸控電極423相互嵌合。通過檢測第一觸控電極421與對應(yīng)第二觸控電極423的電容變化，判斷觸摸點(diǎn)的坐標(biāo)。其中，第一觸控電極421可用于判定觸摸點(diǎn)的X軸坐標(biāo)，對應(yīng)的第二觸控電極423可用于判定觸摸點(diǎn)的Y軸坐標(biāo)。
[0065]如圖7所示，在本實(shí)施方式中，還提供一種如圖3所示觸控基板100的制作方法，包括如下步驟:
[0066]步驟S510，提供透明襯底110。
[0067]在本實(shí)施方式中，透明襯底110—側(cè)預(yù)先設(shè)有作為觸控基板100的第二導(dǎo)電層140的ITO層，以便后續(xù)形成第二觸控電極。
[0068]步驟S520，提供一干膜600，如圖8所示，干膜600由流體狀的透明感光樹脂預(yù)固化及壓制而形成，干膜600的透明感光樹脂為半固態(tài)，干膜600自一側(cè)表面的一定厚度范圍內(nèi)嵌入導(dǎo)電納米絲線而形成導(dǎo)電層620，干膜600未嵌入導(dǎo)電納米絲線的區(qū)域形成透明粘結(jié)層610，導(dǎo)電層620表面設(shè)置有保護(hù)膜640，透明粘結(jié)層610表面設(shè)置有保護(hù)膜630。
[0069]其中，半固態(tài)的透明感光樹脂包括如下重量份數(shù)的各組分:60?80份成膜樹脂、I?10份感光劑、5?20份溶劑、0.1?5份穩(wěn)定劑、0.1?5份流平劑、0.1?5份消泡劑，各組分的份數(shù)之和為100。
[0070]固化的透明感光樹脂包括如下重量份數(shù)的各組分:30?50份成膜樹脂、I?10份感光劑、0.1?5份穩(wěn)定劑、0.1?5份流平劑及0.1?5份消泡劑。
[0071]成膜樹脂為聚甲基丙烯酸甲酯、線性酚醛樹脂、環(huán)氧樹脂、巴豆酸、丙烯酸酯、乙烯基醚與丁烯酸甲酯中的至少一種。感光劑為重氮苯醌、重氮萘醌酯、聚乙烯醇肉桂酸酯、聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯、芳香重氮鹽、芳香硫鎗鹽、芳香碘鎗鹽與二茂鐵鹽中的至少一種。溶劑為四氫呋喃、甲基乙基酮、環(huán)己酮、丙二醇、N，N-二甲基甲酰胺、乙二醇乙醚乙酸酯、乙酸乙酯與乙酸丁酯、甲苯、二甲苯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、1，6-己二醇甲氧基單丙烯酸酯與乙氧基化新戊二醇甲氧基單丙烯酸酯中的至少一種。穩(wěn)定劑為對苯二酚、對甲氧基苯酚、對苯醌、2，6—二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪與蒽醌中的至少一種。流平劑為聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纖維、硝化纖維素與聚乙烯醇縮丁醛中的至少一種。消泡劑為磷酸酯、脂肪酸酯與有機(jī)硅的至少一種。
[0072]步驟S530，如圖9所示，去除透明粘結(jié)層610表面的保護(hù)膜630，將干膜600貼合于透明襯底表面，并使透明粘結(jié)層610直接貼附于透明襯底110上，導(dǎo)電層620遠(yuǎn)離透明襯底 110。
[0073]由于保護(hù)膜630需要先于保護(hù)膜640撕除，以便將干膜600熱壓貼合于透明襯底110上。因此，在設(shè)計(jì)保護(hù)膜630與保護(hù)膜640時(shí)，使得透明粘結(jié)層610與保護(hù)膜630之間的粘性力低于導(dǎo)電層620與保護(hù)膜640之間的粘性力。
[0074]步驟S540，對干膜600進(jìn)行圖案化處理:對干膜600依次進(jìn)行曝光及顯影，形成多條平行間隔排列的第一觸控電極。
