自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法，包括：第一步驟，用于準(zhǔn)備表示原始缺陷圖形的缺陷圖形原始數(shù)據(jù)；第二步驟，用于通過(guò)使得所述原始缺陷圖形的一部分相對(duì)于所述原始缺陷圖形的剩余部分移動(dòng)，和/或通過(guò)使得所述原始缺陷圖形的至少一部分的關(guān)鍵尺寸變化，對(duì)所述原始缺陷圖形的關(guān)鍵尺寸進(jìn)行分批演變，由此自動(dòng)生成虛擬缺陷圖形數(shù)據(jù)庫(kù)；第三步驟，用于對(duì)虛擬缺陷圖形進(jìn)行工藝偏差模擬，并根據(jù)工藝偏差模擬的結(jié)果篩選出新的缺陷圖形；第四步驟，用于將新的缺陷圖形添加到缺陷圖形庫(kù)以形成新的缺陷圖形數(shù)據(jù)，由此使缺陷圖形庫(kù)得到擴(kuò)展。
【專利說(shuō)明】自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,具體涉及DFM (DesignForManufacture)可制造性圖形設(shè)計(jì)領(lǐng)域；更具體地說(shuō)，本發(fā)明涉及版圖設(shè)計(jì)工藝熱點(diǎn)檢測(cè)方法中的自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在先進(jìn)光刻工藝中，在曝光機(jī)臺(tái)沒(méi)有更新的前提下，隨著曝光圖形尺寸的不斷縮小，會(huì)產(chǎn)生許多符合設(shè)計(jì)規(guī)則而實(shí)際工藝窗口較差的光刻圖形(見(jiàn)圖1與圖2，其中圖1中的虛線圈部分示出了實(shí)際會(huì)產(chǎn)生光刻缺陷的圖形區(qū)域)，類似的光刻圖形結(jié)構(gòu)稱為光刻缺陷圖形。
[0003]現(xiàn)有的光刻缺陷圖形庫(kù)中缺陷的圖形收集一般過(guò)程為:大量的設(shè)計(jì)圖形經(jīng)過(guò)光刻工藝窗口模擬，得到極少數(shù)量的光刻缺陷圖形。建立缺陷圖形庫(kù)，將光刻缺陷圖形加入。這種只收集缺陷圖形卻不及時(shí)擴(kuò)展缺陷圖形的過(guò)程，時(shí)間跨度較長(zhǎng)，收集效率低下。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在上述缺陷，提供一種能夠充分利用光刻缺陷圖形原始數(shù)據(jù)，自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)，使缺陷圖形庫(kù)得到完善的用于自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法。
[0005]為了實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的，根據(jù)本發(fā)明，提供了一種自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法，包括:第一步驟，用于準(zhǔn)備表示原始缺陷圖形的缺陷圖形原始數(shù)據(jù)；第二步驟，用于通過(guò)使得所述原始缺陷圖形的一部分相對(duì)于所述原始缺陷圖形的剩余部分移動(dòng)，和/或通過(guò)使得所述原始缺陷圖形的至少一部分的關(guān)鍵尺寸變化，對(duì)所述原始缺陷圖形的關(guān)鍵尺寸進(jìn)行分批演變，由此自動(dòng)生成虛擬缺陷圖形數(shù)據(jù)庫(kù)；第三步驟，用于對(duì)虛擬缺陷圖形進(jìn)行工藝偏差模擬，并根據(jù)工藝偏差模擬的結(jié)果篩選出新的缺陷圖形；第四步驟，用于將新的缺陷圖形添加到缺陷圖形庫(kù)以形成新的缺陷圖形數(shù)據(jù)，由此使缺陷圖形庫(kù)得到擴(kuò)展。
[0006]優(yōu)選地，在第二步驟中，在通過(guò)使得所述原始缺陷圖形的至少一部分的關(guān)鍵尺寸變化的情況下，根據(jù)參考缺陷圖形自身的缺陷位置來(lái)確定關(guān)鍵尺寸變化。
