靜電電容式輸入裝置的制造方法及靜電電容式輸入裝置以及具備其的圖像顯示裝置制造方法【專利摘要】本發(fā)明提供一種靜電電容式輸入裝置的制造方法，當(dāng)制造具有前面板、且在所述前面板的非接觸側(cè)至少具有下述(1)～(5)的靜電電容式輸入裝置時(shí)，使用依序包括臨時(shí)支撐體、熱可塑性樹脂層、及光硬化性樹脂層的感光性膜來形成(1)～(5)中的至少一個(gè)，從而可以簡便的步驟高品質(zhì)地制造靜電電容式輸入裝置。所述(1)～(5)為：(1)掩模層；(2)多個(gè)第一透明電極圖案；(3)多個(gè)第二透明電極圖案；(4)使所述第一透明電極圖案與所述第二透明電極圖案電性絕緣的絕緣層；及(5)導(dǎo)電性要素，與所述第一透明電極圖案及所述第二透明電極圖案的至少一方電性連接，且與第一及第二透明電極圖案不同?！緦＠f明】靜電電容式輸入裝置的制造方法及靜電電容式輸入裝置以及具備其的圖像顯示裝置【
技術(shù)領(lǐng)域：
】[0001]本發(fā)明涉及一種可檢測出手指的接觸位置作為靜電電容的變化的靜電電容式輸入裝置的制造方法，及通過該制造方法所得的靜電電容式輸入裝置，以及具備該靜電電容式輸入裝置作為構(gòu)成要素的圖像顯示裝置?！?br>背景技術(shù)：
】[0002]在移動(dòng)電話、汽車導(dǎo)航、個(gè)人計(jì)算機(jī)、售票機(jī)、銀行的終端等的電子機(jī)器中，近年來，在液晶裝置等的表面配置著輸入板(tablet)型的輸入裝置，一邊參照顯示于液晶裝置的圖像顯示區(qū)域的指示圖像，一邊使手指或觸控筆等觸碰顯示該指示圖像的部位，由此進(jìn)行與指示圖像相對應(yīng)的信息的輸入。[0003]此種輸入裝置(觸摸屏)中有電阻膜型、靜電電容式等。然而，電阻膜型的輸入裝置是利用膜與玻璃的2片結(jié)構(gòu)而將膜按下使其短路的結(jié)構(gòu)，因而具有動(dòng)作溫度范圍窄或經(jīng)時(shí)變化弱的缺點(diǎn)。[0004]與此相對，靜電電容式的輸入裝置具有可在僅僅一片基板上形成透光性導(dǎo)電膜的優(yōu)點(diǎn)。上述靜電電容式的輸入裝置中，例如有如下類型:使電極圖案沿彼此交叉的方向延伸，當(dāng)手指等接觸到時(shí)，感測到電極間的靜電電容變化而檢測輸入位置(例如參照下述專利文獻(xiàn)I)。[0005]而且，作為靜電電容式的輸入裝置，也有如下類型:對透光性導(dǎo)電膜的兩端施加同相、同電位的交流電流，手指接觸或者接近而感測到形成電容器時(shí)流動(dòng)的微弱電流，從而檢測輸入位置。作為此種靜電電容式輸入裝置，揭示有如下的靜電電容式輸入裝置，其包括:多個(gè)第一透明電極圖案，將多個(gè)襯墊(pad)部分經(jīng)由連接部分沿第一方向延伸而形成；及多個(gè)第二透明電極圖案，經(jīng)由層間絕緣層而與上述第一透明電極圖案電性絕緣，且包含沿與第一方向交叉的方向延伸而形成的多個(gè)襯墊部分(例如參照下述專利文獻(xiàn)2)。然而，該靜電電容式輸入裝置在所制作的靜電電容式輸入裝置上積層前面板，因而存在靜電電容式輸入裝置變厚或者變重的問題。[0006]進(jìn)而，揭示了如下的靜電電容式觸摸屏，其在前面板的非接觸側(cè)表面一體地形成著掩模層(masklayer)、讀出電路(sensecircuit)及層間絕緣層(例如參照下述專利文獻(xiàn)3)。該專利文獻(xiàn)3中，記載了靜電電容式觸摸屏中前面板與靜電電容式輸入裝置一體化，從而可薄層/輕量化，但并未對詳細(xì)的制造方法進(jìn)行記載。[0007]另一方面，揭示了如下方法:使用ITO(氧化銦錫)作為第一及第二透明電極的材質(zhì)，在利用真空蒸鍍、液體抗蝕劑進(jìn)行圖案化形成(曝光/顯影)后，對未被液體抗蝕劑被覆的部分進(jìn)行蝕刻處理，從而形成所期望的透明電極圖案(例如參照專利文獻(xiàn)4)。然而，若利用該方法，則存在制造裝置價(jià)格高、且不易降低成本的問題。[0008]而且，作為對設(shè)置在包含單一或多個(gè)基板及在這些基板上排列而形成的電極圖案的觸摸屏本體與觸摸屏本體的外側(cè)(離接觸面近的一側(cè))的保護(hù)板(玻璃或壓克力板)進(jìn)行接著的方法，而揭示了如下方法:使用感壓接著性片材來防止觸摸屏本體與保護(hù)板之間產(chǎn)生空氣層，且防止因空氣層界面的反射而引起的亮度、對比度降低(例如參照專利文獻(xiàn)5);在減壓下涂布硬化性樹脂并進(jìn)行貼合的方法(例如參照專利文獻(xiàn)6)。然而，因感壓接著片材價(jià)格高，故所附加的材料成本大，且因感壓接著片材厚，故存在薄層化或接著層厚度的均一化困難的問題。[0009]進(jìn)而，揭示了如下的透明電極圖案的制造方法，其通過網(wǎng)版印刷、平版印刷、噴墨印刷將作為第一及第二透明電極的材質(zhì)的(金屬)納米粒子分散液圖案化，然后煅燒(例如參照專利文獻(xiàn)7)。根據(jù)該制造方法，揭示了如下內(nèi)容:當(dāng)面電極圖案的制造簡便，成本削減容易，且可在保護(hù)板上直接設(shè)置電導(dǎo)元件群(電極圖案)或絕緣層，可薄層/輕量化(例如參照專利文獻(xiàn)7)。然而，即便通過該方法，也存在電極圖案的薄膜化或圖案的直線性不充分的問題。[0010][現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)][0011][專利文獻(xiàn)][0012][專利文獻(xiàn)I]日本專利特開2007-122326號[0013][專利文獻(xiàn)2]日本專利第4506785號[0014][專利文獻(xiàn)3]日本專利特開2009-193587號[0015][專利文獻(xiàn)4]美國專利申請案公開第2008-0264699號[0016][專利文獻(xiàn)5]日本專利特開2008-083491號[0017][專利文獻(xiàn)6]日本專利特開2004-325788號[0018][專利文獻(xiàn)7]日本專利特開2010-146283號【
發(fā)明內(nèi)容】[0019]發(fā)明要解決的課題[0020]另一方面，開發(fā)并發(fā)表了如下內(nèi)容:在液晶或有機(jī)電致發(fā)光(Electroluminescence,EL)顯示器上具備靜電電容式觸摸屏的智能手機(jī)或輸入板個(gè)人計(jì)算機(jī)(PersonalComputer,PC)中，在前面板(直接由手指接觸的面)使用以康寧公司的大猩猩玻璃(Gorillaglass)為代表的強(qiáng)化玻璃。而且，在上述前面板的一部分，形成著用以設(shè)置感壓(并非利用靜電電容變化而是利用按壓的機(jī)械性機(jī)構(gòu))開關(guān)的開口部的輸入裝置現(xiàn)已上市。這些強(qiáng)化玻璃的強(qiáng)度高、且加工困難，因而為了形成上述開口部，一般在強(qiáng)化處理前形成開口部，之后進(jìn)行強(qiáng)化處理。[0021]若欲在具有該開口部的強(qiáng)化處理后的基板上，使用蝕刻用的液體抗蝕劑來形成透明電極圖案，則抗蝕劑成分會(huì)自開口部漏出，或抗蝕劑成分會(huì)自需要直至前面板的邊界極限為止形成遮光圖案的掩模層上的玻璃端溢出，從而存在污染基板背側(cè)的問題。而且，在使用在臨時(shí)支撐體上僅形成光硬化性樹脂層的干膜抗蝕劑來形成掩模層或透明電極圖案的方法中，盡管設(shè)置在前面板背側(cè)的掩模層必需有遮光性，但因干膜疊層(laminate)時(shí)的氣泡而會(huì)產(chǎn)生漏光的問題，或者在跨著考慮到遮光性的方面而需要一定厚度(黑色層的情況下為數(shù)微米，白色層的情況下為30微米左右)的掩模層與前面板背面而將干膜疊層的情況下，存在上述掩模層的厚度階差的部分會(huì)殘留氣泡的問題。[0022]本發(fā)明的目的在于提供可以簡便的步驟高品質(zhì)地制造可薄層/輕量化的靜電電容式輸入裝置的靜電電容式輸入裝置的制造方法，及通過該制造方法而獲得的靜電電容式輸入裝置，以及使用該靜電電容式輸入裝置的圖像顯示裝置。