[0075]如圖9-11所示，在本實(shí)施方式中，形成該干膜600的透明感光樹脂為自由基光引發(fā)體系負(fù)性感光樹脂，即，光照處發(fā)生化學(xué)聚合反應(yīng)而不溶于顯影液，但該感光樹脂在空氣中發(fā)生聚合反應(yīng)時(shí)，會(huì)產(chǎn)生氧阻效應(yīng)，因此需要采用兩次曝光方式對干膜600進(jìn)行曝光。在第一次曝光時(shí)，干膜600的導(dǎo)電層620表面還設(shè)置有保護(hù)膜640，先不去除該保護(hù)膜640，使得干膜600表面隔絕空氣，此時(shí)因?yàn)橥该髡辰Y(jié)層610已經(jīng)貼附在透明襯底110上，所以也與氧氣隔絕。采用根據(jù)第一觸控電極的形狀選擇的掩膜板700對干膜600進(jìn)行曝光，使得圖案部被光照而產(chǎn)生聚合反應(yīng)。然后去除掩膜板700以及設(shè)置于干膜600表面的保護(hù)膜640。直接對干膜600進(jìn)行第二次曝光，此時(shí)，對于第一次曝光未被光照的區(qū)域，表面由于跟空氣接觸，由于氧阻效應(yīng)使得干膜600暴露在空氣中的表面反應(yīng)不完全而可以被顯影液溶蝕，而表面以下的部分，由于不跟空氣接觸，可以發(fā)生化學(xué)聚合反應(yīng)而不被顯影液溶蝕。第二次曝光的能量越大，其表面以下發(fā)生化學(xué)聚合反應(yīng)的區(qū)域越厚。因此，可以通過調(diào)節(jié)曝光能量，既能使導(dǎo)電層620中除第一觸控電極以外的部分能被顯影液融蝕，又能減小圖案部與背景部的高度差，避免圖案不容易被辨識(shí)。
[0076]如圖12所示，在其他實(shí)施方式中，形成該干膜600的透明感光樹脂為正性感光樹脂基質(zhì)。即，光照處溶于顯影液。在對干膜600進(jìn)行曝光之前，還包括去除導(dǎo)電層620表面的保護(hù)膜640的步驟。然后采用根據(jù)第一觸控電極的形狀進(jìn)行選擇的掩膜板進(jìn)行曝光。因?yàn)楣庹仗幦苡陲@影液，所以要保留第一觸控電極的圖形時(shí)，應(yīng)采用與第一觸控電極形狀互補(bǔ)的掩膜板進(jìn)行曝光。在本實(shí)施方式中，可以通過調(diào)整曝光能量調(diào)節(jié)反應(yīng)深度，從而減小保留的圖案部與溶于顯影液的背景部的高度差，避免圖案不容易被辨識(shí)。
[0077]對干膜600進(jìn)行曝光的過程中，曝光波長為300nm?400nm,曝光能量為IOmJ/cm2?500mJ/cm2。對經(jīng)過曝光后的干膜進(jìn)行顯影的過程中，采用質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1%?10%的弱堿鹽溶液進(jìn)行顯影。弱堿鹽可以為碳酸鉀、碳酸鈉等。
[0078]步驟S550，固化干膜。
[0079]可以采用熱固化或者UV固化的方式:采用熱固化方式固化時(shí)，熱固化的溫度為80°C?150°C，固烤時(shí)間為IOmin?60min。采用UV固化方式固化時(shí)，UV固化能量為200mJ/cm2?2000mJ/cm2。透明感光樹脂處于流體狀態(tài)或半固化狀態(tài)時(shí)具有感光性能，透明感光樹脂處于固化狀態(tài)時(shí)不具有感光性能。
[0080]固化后的導(dǎo)電層620及透明粘結(jié)層610即為本實(shí)施方式中的觸控基板的第一導(dǎo)電層及透明粘結(jié)層。
[0081]在本實(shí)施方式中，在得到第一導(dǎo)電層后，先在第一導(dǎo)電層上貼覆保護(hù)膜，再對ITO層依次進(jìn)行涂覆光刻膠、曝光處理、顯影處理、蝕刻處理及剝離光刻膠，形成多條平行間隔排列的第二觸控電極。其中，第一觸控電極與第二觸控電極垂直設(shè)置?？梢岳斫猓谄渌麑?shí)施方式中，也可以在透明襯底上設(shè)置干膜的步驟前，先對ITO層依次進(jìn)行涂覆光刻膠、曝光處理、顯影處理、蝕刻處理及剝離光刻膠，形成多條平行間隔排列的第二觸控電極。其中，第一觸控電極與第二觸控電極垂直設(shè)置。
[0082]在本實(shí)施方式中，還包括在觸控基板具有第一導(dǎo)電層的一側(cè)設(shè)置折射率調(diào)節(jié)層的步驟，折射率調(diào)節(jié)層同時(shí)覆蓋圖案部及背景部。
[0083]在本實(shí)施方式中，還包括在觸控基板具有第一導(dǎo)電層的一側(cè)形成保護(hù)層的步驟，保護(hù)層同時(shí)覆蓋圖案部及背景部。
[0084]透明光學(xué)膠層200設(shè)于觸控基板100 —側(cè)。
[0085]保護(hù)面板300設(shè)于透明光學(xué)膠層200遠(yuǎn)離觸控基板100的一側(cè)。
[0086]透明光學(xué)膠層200用于粘結(jié)觸控基板100及保護(hù)面板300。