[0007]優(yōu)選地，在第二步驟中，在使得所述原始缺陷圖形的一部分相對(duì)于所述原始缺陷圖形的剩余部分移動(dòng)的情況下，單邊圖像的移動(dòng)距離小于1/3關(guān)鍵尺寸，多邊形圖像的移動(dòng)距離小于I倍關(guān)鍵尺寸。
[0008]優(yōu)選地，在第二步驟S2中，在使得所述原始缺陷圖形的一部分相對(duì)于所述原始缺陷圖形的剩余部分移動(dòng)的情況下，多次對(duì)所述剩余部分移動(dòng)，并且在每次移動(dòng)所述剩余部分之后產(chǎn)生一次虛擬缺陷圖形。
[0009]優(yōu)選地，每次移動(dòng)所述剩余部分的移動(dòng)距離為0.005um。
[0010]本發(fā)明根據(jù)已經(jīng)發(fā)現(xiàn)的光刻缺陷圖形，通過(guò)改變圖形關(guān)鍵位置的尺寸，然后衍生出一系列不同尺寸的虛擬缺陷圖形，虛擬缺陷圖形再經(jīng)過(guò)工藝窗口模型仿真(PWModelSimulation),得到新的缺陷圖形。最終將這些新的光刻缺陷圖形加入缺陷圖形庫(kù)(DefectPatternLibrary)中，使缺陷圖形庫(kù)更加完善。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0011]結(jié)合附圖，并通過(guò)參考下面的詳細(xì)描述，將會(huì)更容易地對(duì)本發(fā)明有更完整的理解并且更容易地理解其伴隨的優(yōu)點(diǎn)和特征，其中:
[0012]圖1示意性地示出了光刻缺陷圖形版圖設(shè)計(jì)。
[0013]圖2示意性地示出了圖1所示的光刻缺陷圖形版圖設(shè)計(jì)的相應(yīng)的光刻缺陷圖形電子顯微鏡圖形。
[0014]圖3示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法的流程圖。
[0015]圖4示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法采用的原始缺陷圖形的示例。
[0016]圖5示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法的缺陷圖形關(guān)鍵尺寸分批演變示例圖。
[0017]圖6a至圖6e示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法的衍生虛擬缺陷圖形示例圖。
[0018]圖7示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法的【具體實(shí)施方式】示例圖。
[0019]需要說(shuō)明的是，附圖用于說(shuō)明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明。注意，表示結(jié)構(gòu)的附圖可能并非按比例繪制。并且，附圖中，相同或者類似的元件標(biāo)有相同或者類似的標(biāo)號(hào)。
【具體實(shí)施方式】
[0020]為了使本發(fā)明的內(nèi)容更加清楚和易懂，下面結(jié)合具體實(shí)施例和附圖對(duì)本發(fā)明的內(nèi)容進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0021]圖3示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法的流程圖。
[0022]具體地說(shuō)，如圖3所示，根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法包括:
[0023]第一步驟S1:準(zhǔn)備表示原始缺陷圖形的缺陷圖形原始數(shù)據(jù)。
[0024]第二步驟S2:通過(guò)使得所述原始缺陷圖形的一部分相對(duì)于所述原始缺陷圖形的剩余部分移動(dòng)，和/或通過(guò)使得所述原始缺陷圖形的至少一部分的關(guān)鍵尺寸變化，對(duì)所述原始缺陷圖形的關(guān)鍵尺寸進(jìn)行分批演變，由此自動(dòng)生成虛擬缺陷圖形數(shù)據(jù)庫(kù)。在此，可通過(guò)軟件自動(dòng)生成虛擬缺陷圖形數(shù)據(jù)庫(kù)。