[0023]解決問題的技術(shù)手段[0024][1]一種靜電電容式輸入裝置的制造方法，該靜電電容式輸入裝置具有前面板，且在上述前面板的非接觸側(cè)至少具有下述(1)~(5)的要素，上述靜電電容式輸入裝置的制造方法使用感光性膜來形成下述(1)~(5)的要素中的至少一個(gè)，上述感光性膜依序包括臨時(shí)支撐體、熱可塑性樹脂層、及光硬化性樹脂層；[0025](1)掩模層；[0026](2)多個(gè)第一透明電極圖案，多個(gè)襯墊部分經(jīng)由連接部分沿第一方向延伸而形成；[0027](3)多個(gè)第二透明電極圖案，與上述第一透明電極圖案電性絕緣，且包含沿與上述第一方向交叉的方向延伸而形成的多個(gè)襯墊部分；[0028](4)絕緣層，使上述第一透明電極圖案與上述第二透明電極圖案電性絕緣'及[0029](5)導(dǎo)電性要素，與上述第一透明電極圖案及上述第二透明電極圖案的至少一方電性連接，且與上述第一透明電極圖案及上述第二透明電極圖案不同。[0030][2]如[1]所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，其還包括以覆蓋上述(1)~(5)的要素的全部或一部分的方式而設(shè)置的透明保護(hù)層。[0031][3]如[2]所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，上述透明保護(hù)層為使用上述感光性膜而形成。[0032][4]如[1]至[3]中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，使用通過上述感光性膜而形成的蝕刻圖案來對透明導(dǎo)電材料進(jìn)行蝕刻處理，由此形成上述第一透明電極圖案、上述第二透明電極圖案及上述導(dǎo)電性要素中的至少一個(gè)。[0033][5]如[1]至[3]中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，上述感光性膜的上述光硬化性樹脂層為導(dǎo)電性光硬化性樹脂層，并且，使用上述感光性膜來形成上述第一透明電極圖案、上述第二透明電極圖案及上述導(dǎo)電性要素中的至少一個(gè)。[0034][6]如[1]至[5]中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，上述第一透明電極圖案及上述第二透明電極圖案的至少一方為跨著上述前面板的非接觸面、及上述掩模層的與上述前面板為相反側(cè)的面的兩個(gè)區(qū)域而設(shè)置。[0035][7]如[1]至[6]中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，上述導(dǎo)電性要素設(shè)置在至少上述掩模層的與前面板為相反側(cè)的面?zhèn)?。[0036][8]如[1]至[7]中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，上述感光性膜中，上述熱可塑性樹脂層具有3μm~30μm的厚度，上述熱可塑性樹脂層的100°C下測定的粘度處于1000帕?秒(Pa.sec)~1000OPa.sec的區(qū)域,上述光硬化性樹脂層的100°C下測定的粘度處于2000Pa.sec~50000Pa.sec的區(qū)域，并且，上述熱可塑性層樹脂層的粘度比上述光硬化性樹脂層的粘度低。[0037][9]如[I]至[8]中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，對上述前面板的非接觸面進(jìn)行表面處理，在已實(shí)施了上述表面處理的上述前面板的非接觸面上設(shè)置上述感光性膜。[0038][10]如[9]所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，上述前面板的表面處理中使用娃燒化合物。[0039][11]如[I]至[10]中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，上述前面板在至少一部分具有開口部。[0040][12]一種靜電電容式輸入裝置，利用如[I]至[11]中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法所制造。[0041][13]一種圖像顯示裝置，包含利用如[I]至[11]中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法所制造的靜電電容式輸入裝置作為構(gòu)成要素。[0042]發(fā)明的效果[0043]根據(jù)本發(fā)明，可提供可以簡便步驟高品質(zhì)地制造可薄層/輕量化的靜電電容式輸入裝置的靜電電容式輸入裝置的制造方法，及通過該制造方法而獲得的靜電電容式輸入裝置，以及使用了該靜電電容式輸入裝置的圖像顯示裝置?！緦＠綀D】【附圖說明】[0044]圖1是表示本發(fā)明的靜電電容式輸入裝置的構(gòu)成的剖面圖。[0045]圖2是表示本發(fā)明的前面板的一例的說明圖。[0046]圖3是表示本發(fā)明的第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一例的說明圖。[0047]圖4是表示形成著開口部的強(qiáng)化處理玻璃的一例的俯視圖。[0048]圖5是表不形成著掩模層的前面板的一例的俯視圖。[0049]圖6是表不形成著第一透明電極圖案的前面板的一例的俯視圖。[0050]圖7是表示形成著第一及第二透明電極圖案的前面板的一例的俯視圖。[0051]圖8是表示形成著與第一及第二透明電極圖案不同的導(dǎo)電性要素的前面板的一例的俯視圖。[0052]圖9是表示金屬納米線剖面的說明圖?！揪唧w實(shí)施方式】[0053]以下，對本發(fā)明的靜電電容式輸入裝置的制造方法、靜電電容式輸入裝置及圖像顯示裝置進(jìn)行說明。[0054]本發(fā)明的靜電電容式輸入裝置的制造方法(以下有時(shí)簡稱作“本發(fā)明的制造方法”)中，具有前面板，且在上述前面板的非接觸側(cè)至少具有下述(I)?(5)的要素，使用依序包括臨時(shí)支撐體、熱可塑性樹脂層、及光硬化性樹脂層的感光性膜，來形成上述(I)?(5)的要素中的至少一個(gè):[0055](I)掩模層；[0056](2)多個(gè)第一透明電極圖案，多個(gè)襯墊部分經(jīng)由連接部分沿第一方向延伸而形成；[0057](3)多個(gè)第二透明電極圖案，與上述第一透明電極圖案電性絕緣，且包含沿與上述第一方向交叉的方向延伸而形成的多個(gè)襯墊部分；[0058](4)絕緣層，使上述第一透明電極圖案與上述第二透明電極圖案電性絕緣'及[0059](5)導(dǎo)電性要素，與上述第一透明電極圖案及上述第二透明電極圖案的至少一方電性連接，且與上述第一透明電極圖案及上述第二透明電極圖案不同。[0060]首先，對通過本發(fā)明的制造方法形成的靜電電容式輸入裝置的構(gòu)成進(jìn)行說明。圖1是表示本發(fā)明的靜電電容式輸入裝置的構(gòu)成的剖面圖。圖1中，靜電電容式輸入裝置10包括前面板1、掩模層2、第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、絕緣層5、導(dǎo)電性要素6、及透明保護(hù)層7。[0061]前面板I包含玻璃基板等的透光性基板，可使用以康寧公司的大猩猩玻璃(Gorillaglass)為代表的強(qiáng)化玻璃等。而且，圖1中，將前面層I的設(shè)置著各要素的一側(cè)稱作非接觸面。本發(fā)明的靜電電容式輸入裝置10中，使手指等接觸前面板I的接觸面(非接觸面的相反的面)等而進(jìn)行輸入。以下，有時(shí)將前面板稱作“基材”。[0062]而且，在前面板I的非接觸面上設(shè)置著掩模層2。掩模層2為形成在觸摸屏前面板的非接觸側(cè)的顯示區(qū)域周圍的框形(frameshape)圖案，且是為了看不見布線配線(routingwiring)等而形成。[0063]如圖2所示，在本發(fā)明的靜電電容式輸入裝置10中，以覆蓋前面板I的一部分的區(qū)域(圖2中輸入面以外的區(qū)域)的方式設(shè)置掩模層2。進(jìn)而，在前面板I中，可如圖2所示在一部分設(shè)置開口部8。開口部8中可設(shè)置通過按壓而進(jìn)行的機(jī)械開關(guān)。[0064]在前面板I的接觸面形成著:多個(gè)第一透明電極圖案3，多個(gè)襯墊部分經(jīng)由連接部分沿第一方向延伸而形成；多個(gè)第二透明電極圖案4，與第一透明電極圖案3電性絕緣，且包含沿與第一方向交叉的方向延伸而形成的多個(gè)襯墊部分；及絕緣層5，使第一透明電極圖案3與第二透明電極圖案4電性絕緣。