[0087]在本實(shí)施方式中，透明光學(xué)膠層200設(shè)于第二導(dǎo)電層140上。如圖13所示，可以理解，在其他實(shí)施方式中，透明光學(xué)膠層200也可以設(shè)于第一導(dǎo)電層120上。
[0088]在其他實(shí)施方式中，如圖6所示，觸控基板400可以只包括透明襯底410及導(dǎo)電層420。此時(shí)，透明光學(xué)膠層200可以設(shè)于導(dǎo)電層420或設(shè)于透明襯底410遠(yuǎn)離導(dǎo)電層420的一側(cè)上。
[0089]在本實(shí)施方式中，保護(hù)面板300的材質(zhì)可以為玻璃、藍(lán)寶石、碳酸聚脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚甲丙烯酸甲脂。保護(hù)面板300的厚度為0.1mm?2.5mm。進(jìn)一步，保護(hù)面板300的厚度優(yōu)選為0.3mm?0.7mm。
[0090]上述觸控基板100的第一導(dǎo)電層120中的導(dǎo)電網(wǎng)格被基質(zhì)122包覆，從而使得上述第一導(dǎo)電層120能較好的避免劃傷，不容易損壞。同時(shí)大大降低了導(dǎo)電網(wǎng)格與空氣接觸的機(jī)會(huì)，使得上述第一導(dǎo)電層120不容易被氧化。因此，上述觸摸屏10具有較好導(dǎo)電性能。而且上述第一導(dǎo)電層120以導(dǎo)電納米絲線124交錯(cuò)連接形成的導(dǎo)電網(wǎng)格實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電，相對于ITO導(dǎo)電層，其具有相對較低的電阻率。而且導(dǎo)電納米絲線124相對于ITO柔韌性更好，從而使得上述觸摸屏10具有較好的抗彎折性。此外，導(dǎo)電納米絲線124交錯(cuò)連接形成的導(dǎo)電網(wǎng)格以基質(zhì)122為載體，在制作第一導(dǎo)電層120時(shí)，直接通過曝光顯影即可得到，無需額外涂覆、剝離光刻膠的步驟，可以簡化工藝。
[0091]以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種觸摸屏，其特征在于，包括: 觸控基板，包括透明襯底、設(shè)于所述透明襯底一側(cè)的第一導(dǎo)電層、設(shè)于所述透明襯底與所述第一導(dǎo)電層之間的透明粘結(jié)層及設(shè)于所述透明襯底上的第二觸控電極；所述第一導(dǎo)電層包括基質(zhì)及嵌入所述基質(zhì)中的導(dǎo)電納米絲線，所述導(dǎo)電納米絲線交錯(cuò)連接形成導(dǎo)電網(wǎng)格；所述基質(zhì)為固化的透明感光樹脂，所述第一導(dǎo)電層被圖案化而形成多個(gè)第一觸控電極；所述第一觸控電極與所述第二觸控電極分別用于確定觸控點(diǎn)的X軸向坐標(biāo)及Y軸向坐標(biāo)； 保護(hù)面板，設(shè)于所述觸控基板的一側(cè) '及 透明光學(xué)膠層，設(shè)于所述觸控基板及所述保護(hù)面板之間，用于粘結(jié)所述觸控基板及保護(hù)面板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述透明襯底的厚度為0.02mm~.0.5mmο
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸摸屏，其特征在于，所述透明襯底的厚度為0.05mm~.0.2mmο
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一導(dǎo)電層的厚度為0.05 μ m~10 μ m0
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一導(dǎo)電層的厚度為0.08 μ m~.2μ m0