[0025]具體地，圖4示出了缺陷圖形的一種結(jié)構(gòu)，在參考標(biāo)號(hào)1處的圖形的二維效應(yīng)大，此位置易產(chǎn)生線條(Line)夾斷(Pinch)。對(duì)于圖4所示的原始缺陷圖形進(jìn)行分批演變的具體步驟可如下所述。
[0026]如圖5中所示，向上移動(dòng)四邊形2，移動(dòng)的尺寸為1/2至1倍的關(guān)鍵尺寸；向下移動(dòng)四邊形3，移動(dòng)的尺寸為在1/2至1倍的關(guān)鍵尺寸，可以得到圖6a和圖6b所示的兩種分批的虛擬缺陷圖形。當(dāng)然，還可以根據(jù)四邊形移動(dòng)尺寸的不同可以得到更多的分批演變種類。
[0027]如圖5中所不,左右移動(dòng)邊4,移動(dòng)的尺寸為±1/3的關(guān)鍵尺寸；左右移動(dòng)邊5,移動(dòng)的尺寸為±1/3的關(guān)鍵尺寸，可以得到圖6c、圖6d兩種分批的虛擬缺陷圖形。同樣的，也可以根據(jù)邊移動(dòng)尺寸的不同得到更多批次的分批演變種類。
[0028]另外，將圖6b、圖6d的演變情形組加起來(lái)，又可以得到新的演變圖6e所示。
[0029]這里只是一種簡(jiǎn)單的分批演變的畫圖示意，一般通過(guò)軟件實(shí)現(xiàn)上述分批演變。根據(jù)實(shí)際缺陷圖形的表現(xiàn)，將關(guān)鍵位置的尺寸、圖形的布局給定適當(dāng)?shù)募s束條件賦予軟件，經(jīng)過(guò)計(jì)算機(jī)模擬運(yùn)算將得到更加復(fù)雜規(guī)則的分批演變。
[0030]優(yōu)選地，在第二步驟S2中，在通過(guò)使得所述原始缺陷圖形的至少一部分的關(guān)鍵尺寸變化的情況下，根據(jù)參考缺陷圖形自身的缺陷位置來(lái)確定關(guān)鍵尺寸變化。
[0031]優(yōu)選地，在第二步驟S2中，在使得所述原始缺陷圖形的一部分相對(duì)于所述原始缺陷圖形的剩余部分移動(dòng)的情況下，多次對(duì)所述剩余部分移動(dòng)，并且在每次移動(dòng)所述剩余部分之后產(chǎn)生一次虛擬缺陷圖形；而且，優(yōu)選地，每次移動(dòng)所述剩余部分的移動(dòng)距離為
0.005um,即虛擬缺陷圖形的步距一般設(shè)為0.005um ;否則，會(huì)產(chǎn)生大量重復(fù)的虛擬缺陷圖形。
[0032]優(yōu)選地，在第二步驟S2中，在使得所述原始缺陷圖形的一部分相對(duì)于所述原始缺陷圖形的剩余部分移動(dòng)的情況下，單邊圖像的移動(dòng)距離一般小于1/3關(guān)鍵尺寸，多邊形圖像的移動(dòng)距離一般小于I倍關(guān)鍵尺寸；否則，產(chǎn)生的虛擬缺陷圖形沒(méi)有實(shí)際意義。
[0033]第三步驟S3:對(duì)虛擬缺陷圖形進(jìn)行工藝偏差模擬(例如，可進(jìn)行工藝窗口模型仿真(PWModelSimulation)),并根據(jù)工藝偏差模擬的結(jié)果篩選出新的缺陷圖形。在當(dāng)前示例中，可以將圖6a至圖6e所示的虛擬缺陷圖形通過(guò)工藝窗口模型仿真，發(fā)現(xiàn)圖6c也為真實(shí)缺陷圖形。
[0034]第四步驟S4:將新的缺陷圖形添加到缺陷圖形庫(kù)以形成新的缺陷圖形數(shù)據(jù)，由此使缺陷圖形庫(kù)得到擴(kuò)展。由于圖6c也為真實(shí)缺陷圖形，所以可以將圖6c的虛擬缺陷圖形加入缺陷圖形庫(kù)，使缺陷圖形庫(kù)得到擴(kuò)展。
[0035]通過(guò)該方法，缺陷圖形庫(kù)的數(shù)據(jù)量比原先增長(zhǎng)了 50%。
[0036]下面參照?qǐng)D7a至圖7e來(lái)具體描述本發(fā)明的一個(gè)實(shí)際的自動(dòng)缺陷圖形的示例。
[0037]圖7a是在版圖設(shè)計(jì)(Layout)中發(fā)現(xiàn)的夾斷(Pinch)類缺陷圖形。缺陷位置在標(biāo)號(hào)71。這樣，圖7b以一種缺陷結(jié)構(gòu)存在于缺陷圖形庫(kù)中。