上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、及后述的導(dǎo)電性要素6,例如可利用氧化銦錫(IndiumTinOxide,ITO)或氧化銦鋅(IndiumZincOxide,IZO)等的透光性的導(dǎo)電性金屬氧化膜制作。作為此種金屬膜，可列舉ITO膜；Al,Zn,Cu,Fe,Ni,Cr,Mo等的金屬膜；Si02等的金屬氧化膜等。此時(shí)，各要素的膜厚可設(shè)為IOnm?200nm。而且，通過煅燒，將非晶形的ITO膜設(shè)為多晶的ITO膜，因而也可降低電阻。而且，上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、后述的導(dǎo)電性要素6，也可使用具有使用了上述導(dǎo)電性纖維的光硬化性樹脂層的感光性膜而制造。此外，在通過ITO等形成第一導(dǎo)電性圖案等的情況下，可參考日本專利第4506785號公報(bào)的段落[0014]?段落[0016]坐寸ο[0065]而且，第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4的至少一方可跨著前面板I的非接觸面及掩模層2的與前面板I為相反側(cè)的面的兩個(gè)區(qū)域而設(shè)置。圖1中，圖示了第二透明電極圖案跨著前面板I的非接觸面、及掩模層2的與前面板I為相反側(cè)的面的兩個(gè)區(qū)域而設(shè)置。這樣，即便在跨著需要一定厚度的掩模層與前面板背面而疊層感光性膜的情況下，通過使用具有本發(fā)明的特定的層構(gòu)成的感光性膜，無須使用真空貼合機(jī)等的高價(jià)設(shè)備，以簡單步驟便可進(jìn)行掩模部分邊界不會(huì)產(chǎn)生氣泡的疊層。[0066]使用圖3對第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4進(jìn)行說明。圖3是表示本發(fā)明的第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一例的說明圖。如圖3所示，第一透明電極圖案3的襯墊部分3a經(jīng)由連接部分3b沿第一方向延伸而形成。而且，第二透明電極圖案4通過絕緣層5而與第一透明電極圖案3電性絕緣，且包含沿與第一方向交叉的方向(圖3中的第二方向)延伸而形成的多個(gè)襯墊部分。此處，在形成第一透明電極圖案3的情況下，可將上述襯墊部分3a與連接部分3b設(shè)為一體來制作，也可僅制作連接部分3b而將襯墊部分3a與第二透明電極圖案4設(shè)為一體來制作(圖案化)。在將襯墊部分3a與第二透明電極圖案4設(shè)為一體來制作(圖案化)的情況下，如圖3所示，以將連接部分3b的一部分與襯墊部分3a的一部分加以連結(jié)，并且，通過絕緣層5而第一透明電極圖案3與第二透明電極圖案4電性絕緣的方式來形成各層。[0067]圖1中，在掩模層2的與前面板I為相反側(cè)的面?zhèn)仍O(shè)置著導(dǎo)電性要素6。導(dǎo)電性要素6與第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4的至少一方電性連接，且是與第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4不同的要素。圖1中圖示了導(dǎo)電性要素6與第二透明電極圖案4連接。[0068]而且，圖1中，以覆蓋各構(gòu)成要素的全部的方式設(shè)置著透明保護(hù)層7。透明保護(hù)層7也可以僅覆蓋各構(gòu)成要素的一部分的方式構(gòu)成。絕緣層5與透明保護(hù)層7可為同一材料，也可為不同材料。作為構(gòu)成絕緣層5與透明保護(hù)層7的材料，優(yōu)選表面硬度、耐熱性高的材料，而使用公知的感光性硅氧烷樹脂材料、丙烯酸系樹脂材料等。[0069]本發(fā)明的制造方法中，掩模層2、第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、絕緣層5、導(dǎo)電性要素6、與視需要的透明保護(hù)層7中的至少一個(gè)要素，為使用依序包括臨時(shí)支撐體、熱可塑性樹脂層、及光硬化性樹脂層的本發(fā)明的感光性膜而形成。[0070]上述掩模層2、絕緣層5及透明保護(hù)層7可通過使用本發(fā)明的感光性膜，將光硬化性樹脂層轉(zhuǎn)印至前面板I而形成。例如，在形成黑色的掩模層2的情況下，可使用具有作為上述光硬化性樹脂層的黑色光硬化性樹脂層的本發(fā)明的感光性膜，通過將上述黑色光硬化性樹脂層轉(zhuǎn)印至上述前面板I的表面而形成。在形成絕緣層5的情況下，可使用具有作為上述光硬化性樹脂層的絕緣性的光硬化性樹脂層的本發(fā)明的感光性膜，通過將上述光硬化性樹脂層轉(zhuǎn)印至形成著第一透明電極圖案的上述前面板I的表面而形成。在形成透明保護(hù)層7的情況下，可使用具有作為上述光硬化性樹脂層的透明的光硬化性樹脂層的本發(fā)明的感光性膜，通過將上述光硬化性樹脂層轉(zhuǎn)印至形成著各要素的上述前面板I的表面而形成。[0071]若使用上述感光性膜形成上述掩模層2等，則即便為具有開口部的基板(前面板)，抗蝕劑成分也不會(huì)自開口部分漏出，尤其抗蝕劑成分不會(huì)自需要直至前面板的邊界極限為止形成遮光圖案的掩模層上的玻璃端溢出，因而不會(huì)污染到基板背側(cè)，可以簡單的步驟制造具有薄層/輕量化的優(yōu)點(diǎn)的觸摸屏。[0072]進(jìn)而，在需要遮光性的掩模層2的形成中，通過使用具有在光硬化性樹脂層與臨時(shí)支撐體間包含熱可塑性樹脂層的特定的層構(gòu)成的本發(fā)明的感光性膜，可防止感光性膜疊層時(shí)的氣泡的產(chǎn)生，可形成無漏光的高品質(zhì)的掩模層2等。[0073]上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及導(dǎo)電性要素6，可使用蝕刻處理或具有導(dǎo)電性光硬化性樹脂層的本發(fā)明的感光性膜而形成。[0074]在通過蝕刻處理形成上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及另外的導(dǎo)電要素6的情況下，首先通過濺鍍在形成著掩模層2等的前面板I的非接觸面上形成ITO等的透明電極層。其次，使用具有作為上述光硬化性樹脂層的蝕刻用光硬化性樹脂層的本發(fā)明的感光性膜，通過曝光、顯影而在上述透明電極層上形成蝕刻圖案。然后，對透明電極層進(jìn)行蝕刻而將透明電極圖案化，并除去蝕刻圖案，由此可形成第一透明電極圖案3等。[0075]在使用具有導(dǎo)電性光硬化性樹脂層的本發(fā)明的感光性膜，形成上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及另外的導(dǎo)電要素6的情況下，可通過將上述導(dǎo)電性光硬化性樹脂層轉(zhuǎn)印至上述前面板I的表面而形成。[0076]若使用具有上述導(dǎo)電性光硬化性樹脂層的感光性膜形成上述第一透明電極圖案3等，則即便為具有開口部的基板(前面板)，抗蝕劑成分也不會(huì)自開口部分漏出，從而不會(huì)污染到基板背側(cè)，可以簡略的步驟制造具有薄層/輕量化的優(yōu)點(diǎn)的觸摸屏。[0077]進(jìn)而，在第一透明電極圖案3等的形成中，通過使用在導(dǎo)電性光硬化性樹脂層與臨時(shí)支撐體之間具有包含熱可塑性樹脂層的特定的層構(gòu)成的本發(fā)明的感光性膜，而可防止感光性膜疊層時(shí)的氣泡的產(chǎn)生，從而可導(dǎo)電性優(yōu)異且電阻少地形成第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及另外的導(dǎo)電要素6。[0078]作為在本發(fā)明的制造方法的過程中形成的實(shí)施方式例子，可列舉圖4?圖8的實(shí)施方式。圖4是表示形成著開口部8的強(qiáng)化處理玻璃11的一例的俯視圖。圖5是表示形成著掩模層2的前面板的一例的俯視圖。圖6是表示形成著第一透明電極圖案3的前面板的一例的俯視圖。圖7是表示形成著第一透明電極圖案3與第二透明電極圖案4的前面板的一例的俯視圖。