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一導(dǎo)電層的方阻為0.1 Ω/ □~500 Ω/ □，所述導(dǎo)電納米絲線為金納米絲線、銀納米絲線、銅納米絲線、鋁納米絲線或碳納米絲線。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一導(dǎo)電層的方阻為50Ω / □~200 Ω / 口。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述導(dǎo)電納米絲線的直徑為IOnm~1000nm,長度為 20nm ~50 μ m。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，部分所述導(dǎo)電納米絲線露出所述第一導(dǎo)電層遠(yuǎn)離所述透明襯底的一側(cè)外。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述透明粘結(jié)層的材質(zhì)與所述基質(zhì)的材質(zhì)相同。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述透明粘結(jié)層的厚度為0.5μπι~50 μ m0
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，還包括折射率調(diào)節(jié)層；所述折射率調(diào)節(jié)層設(shè)于所述觸控基板具有所述第一導(dǎo)電層的一側(cè)，所述折射率調(diào)節(jié)層的折射率為1.6~2.8。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的觸摸屏，其特征在于，所述折射率調(diào)節(jié)層的材質(zhì)為Ti02、Nb2O5或1，3，5-三嗪-2，4，6-三胺類化合物。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，還包括保護(hù)層；所述保護(hù)層設(shè)于所述觸控基板具有所述第一導(dǎo)電層的一側(cè)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的觸摸屏，其特征在于，所述保護(hù)層遠(yuǎn)離所述透明襯底的一側(cè)與所述第一導(dǎo)電層遠(yuǎn)離所述透明襯底的一側(cè)之間的距離為0.1 μ m~10 μ m。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述觸控基板還包括設(shè)于所述透明襯底另一側(cè)的第二導(dǎo)電層，所述第二觸控電極由所述第二導(dǎo)電層圖案化而形成；所述第一觸控電極呈長條狀，多個(gè)所述第一觸控電極平行間隔排列，所述第二觸控電極呈長條狀，多個(gè)所述第二觸控電極平行間隔排列，且所述第二觸控電極與所述第一觸控電極垂直設(shè)置。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一觸控電極的結(jié)構(gòu)及材質(zhì)與所述第二觸控電極的結(jié)構(gòu)及材質(zhì)相同。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的觸摸屏，其特征在于，所述第二導(dǎo)電層為ITO導(dǎo)電層、金屬網(wǎng)格導(dǎo)電層、石墨烯導(dǎo)電層、碳納米管導(dǎo)電層或?qū)щ姼叻肿訉?dǎo)電層。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述第二觸控電極也由所述第一導(dǎo)電層圖案化而形成，多個(gè)所述第一觸控電極分別沿縱向延伸并橫向間隔排列，每一所述第一觸控電極與若干所述第二觸控電極配合用于相互耦合形成耦合電容，與每一所述第一觸控電極配合的若干所述第二觸控電極沿縱向間隔排列。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一觸控電極及所述第二觸控電極呈梳狀，所述第一觸 控電極與若干所述第二觸控電極相互嵌合。
【文檔編號】G06F3/041GK104020882SQ201410239386
【公開日】2014年9月3日 申請日期:2014年5月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月30日
【發(fā)明者】唐根初, 劉偉, 蔣芳 申請人:南昌歐菲光科技有限公司, 深圳歐菲光科技股份有限公司, 蘇州歐菲光科技有限公司