[0038]將圖7b的邊73、邊74、邊75設(shè)定移動(dòng)的尺寸為關(guān)鍵尺寸的1/3，將多邊形71、多邊形72上下錯(cuò)開(kāi)位移尺寸為I倍的關(guān)鍵尺寸。結(jié)合上述約束條件，設(shè)步距變量為0.005um,通過(guò)軟件可以自動(dòng)得到如圖7c所示的陣列虛擬缺陷圖形。
[0039]將圖7c的陣列虛擬缺陷圖形經(jīng)過(guò)工藝窗口模擬仿真，可以找到圖7e結(jié)構(gòu)的虛擬圖形也存在同樣的缺陷。工藝窗口仿真圖可以參照?qǐng)D7d。即圖7e也為是一種缺陷圖形。
[0040]將7e的缺陷圖形加入到缺陷圖形庫(kù)，缺陷圖形庫(kù)得到完善。
[0041]此外，需要說(shuō)明的是，除非特別說(shuō)明或者指出，否則說(shuō)明書中的術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”、“第三”等描述僅僅用于區(qū)分說(shuō)明書中的各個(gè)組件、元素、步驟等，而不是用于表示各個(gè)組件、元素、步驟之間的邏輯關(guān)系或者順序關(guān)系等。[0042]可以理解的是，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例披露如上，然而上述實(shí)施例并非用以限定本發(fā)明。對(duì)于任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案作出許多可能的變動(dòng)和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法，其特征在于包括:第一步驟，用于準(zhǔn)備表示原始缺陷圖形的缺陷圖形原始數(shù)據(jù)；第二步驟，用于通過(guò)使得所述原始缺陷圖形的一部分相對(duì)于所述原始缺陷圖形的剩余部分移動(dòng)，和/或通過(guò)使得所述原始缺陷圖形的至少一部分的關(guān)鍵尺寸變化，對(duì)所述原始缺陷圖形的關(guān)鍵尺寸進(jìn)行分批演變，由此自動(dòng)生成虛擬缺陷圖形數(shù)據(jù)庫(kù)；第三步驟，用于對(duì)虛擬缺陷圖形進(jìn)行工藝偏差模擬，并根據(jù)工藝偏差模擬的結(jié)果篩選出新的缺陷圖形；第四步驟，用于將新的缺陷圖形添加到缺陷圖形庫(kù)以形成新的缺陷圖形數(shù)據(jù)，由此使缺陷圖形庫(kù)得到擴(kuò)展。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法，其特征在于，在第二步驟中，在通過(guò)使得所述原始缺陷圖形的至少一部分的關(guān)鍵尺寸變化的情況下，根據(jù)參考缺陷圖形自身的缺陷位置來(lái)確定關(guān)鍵尺寸變化。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法，其特征在于，在第二步驟中，在使得所述原始缺陷圖形的一部分相對(duì)于所述原始缺陷圖形的剩余部分移動(dòng)的情況下，單邊圖像的移動(dòng)距離小于1/3關(guān)鍵尺寸，多邊形圖像的移動(dòng)距離小于1倍關(guān)鍵尺寸。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法，其特征在于，在第二步驟S2中，在使得所述原始缺陷圖形的一部分相對(duì)于所述原始缺陷圖形的剩余部分移動(dòng)的情況下，多次對(duì)所述剩余部分移動(dòng)，并且在每次移動(dòng)所述剩余部分之后產(chǎn)生一次虛擬缺陷圖形。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的自動(dòng)擴(kuò)展缺陷圖形庫(kù)的方法，其特征在于，每次移動(dòng)所述剩余部分的移動(dòng)距離為0.005um。
【文檔編號(hào)】G06F17/50GK103745072SQ201410042444
【公開(kāi)日】2014年4月23日 申請(qǐng)日期:2014年1月29日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月29日
【發(fā)明者】朱忠華, 王偉斌, 魏芳, 朱駿, 張旭升 申請(qǐng)人:上海華力微電子有限公司