圖8是表示形成著與第一及第二透明電極圖案不同的導(dǎo)電性要素6的前面板的一例的俯視圖。這些表示將上述說明具體化的例，本發(fā)明的范圍未通過這些圖式進(jìn)行限定性解釋。[0079]《本發(fā)明的感光性膜》[0080]其次，對本發(fā)明的制造方法中所使用的本發(fā)明的感光性膜進(jìn)行說明。本發(fā)明的感光性膜在臨時(shí)支撐體與光硬化性樹脂層之間具有熱可塑性樹脂層。若使用不具有上述熱可塑性樹脂層的感光性膜來形成掩模層等，則轉(zhuǎn)印光硬化性樹脂層而形成的要素上會(huì)產(chǎn)生氣泡，圖像顯示裝置中會(huì)產(chǎn)生圖像不均等，從而無法獲得優(yōu)異的顯示特性。[0081]本發(fā)明中所使用的感光性膜可為負(fù)型材料也可為正型材料。[0082]<臨時(shí)支撐體>[0083]作為臨時(shí)支撐體，可使用具有可撓性、加壓下或加壓及加熱下不會(huì)產(chǎn)生明顯變形、收縮或伸長的材料。作為此種支撐體的例，可列舉聚對苯二甲酸乙二酯膜、三醋酸纖維素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等，其中特別優(yōu)選為雙軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯膜。[0084]臨時(shí)支撐體的厚度未作特別限制，一般為5μm?200μm的范圍，就操作容易性、通用性等的方面而言，特別優(yōu)選為ΙΟμπι?150μm的范圍。[0085]而且，臨時(shí)支撐體可為透明，也可含有染料化硅、氧化鋁溶膠、鉻鹽、鋯鹽等。[0086]而且，本發(fā)明的臨時(shí)支撐體中通過日本專利特開2005-221726記載的方法等，可賦予導(dǎo)電性。[0087]<熱可塑性樹脂層>[0088]本發(fā)明的感光性膜中，在臨時(shí)支撐體與著色感光性樹脂層之間設(shè)置著熱可塑性樹脂層。上述熱可塑性樹脂層優(yōu)選為堿可溶性。熱可塑性樹脂層以可吸收基底表面的凹凸(也包括已形成的圖像等的凹凸等)的方式發(fā)揮著作為緩沖材料的作用，優(yōu)選為具有根據(jù)對象面的凹凸而可發(fā)生變形的性質(zhì)。[0089]熱可塑性樹脂層優(yōu)選為包含日本專利特開平5-72724號公報(bào)中所記載的有機(jī)高分子物質(zhì)來作為成分的形態(tài)，特別優(yōu)選為如下的形態(tài)，該形態(tài)包含選自通過維卡(Vicat)法[具體而言，利用美國材料試驗(yàn)法ASTMD1235的聚合物軟化點(diǎn)測定法]所得的軟化點(diǎn)約為80°C以下的有機(jī)高分子物質(zhì)的至少I種。[0090]具體而言，可列舉聚乙烯、聚丙烯等的聚烯烴，乙烯與乙酸乙烯酯或其皂化物等的乙烯共聚物，乙烯與丙烯酸酯或其皂化物的共聚物，聚氯乙烯或氯乙烯與乙酸乙烯酯或其皂化物等的氯乙烯共聚物，聚偏二氯乙烯，偏二氯乙烯共聚物，聚苯乙烯，苯乙烯與(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等的苯乙烯共聚物，聚乙烯基甲苯，乙烯基甲苯與(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等的乙烯基甲苯共聚物，聚(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酸丁酯與乙酸乙烯酯等的(甲基)丙烯酸酯共聚物，乙酸乙烯酯共聚物尼龍、共聚合尼龍、N-烷氧基甲基化尼龍、N-二甲基氨基化尼龍等的聚酰胺樹脂等有機(jī)高分子。[0091]熱可塑性樹脂層的層厚優(yōu)選為3μm?30μm。在熱可塑性樹脂層的層厚小于3μm的情況下，疊層時(shí)的追隨性不充分，有時(shí)無法完全吸收基底表面的凹凸。而且，在層厚超過30μm的情況下，在熱可塑性樹脂層形成于臨時(shí)支撐體時(shí)的干燥(溶劑除去)時(shí)施加負(fù)載，或熱可塑性樹脂層的顯影需要時(shí)間，或者使工藝適應(yīng)性劣化。作為上述熱可塑性樹脂層的層厚，更優(yōu)選為4μm?25μm,特別優(yōu)選為5μm?20μm。[0092]熱可塑性樹脂層可涂布包含熱可塑性的有機(jī)高分子的調(diào)制液等而形成，涂布等時(shí)所使用的調(diào)制液可使用溶劑進(jìn)行調(diào)制。溶劑中只要可溶解構(gòu)成該層的高分子成分則不作特另Ij限制，例如可列舉甲基乙基酮、環(huán)己酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、正丙醇、2-丙醇等。[0093]<光硬化性樹脂層>[0094]本發(fā)明的感光性膜可根據(jù)其用途而在光硬化性樹脂層中加入添加物。亦即，在掩模層的形成中使用上述感光性膜的情況下，使光硬化性樹脂層含有著色劑。而且，在本發(fā)明的感光性膜具有導(dǎo)電性光硬化性樹脂層的情況下，使上述光硬化性樹脂層中含有導(dǎo)電性纖維等。[0095]在本發(fā)明的感光性膜為負(fù)型材料的情況下，優(yōu)選為在光硬化性樹脂層中含有堿可溶性樹脂、聚合性化合物、聚合引發(fā)劑或聚合引發(fā)系。進(jìn)而，使用著色劑、添加劑等，但并不限于此。[0096]作為本發(fā)明中使用的感光性膜中包含的堿可溶性樹脂，可使用日本專利特開2011-95716號公報(bào)的段落[0025]、日本專利特開2010-237589號公報(bào)的段落[0033]?段落[0052]中所記載的聚合物。[0097]作為上述聚合性化合物，可使用日本專利第4098550號的段落[0023]?段落[0024]中所記載的聚合性化合物。[0098]作為上述聚合引發(fā)劑或聚合引發(fā)系，可使用日本專利特開2011-95716號公報(bào)中所記載的[0031]?[0042]中所記載的聚合性化合物。[0099](導(dǎo)電性光硬化性樹脂層(導(dǎo)電性纖維))[0100]在將積層了上述導(dǎo)電性光硬化性樹脂層的本發(fā)明的感光性膜用于透明電極圖案或者另外的導(dǎo)電性要素的形成中的情況下，可將以下的導(dǎo)電性纖維等用于光硬化性樹脂層中。[0101]作為導(dǎo)電性纖維的結(jié)構(gòu)，未作特別限制，可根據(jù)目的而適當(dāng)選擇，但優(yōu)選為中實(shí)結(jié)構(gòu)及中空結(jié)構(gòu)中的任一個(gè)。[0102]此處，有時(shí)將中實(shí)結(jié)構(gòu)的纖維稱作“線(wire)”，有時(shí)將中空結(jié)構(gòu)的纖維稱作“管(tube)”。而且，有時(shí)將平均短軸長度為5nm?1，OOOnm、且平均長軸長度為Iμm?100μm的導(dǎo)電性纖維稱作“納米線”。[0103]而且，有時(shí)將平均短軸長度為Inm?1，OOOnm、平均長軸長度為0.1μm?I,OOOμm,且具有中空結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電性纖維稱作“納米管”。[0104]作為上述導(dǎo)電性纖維的材料，只要具有導(dǎo)電性，則不作特別限制，可根據(jù)目的適當(dāng)選擇，優(yōu)選為金屬及碳中的至少任一個(gè)，這些之中，上述導(dǎo)電性纖維特別優(yōu)選為金屬納米線、金屬納米管、及碳納米管中的至少任一個(gè)。[0105][金屬納米線][0106]-金屬-[0107]作為上述金屬納米線的材料，未作特別限制，例如優(yōu)選為選自包含長周期律表(IUPAC1991)的第4周期、第5周期、及第6周期的群組中的至少I種金屬，更優(yōu)選為選自第2族?第14族的至少I種金屬，更優(yōu)選為選自第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族、及第14族的至少I種金屬，特別優(yōu)選為作為主成分而包含。[0108]作為上述金屬，例如可列舉銅、銀、金、鉬、鈕、鎳、錫、鈷、錯(cuò)、銥、鐵、釕、鋨、猛、鑰、鶴、銀、鉭、鈦、秘、鋪、鉛、這些的合金等。這些中，就導(dǎo)電性優(yōu)異的方面而言，優(yōu)選為主要含有銀者，或含有銀及銀以外的金屬的合金者。[0109]主要含有上述銀是指金屬納米線中含有50質(zhì)量％以上，優(yōu)選為含有90質(zhì)量％以上的銀。