一種可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜的制作方法
【專利摘要】一種可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜，它在基材的兩個(gè)表面分別涂覆第一預(yù)涂底層、第二預(yù)涂底層，在各預(yù)涂底層的表面分別涂覆第一透明硬涂層、第二透明硬涂層，在第二硬涂層的表面再涂覆消影層。本實(shí)用新型較好地解決了電容屏銦錫氧化物導(dǎo)電膜的“影子”現(xiàn)象，同時(shí)又保證了產(chǎn)品的硬度與透明度協(xié)調(diào)性；解決了因光線在不同界面的反射而形成光程差現(xiàn)象，減輕了電容式觸摸屏導(dǎo)電膜的“蝕刻痕”現(xiàn)象，提高了觸摸屏的可視性，可滿足電容式觸摸屏的需要。
【專利說明】一種可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種觸摸屏用涂膜，特別是一種可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜。
【背景技術(shù)】
[0002]電容式觸摸屏分表面電容與投射式電容，表面電容感應(yīng)原理是于觸控屏的四個(gè)角落放置電極傳感器，電極傳感器散發(fā)出電壓在觸控面板表面，形成一均勻電場，當(dāng)手指碰觸時(shí)會由四個(gè)邊界引發(fā)電流，依觸碰點(diǎn)對四個(gè)邊界不同的距離，而有不同的電流強(qiáng)度，控制器由電流流量，計(jì)算出手指碰觸的位置，并產(chǎn)生一個(gè)電壓差，觸到電極的距離決定了這個(gè)電流/電壓的大小。投射式電容從結(jié)構(gòu)上來說，它包括了一個(gè)感應(yīng)網(wǎng)格，這個(gè)網(wǎng)格夾在兩個(gè)玻璃保護(hù)層之間，通常最外層為防護(hù)層，它的定位原理是利用感應(yīng)網(wǎng)格上的靜電電場的變化來確定接觸點(diǎn)的位置，當(dāng)手指觸摸屏幕的時(shí)候，手指和網(wǎng)格之間形成一個(gè)電容，控制器利用網(wǎng)格電氣參數(shù)的變化量，來計(jì)算接觸點(diǎn)的坐標(biāo)位置。
[0003]電容式觸摸屏配合多點(diǎn)觸控等功能，其上下銦錫氧化物電極線路布滿整個(gè)屏幕，為了避免加工過程中銦錫氧化物導(dǎo)電薄膜劃傷，影響顯示器的質(zhì)量，一般銦錫氧化物導(dǎo)電薄膜(基膜主要是聚酯膜)都會做雙面加硬處理，由于銦錫氧化物折射率高(約2.1)，一般加硬的硬涂膜其折射率約1.51，則蝕刻后的銦錫氧化物導(dǎo)電線路因?yàn)檎凵渎逝c硬涂膜折射率(蝕刻區(qū))差異，各層界面干涉不一而造成銦錫氧化物導(dǎo)電線路在屏幕上容易顯現(xiàn)，降低了觸摸屏的可視性。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問題，提供一種可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案為:
[0006]一種可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜，它在基材的兩個(gè)表面分別涂覆第一預(yù)涂底層、第二預(yù)涂底層，在各預(yù)涂底層的表面分別涂覆第一透明硬涂層、第二透明硬涂層，在第二硬涂層的表面再涂覆消影層。
[0007]上述可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜，所述消影層的厚度為
0.05~0.15 μ m。
[0008]上述可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜，所述消影層為折射率
1.65~1.80的消影層。
[0009]上述可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜，所述第一預(yù)涂底層、第二預(yù)涂底層是折射率為1.55^1.60的聚酯樹脂層、聚氨酯樹脂層或聚丙烯酸樹脂層。
[0010]上述可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜，所述第一預(yù)涂底層、第二預(yù)涂底層的的厚度相同或不同。
[0011]上述可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜，所述第一透明硬涂層的硬度為2?3H，所述第二透明硬涂層的硬度為f2H。