[0110]作為與上述銀的合金中所使用的金屬，可列舉鉬、鋨、鈀及銥等。這些可單獨(dú)使用I種，也可并用2種以上。[0111]-形狀-[0112]作為上述金屬納米線的形狀，未作特別限制，可根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可設(shè)為圓柱狀、長方體狀、剖面為多邊形的柱狀等任意的形狀，但在需要高透明性的用途中，優(yōu)選為圓柱狀、剖面的多邊形的角為圓形的剖面形狀。[0113]上述金屬納米線的剖面形狀可通過在基材上涂布金屬納米線水分散液，利用透射電子顯微鏡(TransmissionElectronMicroscopy,TEM)觀察剖面而調(diào)查。[0114]上述金屬納米線的剖面的角是指將剖面的各邊延長，與自相鄰的邊垂下的垂線相交的點(diǎn)的周邊部。而且，“剖面的各邊”是指連接這些相鄰的角與角的直線。該情況下，將上述“剖面的外周長度”相對于上述“剖面的各邊”的合計(jì)長度的比例設(shè)為銳利度。銳利度在例如圖9所示的金屬納米線剖面中，可由實(shí)線所示的剖面的外周長度與虛線所示的五邊形的外周長度的比例來表示。將該銳利度為75%以下的剖面形狀定義為角為圓形的剖面形狀。上述銳利度優(yōu)選為60%以下，更優(yōu)選為50%以下。若上述銳利度超過75%，則有時(shí)電子局部地存在于該角，等離體子吸收增加，殘留黃色等而透明性劣化。而且，有時(shí)圖案的邊緣部的直線性下降，會(huì)產(chǎn)生晃動(dòng)。上述銳利度的下限優(yōu)選為30%，更優(yōu)選為40%。[0115]-平均短軸長度徑及平均長軸長度-[0116]作為上述金屬納米線的平均短軸長度(有時(shí)稱作“平均短軸徑”、“平均直徑”)，優(yōu)選為150nm以下，進(jìn)而優(yōu)選為Inm?40nm,更優(yōu)選為IOnm?40nm,特別優(yōu)選為15nm?35nm。[0117]若上述平均短軸長度小于lnm，則有時(shí)耐氧化性劣化、耐久性劣化，若超過150nm，則有時(shí)會(huì)產(chǎn)生由金屬納米線引起的散射，而無法獲得充分的透明性。[0118]上述金屬納米線的平均短軸長度使用透射電子顯微鏡(TEM;日本電子(股)制造，JEM-2000FX)，觀察300個(gè)金屬納米線，根據(jù)其平均值求出金屬納米線的平均短軸長度。另外，上述金屬納米線的短軸不為圓形的情況下的短軸長度是將最長者設(shè)為短軸長度。[0119]作為上述金屬納米線的平均長軸長度(有時(shí)稱作“平均長度”)，優(yōu)選為Iym?40μm,更優(yōu)選為3μm?35μm,進(jìn)而優(yōu)選為5μm?30μm。[0120]若上述平均長軸長度小于Iμm，則有時(shí)難以形成致密的網(wǎng)，而無法獲得充分的導(dǎo)電性，若超過40μm,則有時(shí)金屬納米線過長而在制造時(shí)發(fā)生纏繞，從而制造過程中會(huì)產(chǎn)生凝聚物。[0121]上述金屬納米線的平均長軸長度例如使用透射電子顯微鏡(TEM；日本電子(股)制造，JEM-2000FX)，觀察300個(gè)金屬納米線，根據(jù)其平均值求出金屬納米線的平均長軸長度。另外，在上述金屬納米線彎曲的情況下，考慮將其設(shè)為弧的圓，將根據(jù)其半徑、及曲率算出的值設(shè)為長軸長度。[0122]自涂布液的穩(wěn)定性或涂布時(shí)的干燥或圖案化時(shí)的顯影時(shí)間等工藝適應(yīng)性的觀點(diǎn)而言，導(dǎo)電性光硬化性樹脂層的層厚優(yōu)選為0.1μm?20μm，更優(yōu)選為0.5μm?18μm，特別優(yōu)選為Iμm?15μm。上述導(dǎo)電性纖維相對于上述導(dǎo)電性光硬化性樹脂層的總固體成分的含量，自導(dǎo)電性與涂布液的穩(wěn)定性的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為0.01質(zhì)量％?50質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.05質(zhì)量％?30質(zhì)量％，特別優(yōu)選為0.1質(zhì)量％?20質(zhì)量％。[0123](掩模層(著色劑))[0124]而且，在將本發(fā)明中使用的感光性膜作為掩模層來使用的情況下，可在光硬化性樹脂層中使用著色劑。作為本發(fā)明中使用的著色劑，可優(yōu)選使用公知的著色劑(有機(jī)顏料、無機(jī)顏料、染料等)。另外，本發(fā)明中，除黑色著色劑之外，可使用紅色、藍(lán)色、綠色等的顏料的混合物等。[0125]在將上述光硬化性樹脂層作為黑色的掩模層而使用的情況下，自光學(xué)濃度的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為包含黑色著色劑。作為黑色著色劑，例如可列舉碳黑、鈦碳、氧化鐵、氧化鈦、石墨等，其中優(yōu)選為碳黑。[0126]在將上述光硬化性樹脂層作為白色的掩模層而使用的情況下，可使用日本專利特開2005-7765公報(bào)的段落[0015]或段落[0114]中所記載的白色顏料。為了作為其他顏色的掩模層而使用，也可使用日本專利第4546276號公報(bào)的段落[0183]?段落[0185]等中所記載的顏料，或者與染料混合而加以使用。具體而言，可優(yōu)選地使用日本專利特開2005-17716號公報(bào)的段落編號[0038]?段落編號[0054]中所記載的顏料及染料，日本專利特開2004-361447號公報(bào)的段落編號[0068]?段落編號[0072]中所記載的顏料，日本專利特開2005-17521號公報(bào)的段落編號[0080]?段落編號[0088]中所記載的著色劑等。[0127]上述著色劑(優(yōu)選為顏料，更優(yōu)選為碳黑)，較理想的是作為分散液而使用。該分散液可通過將預(yù)先混合上述著色劑與顏料分散劑所得的組合物添加至后述的有機(jī)溶劑(或載體(vehicle))中并使之分散而調(diào)制出。上述載體是指涂料處于液體狀態(tài)時(shí)使顏料分散的介質(zhì)的部分，包含為液狀而與上述顏料結(jié)合形成涂膜的成分(粘合劑)、及將其溶解稀釋的成分(有機(jī)溶劑)。[0128]作為使上述顏料分散時(shí)所使用的分散機(jī)，未作特別限制，例如可列舉朝倉邦造著，《顏料的百科詞典》，第一版，朝倉書店，2000年，438項(xiàng)所記載的捏合機(jī)、輥磨機(jī)、磨碎機(jī)(attritor)、高速研磨機(jī)、溶解器(dissolver)、均勻混合器、砂磨機(jī)等的公知的分散機(jī)。進(jìn)而也可通過該文獻(xiàn)310頁記載的機(jī)械性磨碎，而利用摩擦力進(jìn)行微粉碎。[0129]自分散穩(wěn)定性的觀點(diǎn)而言，本發(fā)明中使用的著色劑優(yōu)選為數(shù)平均粒徑0.0Olμm?0.1μm的著色劑，更優(yōu)選為0.01μm?0.08μm的著色劑。另外，此處提及的“粒徑”是指將粒子的電子顯微鏡照片圖像設(shè)為同面積的圓時(shí)的直徑，而且，“數(shù)平均粒徑”是對多個(gè)粒子求出上述粒徑，而指該100個(gè)平均值。[0130]自與其他層的厚度差的觀點(diǎn)而言，包含著色劑的光硬化性樹脂層的層厚優(yōu)選為0.5μm?10μm,更優(yōu)選為0.8μm?5μm,特別優(yōu)選為Iμm?3μm。作為本發(fā)明的著色感光性樹脂組合物的固體成分中的著色劑的含有率，未作特別限制，自充分縮短顯影時(shí)間的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為15質(zhì)量％?70質(zhì)量％,更優(yōu)選為20質(zhì)量％?60質(zhì)量％,進(jìn)而更優(yōu)選為25質(zhì)量％?50質(zhì)量％。[0131]本說明書中提及的總固體成分是指自著色感光性樹脂組合物中除去溶劑等的非揮發(fā)成分的總質(zhì)量。[0132]另外，在使用上述感光性膜形成絕緣層的情況下，自絕緣性的維持的觀點(diǎn)考慮，光硬化性樹脂層的層厚優(yōu)選為0.Ιμπι?5μπι，更優(yōu)選為0.3μπι?3μπι，特別優(yōu)選為0.5μm?2μm0[0133]在使用上述感光性膜形成透明保護(hù)層的情況下，自發(fā)揮充分的表面保護(hù)能的觀點(diǎn)而言，光硬化性樹脂層的層厚優(yōu)選為0.5μm?10μm，更優(yōu)選為0.8μm?5μm，特別優(yōu)選為Iym?3ym0[0134]〈添加劑〉[0135]進(jìn)而，上述光硬化性樹脂層也可使用添加劑。作為上述添加劑，例如可列舉日本專利第4502784號公報(bào)的段落[0017]、日本專利特開2009-237362號公報(bào)的段落[0060]?段落[0071]中所記載的界面活性劑，或日本專利第4502784號公報(bào)的段落[0018]中所記載的熱聚合防止劑，進(jìn)而，日本專利特開2000-310706號公報(bào)的段落[0058]?段落[0071]中所記載的其他添加劑。[0136]而且，作為通過涂布制造本發(fā)明的感光性膜時(shí)的溶劑，可使用日本專利特開2011-95716號公報(bào)的段落[0043]?段落[0044]中所記載的溶劑。[0137]以上，以本發(fā)明的感光性膜為負(fù)型材料的情況為中心進(jìn)行了說明，上述感光性膜也可為正型材料。在上述感光性膜為正型材料的情況下，在光硬化性樹脂層中使用例如日本專利特開2005-221726記載的材料等，但并不限定于此。[0138]<熱可塑性樹脂層及光硬化性樹脂層的粘度>[0139]本發(fā)明的熱可塑性樹脂層的1000C下測定的粘度處于IOOOPa.sec?IOOOOPa.sec的區(qū)域，光硬化性樹脂層的100V下測定的粘度處于2000Pa.sec?50000Pa.sec的區(qū)域，進(jìn)而優(yōu)選為滿足下述式(A)。[0140]式(A):熱可塑性樹脂層的粘度〈光硬化性樹脂層的粘度[0141]此處，各層的粘度可如下述般測定。通過大氣壓及減壓干燥，自熱可塑性樹脂層或者光硬化性樹脂層用涂布液中除去溶劑而設(shè)為測定樣品，例如，作為測定器，使用維布隆(VIBRON)(DD-1II型:東洋鮑德溫(ToyoBALDWIN)(股)制造)，在測定開始溫度50°C、測定結(jié)束溫度150°C、升溫速度5°C/分鐘及振動(dòng)數(shù)IHz/deg的條件下進(jìn)行測定，可使用100°C的測定值。[0142]〈其他層〉[0143]在本發(fā)明中使用的感光性膜上，可在光硬化性樹脂層與熱可塑性樹脂層之間設(shè)置中間層，或者在光硬化性樹脂層的表面進(jìn)而設(shè)置保護(hù)膜等而優(yōu)選地構(gòu)成。[0144]在本發(fā)明中使用的感光性膜上，為了防止涂布多層時(shí)及涂布后的保存時(shí)的成分的混合，優(yōu)選為設(shè)置中間層。作為中間層，優(yōu)選為日本專利特開平5-72724號公報(bào)中作為“分離層”而記載的具有氧遮斷功能的氧遮斷膜，曝光時(shí)的感度提高，可減輕曝光機(jī)的時(shí)間負(fù)載，從而生廣性提聞。[0145]作為上述中間層及保護(hù)膜，可適當(dāng)使用日本專利特開2006-259138號公報(bào)的段落[0083]?段落[0087]及段落[0093]中所記載的材料。[0146]〈感光性膜的制作方法〉[0147]本發(fā)明的感光性膜可依據(jù)日本專利特開2006-259138號公報(bào)的段落[0094]?段落[0098]中所記載的感光性轉(zhuǎn)印材料的制作方法來制作。[0148]具體而言，在形成具有中間層的本發(fā)明的感光性膜的情況下，在臨時(shí)支撐體上，涂布一并溶解有熱可塑性的有機(jī)高分子及添加劑的溶解液(熱可塑性樹脂層用涂布液)，使之干燥而設(shè)置熱可塑性樹脂層后，在該熱可塑性樹脂層上涂布調(diào)制液(中間層用涂布液)，該調(diào)制液是在不溶解熱可塑性樹脂層的溶劑中添加樹脂或添加劑進(jìn)行調(diào)制所得，使之干燥而積層中間層，在該中間層上進(jìn)而涂布使用不溶解中間層的溶劑而調(diào)制出的著色感光性樹脂層用涂布液，使之干燥而積層著色感光性樹脂層，由此可優(yōu)選地制作。[0149]《本發(fā)明的靜電電容式輸入裝置的制造方法》[0150]如上述般本發(fā)明的靜電電容式輸入裝置的制造方法中，掩模層、第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、絕緣層、導(dǎo)電性要素、及視需要的透明保護(hù)層中的至少一個(gè)要素，使用依序具有臨時(shí)支撐體、熱可塑性樹脂層、及光硬化性樹脂層的本發(fā)明的感光性膜而形成。[0151]在使用本發(fā)明的感光性膜來形成上述掩模層、絕緣層及透明保護(hù)層或使用了導(dǎo)電性光硬化性樹脂層的情況下的第一透明電極圖案、第二透明電極圖案及導(dǎo)電性要素等的永久材料的情況下，感光性膜在被疊層至基材上后，曝光成所需的圖案樣式，在為負(fù)型材料的情況下對非曝光部分、在為正型材料的情況下對曝光部分進(jìn)行顯影處理而除去，由此可獲得圖案。此時(shí)，就顯影而言，對熱可塑性樹脂層、光硬化性層可利用各種不同的液體將顯影除去，也可利用相同的液體而除去。也可視需要組合毛刷(brush)或高壓噴射等的公知的顯影設(shè)備。顯影后，也可視需要進(jìn)行后曝光、后烘烤。[0152]而且，為了通過后面的轉(zhuǎn)印步驟中的疊層而提高感光性樹脂層的密接性，可預(yù)先對基材(前面板)的非接觸面實(shí)施表面處理。作為上述表面處理，優(yōu)選為實(shí)施使用了硅烷化合物的表面處理(硅烷偶合處理)。作為硅烷偶合劑，優(yōu)選為具有與感光性樹脂相互發(fā)揮作用的官能基的偶合劑。例如通過噴淋而噴附硅烷偶合液(Ν-β(氨基乙基)Y-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3質(zhì)量％水溶液，商品名:ΚΒΜ603，信越化學(xué)(股)制造)20秒，并進(jìn)行純水噴淋清洗。然后，通過加熱使其發(fā)生反應(yīng)。也可使用加熱槽，貼合機(jī)的基板預(yù)備加熱也可促進(jìn)反應(yīng)。[0153]而且，使用本發(fā)明的感光性膜作為剝離材，也可形成第一透明電極層、第二透明電極層及其他的導(dǎo)電性構(gòu)件。該情況下，在使用本發(fā)明的感光性膜進(jìn)行圖案化后，在基材整個(gè)面上形成了透明導(dǎo)電層后，針對每個(gè)堆積的透明導(dǎo)電層進(jìn)行本發(fā)明的光硬化性樹脂層的溶解除去，從而可獲得所期望的透明導(dǎo)電層圖案(剝離法)。[0154](使用本發(fā)明的感光性膜形成永久材料的情況)[0155]關(guān)于使用本發(fā)明的感光性膜形成永久材料的情況，以形成掩模層(黑色)的方法為例，對使用了本發(fā)明的感光性膜的圖案化方法進(jìn)行說明。[0156]形成上述掩模層的方法，可列舉具有如下步驟的方法:自本發(fā)明的感光性膜除去上述覆蓋膜的覆蓋膜除去步驟，將除去了上述覆蓋膜的上述感光性轉(zhuǎn)印材料的上述感光性樹脂層轉(zhuǎn)印至基材上的轉(zhuǎn)印步驟，對轉(zhuǎn)印至基材上的上述感光性樹脂層進(jìn)行曝光的曝光步驟，及將所曝光的感光性樹脂層進(jìn)行顯影而獲得圖案圖像的顯影步驟。[0157]-轉(zhuǎn)印步驟-[0158]上述轉(zhuǎn)印步驟是將除去了上述覆蓋膜的上述感光性膜的上述光硬化性樹脂層轉(zhuǎn)印至基材上的步驟。[0159]此時(shí)，優(yōu)選為通過將上述感光性膜的光硬化性樹脂層疊層至基材后，而除去臨時(shí)支撐體來進(jìn)行的方法。[0160]光硬化性樹脂層對基材表面的轉(zhuǎn)印(貼合)通過將光硬化性樹脂層重合在基材表面，并加壓、加熱而進(jìn)行。貼合中可使用貼合機(jī)、真空貼合機(jī)、及可進(jìn)一步提高生產(chǎn)性的自動(dòng)貼合機(jī)等的公知的貼合機(jī)。[0161]-曝光步驟、顯影步驟、及其他步驟_[0162]作為上述曝光步驟、顯影步驟、及其他步驟的例，也可將日本專利特開2006-23696號公報(bào)的段落編號[0035]?段落編號[0051]中所記載的方法優(yōu)選地用于本發(fā)明中。[0163]上述曝光步驟是對轉(zhuǎn)印至基材上的上述光硬化性樹脂層進(jìn)行曝光的步驟。