[0012]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型通過采用雙硬涂層和在其中一個(gè)硬涂層的表面設(shè)置消影層，較好地解決了電容屏銦錫氧化物導(dǎo)電膜的“影子”現(xiàn)象，同時(shí)又保證了產(chǎn)品的硬度與透明度協(xié)調(diào)性；并進(jìn)一步通過對消影層厚度的控制、消影層折射率與其他各層折射率的搭配，使得光線在銦錫氧化物導(dǎo)電線路與蝕刻區(qū)域界面的反射接近，解決了因光線在不同界面的反射而形成光程差現(xiàn)象，減輕了電容式觸摸屏導(dǎo)電膜的“蝕刻痕”現(xiàn)象，提高了觸摸屏的可視性。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖中各標(biāo)號表示為:基材I ;第一預(yù)涂底層2 ;第二預(yù)涂底層3 ;第一透明硬涂層4 ;第二透明硬涂層5;消影層6。
【具體實(shí)施方式】
[0015]實(shí)施例1
[0016]本實(shí)用新型在PET基材I的兩個(gè)表面分別涂覆折射率為1.58的聚氨酯樹脂層(2)和折射率為1.60的聚酯樹脂層(3)，在聚氨酯樹脂層(2)和聚酯樹脂層(3)的表面分別涂覆硬度為2H的透明硬涂層(4)和IH的透明硬涂層(5)，并在透明硬涂層(5)再涂覆消影層(6)，該消影層6的折射率為1.66、厚度為0.11 μ m、鉛筆硬度為1H，得到電容式觸摸屏消影用透明硬涂膜。
[0017]實(shí)施例2
[0018]在PET基材I的兩個(gè)表面分別涂覆折射率為1.56的聚丙烯酸樹脂層(2)和折射率為1.60的聚氨酯樹脂層(3)，在聚丙烯酸樹脂層(2)和聚氨酯樹脂層(3)的表面分別涂覆硬度為2H的透明硬涂層(4)和IH的透明硬涂層(5)，并在透明硬涂層(5)再涂覆消影層
(6)，該消影層6的折射率為1.72、厚度為0.09 μ m、鉛筆硬度度為1H，得到電容式觸摸屏消影用透明硬涂膜。
[0019]實(shí)施例3
[0020]在PET基材I的兩個(gè)表面分別涂覆折射率為1.58的聚氨酯樹脂層(2)和折射率為
1.58的聚丙烯酸樹脂層(3)，在聚氨酯樹脂層(2)和聚酯樹脂層(3)的表面分別涂覆硬度為2H的透明硬涂層(4)和IH的透明硬涂層(5)，并在透明硬涂層(5)再涂覆消影層(6)，該消影層6的折射率為1.75、厚度為0.08μπκ鉛筆硬度度為1Η，得到電容式觸摸屏消影用透明硬涂膜。
[0021]實(shí)施例4
[0022]在PET基材I的兩個(gè)表面分別涂覆折射率為1.60的聚丙烯酸和聚氨酯樹脂混合涂層(2)和折射率為1.60的聚氨酯樹脂層(3)，在聚丙烯酸和聚氨酯樹脂混合涂層(2)和聚氨酯樹脂層(3)的表面涂覆硬度為2Η的透明硬涂層(4)和IH的透明硬涂層(5)，并在透明硬涂層(5)再涂覆消影層(6)，該消影層6的折射率為1.77、厚度為0.06 μ m、鉛筆硬度度為1H，得到電容式觸摸屏消影用透明硬涂膜。
【權(quán)利要求】
1.一種可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜，其特征在于，它在基材(I)的兩個(gè)表面分別涂覆第一預(yù)涂底層(2)、第二預(yù)涂底層(3)，在各預(yù)涂底層的表面分別涂覆第一透明硬涂層(4)、第二透明硬涂層(5)在第二硬涂層(5)的表面再涂覆消影層(6)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜，其特征在于，所述的消影層(6)的厚度為0.05^0.15 μ m。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜，其特征在于，所述消影層(6)為折射率1.65^1.80的消影層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜，其特征在于，所述第一預(yù)涂底層(2)、第二預(yù)涂底層(3)是折射率為1.55^1.60的聚酯樹脂層、聚氨酯樹脂層或聚丙烯酸樹脂層 。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜，其特征在于，所述第一預(yù)涂底層(2)、第二預(yù)涂底層(3)的的厚度相同或不同。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的可降低蝕刻痕的電容式觸摸屏用透明硬涂膜，其特征在于，所述第一透明硬涂層(4)的硬度為2~3H，所述第二透明硬涂層(5)的硬度為f2H。
【文檔編號】G06F3/044GK203480485SQ201320559554
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2013年9月10日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月10日
【發(fā)明者】花妍, 張永漢, 史良 申請人:合肥樂凱科技產(chǎn)業(yè)有限公司, 保定樂凱薄膜有限責(zé)任公司