[0164]具體而言，可列舉如下方法:將規(guī)定的掩模配置在形成于上述基材上的光硬化性樹脂層的上方，然后經(jīng)由該掩模、熱可塑性樹脂層、及中間層而自掩模上方進(jìn)行曝光。[0165]此處，作為上述曝光的光源，只要為可照射能夠?qū)⒐庥不詷渲瑢佑不牟ㄩL域的光(例如365nm、405nm等)的光源，則可適當(dāng)選定來使用。具體而言，可列舉超高壓水銀燈、高壓水銀燈、金屬鹵素?zé)舻?。作為曝光量，通常?mJ/cm2?200mJ/cm2左右，優(yōu)選為IOmJ/cm2?IOOmJ/cm2左右。[0166]上述顯影步驟是將所曝光的光硬化性樹脂層顯影的步驟。[0167]上述顯影可使用顯影液來進(jìn)行。作為上述顯影液，未作特別限制，可使用日本專利特開平5-72724號公報(bào)中所記載的顯影液等公知的顯影液。另外，顯影液優(yōu)選為光硬化性樹脂層進(jìn)行溶解型的顯影行為的顯影液，例如優(yōu)選為以0.05mol/L?5mol/L的濃度含有pKa=7?13的化合物的顯影液，也可進(jìn)而少量添加與水具有混和性的有機(jī)溶劑。作為與水具有混和性的有機(jī)溶劑，可列舉甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單-正丁醚、芐醇、丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、ε-己內(nèi)酯、Y-丁內(nèi)酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己內(nèi)酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。該有機(jī)溶劑的濃度優(yōu)選為0.1質(zhì)量％?30質(zhì)量％。而且，上述顯影液中可進(jìn)而添加公知的界面活性劑。界面活性劑的濃度優(yōu)選為0.01質(zhì)量％?10質(zhì)量％。[0168]作為上述顯影的方式，也可為浸置顯影、噴淋顯影、噴淋&旋涂顯影、浸潰顯影等的任一個(gè)。此處，若對上述噴淋顯影進(jìn)行說明，則通過噴淋對曝光后的光硬化性樹脂層噴附顯影液，可將未硬化部分除去。另外，在設(shè)置熱可塑性樹脂層或中間層的情況下，優(yōu)選為在顯影前預(yù)先通過噴淋等噴附光硬化性樹脂層的溶解性低的堿性的液體，將熱可塑性樹脂層、中間層等除去。而且，優(yōu)選為在顯影后，通過噴淋噴附清洗劑等，一邊利用毛刷等擦拭，一邊將顯影殘?jiān)?。顯影液的液溫優(yōu)選為20°C?40°C，而且，顯影液的pH值優(yōu)選為8?13。[0169]本發(fā)明的制造方法也可包括后曝光步驟、后烘烤步驟等其他步驟。[0170]另外，圖案化曝光也可在將臨時(shí)支撐體剝離后進(jìn)行，也可在將臨時(shí)支撐體剝離前曝光，然后將臨時(shí)支撐體剝離?？蔀榻?jīng)由掩模的曝光，也可為使用了激光等的數(shù)字曝光。[0171](使用本發(fā)明的感光性膜作為蝕刻阻劑的情況)[0172]在將本發(fā)明的感光性膜作為蝕刻阻劑(蝕刻圖案)而使用的情況下，也與上述方法同樣地，可獲得抗蝕圖案。上述蝕刻可利用日本專利特開2010-152155公報(bào)的段落[0048]?段落[0054]等中所記載的公知的方法而使用蝕刻、抗蝕劑剝離。[0173]例如，作為蝕刻的方法，可列舉一般進(jìn)行的浸潰于蝕刻液中的濕式蝕刻法。濕式蝕刻中所使用的蝕刻液根據(jù)蝕刻的對象適當(dāng)選擇酸性類型或堿性類型的蝕刻液即可。作為酸性類型的蝕刻液，可例示鹽酸、硫酸、氟酸、磷酸等的酸性成分單獨(dú)的水溶液，酸性成分與氯化鐵、氟化銨、高錳酸鉀等的鹽的混合水溶液等。酸性成分可使用組合了多個(gè)酸性成分的成分。而且，作為堿性類型的蝕刻液，可例示氫氧化鈉、氫氧化鉀、氨、有機(jī)胺、四甲基氫氧化銨這樣的有機(jī)胺的鹽等堿性成分單獨(dú)的水溶液，堿性成分與高錳酸鉀等的鹽的混合水溶液等。堿性成分也可使用組合了多個(gè)堿性成分的成分。[0174]蝕刻液的溫度未作特別限定，優(yōu)選為45°C以下。本發(fā)明中作為蝕刻掩模(蝕刻圖案)而使用的樹脂圖案通過使用上述光硬化性樹脂層而形成，從而可對此種溫度范圍的酸性及堿性的蝕刻液發(fā)揮特別優(yōu)異的耐性。因此，防止蝕刻步驟中樹脂圖案剝離，對不存在樹脂圖案的部分選擇性地進(jìn)行蝕刻。[0175]上述蝕刻后，為了防止生產(chǎn)線污染，也可視需要進(jìn)行清洗步驟、干燥步驟。關(guān)于清洗步驟，例如常溫下利用純水以10秒?300秒對基材進(jìn)行清洗，關(guān)于干燥步驟，也可使用鼓風(fēng)，對鼓風(fēng)壓(0.1kg/Cm2?5kg/cm2左右)進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整。[0176]其次，作為樹脂圖案的剝離方法，未作特別限定，例如可列舉在30°C?80°C下，優(yōu)選為在50°C?80°C下將基材浸潰于攪拌中的剝離液中5分鐘?30分鐘的方法。本發(fā)明中作為蝕刻掩模而使用的樹脂圖案，如上述般45°C以下顯示出優(yōu)異的化學(xué)液耐性，但若化學(xué)液溫度為50°C以上則顯示出因堿性的剝離液而膨潤的性質(zhì)。根據(jù)此種性質(zhì)，若使用50°C?80°C的剝離液進(jìn)行剝離步驟則具有步驟時(shí)間短縮，樹脂圖案的剝離殘?jiān)鼫p少的優(yōu)點(diǎn)。亦即，通過在上述蝕刻步驟與剝離步驟之間對化學(xué)液溫度設(shè)置差異，本發(fā)明中作為蝕刻掩模而使用的樹脂圖案在蝕刻步驟中發(fā)揮良好的化學(xué)液耐性，另一方面，在剝離步驟中顯示出良好的剝離性，從而可滿足化學(xué)液耐性與剝離性這兩種相反的特性。[0177]作為剝離液，例如可列舉使氫氧化鈉、氫氧化鉀等的無機(jī)堿性成分或3級胺、4級銨鹽等的有機(jī)堿性成分，溶解在水、二甲基亞砜、N-甲基吡咯烷酮或這些的混合溶液中所得的化合物。也可使用上述剝離液，通過噴霧法、噴淋法、浸置法等進(jìn)行剝離。[0178]《靜電電容式輸入裝置、及包括靜電電容式輸入裝置作為構(gòu)成要素的圖像顯示裝置》[0179]通過本發(fā)明的制造方法而獲得的靜電電容式輸入裝置及包括該靜電電容式輸入裝置作為構(gòu)成要素的圖像顯示裝置，可使用《最新觸摸屏技術(shù)》(2009年7月6日發(fā)行技術(shù)時(shí)代(Technotimes)公司(股))，三谷雄二主編的《觸摸屏的技術(shù)與開發(fā)》、CMC出版(2004，12)，((FPD國際論壇2009(FPDInternational2009Forum)T-1l演講教材》，《賽普拉斯半導(dǎo)體公司(CypressSemiconductorCorporation)應(yīng)用手冊(ApplicationNote)AN2292》等中所揭示的構(gòu)成。[0180]實(shí)施例[0181]以下，通過實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行更具體說明，只要本發(fā)明不超過其主旨，則不限定于以下的實(shí)施例。另外，只要未作特別說明，則“％”及“份”為質(zhì)量基準(zhǔn)。[0182][實(shí)施例1][0183]《掩模層的形成》[0184][掩模層形成用感光性膜Kl的調(diào)制][0185]在厚度75μm的聚對苯二甲酸乙二酯膜臨時(shí)支撐體上，使用狹縫狀噴嘴，來涂布包含下述配方Hl的熱可塑性樹脂層用涂布液并使其干燥。其次，涂布包含下述配方Pl的中間層用涂布液并使其干燥。進(jìn)而，涂布包含下述配方Kl的黑色光硬化性樹脂層用涂布液并使其干燥。如此在臨時(shí)支撐體上，設(shè)置干燥膜厚為15.1ym的熱可塑性樹脂層，干燥膜厚為1.6μm的中間層，且以光學(xué)濃度為4.0的方式設(shè)置干燥膜厚為2.2μm的黑色光硬化性樹脂層，最后壓接保護(hù)膜(厚度12μm聚丙烯膜)。如此制作臨時(shí)支撐體、熱可塑性樹脂層、中間層(氧遮斷膜)、及黑色光硬化性樹脂層為一體的轉(zhuǎn)印材料，將樣品名設(shè)為掩模層形成用感光性膜Kl。[0186](熱可塑性樹脂層用涂布液:配方Hl)[0187]?甲醇:11.1質(zhì)量份[0188].丙二醇單甲醚乙酸酯:6.36質(zhì)量份[0189].甲基乙基酮:52.4質(zhì)量份[0190].甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸-2-乙基己酯/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚合組成比(摩爾比)=55/11.7/4.5/28.8,分子量=10萬，TgN700C):5.83質(zhì)量份[0191]?苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚合組成比(摩爾比)=63/37，重量平均分子量=1TgNlOOO):13.6質(zhì)量份[0192]?單體I(商品名:BPE-500，新中村化學(xué)工業(yè)(股)制造):9.I質(zhì)量份[0193].氟系聚合物:0.54質(zhì)量份[0194]上述氟系聚合物為C6F13CH2CH20C0CH=CH240份、H(0CH(CH3)CH2)70C0CH=CH255份與H(OCHCH2)70C0CH=CH25份的共聚物，重量平均分子量3萬，甲基乙基酮30質(zhì)量％溶液(商品名:美卡夫克(Megafac)F780F，大日本油墨化學(xué)工業(yè)(股)制造)[0195]另外，熱可塑性樹脂層用涂布液Hl的溶劑除去后的120°C的粘度為1500Pa?sec。[0196](中間層用涂布液:配方PI)[0197].聚乙烯醇:32.2質(zhì)量份[0198](商品名:PVA205,可樂麗(Kuraray)制造(股)，阜化度=88%,聚合度550)[0199].聚乙烯吡咯烷酮:14.9質(zhì)量份[0200](商品名:K-30,ISP日本(ISPJapan)(股)制造)[0201]?蒸餾水:524質(zhì)量份[0202]?甲醇:429質(zhì)量份[0203](黑色光硬化性樹脂層用涂布液:配方Kl)[0204].K顏料分散物1:31.2質(zhì)量份[0205].R顏料分散物I(下述的組成):3.3質(zhì)量份[0206].MMPGAc(大賽璐(Daisel)化學(xué)(股)制造):6.2質(zhì)量份[0207].甲基乙基酮(東燃化學(xué)(股)制造):34.0質(zhì)量份[0208]?環(huán)己酮(關(guān)東電化工業(yè)(股)制造):8.5質(zhì)量份[0209]?粘合劑2(甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸=78/22摩爾比的無規(guī)共聚物，重量平均分子量3.8萬):10.8質(zhì)量份[0210].吩噻嗪(東京化成(股)制造):0.01質(zhì)量份[0211]^DPHA(季戊四醇六丙烯酸酯，日本化藥(股)制造)的丙二醇單甲醚乙酸酯溶液(76質(zhì)量％):5.5質(zhì)量份[0212].2，4_雙(三氯甲基)-6_[4'_(N，N-雙(乙氧基羰基甲基)氨基_3'-溴苯基]-均三嗪:0.4質(zhì)量份[0213].界面活性劑(商品名=MegafacF-780F，大日本油墨(股)制造):0.1質(zhì)量份[0214]另外，黑色光硬化性樹脂層用涂布液Kl的溶劑除去后的100°C的粘度為1000OPa.sec。[0215](K顏料分散物I的組成)[0216].碳黑(商品名:尼派克(Nipex)35,德固賽(Degussa)公司制造):13.1質(zhì)量％[0217].下述分散劑1:0.65質(zhì)量％[0218]?粘合劑I(甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸=72/28摩爾比的無規(guī)共聚物，重量平均分子量3.7萬):6.72質(zhì)量％[0219]?丙二醇單甲醚乙酸酯:79.53質(zhì)量％[0220]【權(quán)利要求】1.一種靜電電容式輸入裝置的制造方法，所述靜電電容式輸入裝置具有前面板，且在所述前面板的非接觸側(cè)至少具有下述(I)~(5)的要素，所述靜電電容式輸入裝置的制造方法使用感光性膜來形成下述(I)~(5)的要素中的至少一個(gè)，所述感光性膜依序包括臨時(shí)支撐體、熱可塑性樹脂層、及光硬化性樹脂層；(1)掩模層；(2)多個(gè)第一透明電極圖案，多個(gè)襯墊部分經(jīng)由連接部分沿第一方向延伸而形成；(3)多個(gè)第二透明電極圖案，與所述第一透明電極圖案電性絕緣，且包含沿與所述第一方向交叉的方向延伸而形成的多個(gè)襯墊部分；(4)絕緣層，使所述第一透明電極圖案與所述第二透明電極圖案電性絕緣'及(5)導(dǎo)電性要素，與所述第一透明電極圖案及所述第二透明電極圖案的至少一方電性連接，且與所述第一透明電極圖案及所述第二透明電極圖案不同。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，其中，還包括以覆蓋所述(1)~(5)的要素的全部或一部分的方式而設(shè)置的透明保護(hù)層。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，其中，所述透明保護(hù)層為使用所述感光性膜而形成。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，其中，使用通過所述感光性膜而形成的蝕刻圖案來對透明導(dǎo)電材料進(jìn)行蝕刻處理，由此形成所述第一透明電極圖案、所述第二透明電極圖案及所述導(dǎo)電性要素中的至少一個(gè)。5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，其中，所述感光性膜的所述光硬化性樹脂層為導(dǎo)電性光硬化性樹脂層，并且，使用所述感光性膜來形成所述第一透明電極圖案、所述第二透明電極圖案及所述導(dǎo)電性要素中的至少一個(gè)。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，其中，所述第一透明電極圖案及所述第二透明電極圖案的至少一方為跨著所述前面板的非接觸面、及所述掩模層的與所述前面板為相反側(cè)的面的兩個(gè)區(qū)域而設(shè)置。7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，其中，所述導(dǎo)電性要素設(shè)置在至少所述掩模層的與所述前面板為相反側(cè)的面?zhèn)取?.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，其中，所述感光性膜中，所述熱可塑性樹脂層具有3μm~30μm的厚度，所述熱可塑性樹脂層的100°C下測定的粘度處于1000帕.秒~10000帕.秒的區(qū)域，所述光硬化性樹脂層的100°C下測定的粘度處于2000帕.秒~50000帕.秒的區(qū)域，并且，所述熱可塑性層樹脂層的粘度比所述光硬化性樹脂層的粘度低。9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，其中，對所述前面板的非接觸面進(jìn)行表面處理，在已實(shí)施了所述表面處理的所述前面板的非接觸面上設(shè)置所述感光性膜。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，其中，在所述前面板的表面處理中使用硅烷化合物。11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法，其中，所述前面板在至少一部分具有開口部。12.一種靜電電容式輸入裝置，其是利用如權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法所制造。13.一種圖像顯示裝置，其包含利用如權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的靜電電容式輸入裝置的制造方法所制造的靜電電容式輸入裝置作為構(gòu)成要素?！疚臋n編號】G06F3/044GK103842948SQ201280046729【公開日】2014年6月4日申請日期:2012年9月26日優(yōu)先權(quán)日:2011年9月30日【發(fā)明者】児玉知啟,竹內(nèi)公申請人:富士膠片株式會(huì)社