專(zhuān)利名稱(chēng)：一種單層玻璃電容式觸摸屏上金屬logo的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及表面裝飾技術(shù)，特別涉及一種單層玻璃電容式觸摸屏上金屬logo (標(biāo)志)的制作方法。
背景技術(shù)：
隨著電容式觸摸屏手機(jī)的普及，各大手機(jī)TP (觸摸屏)廠商都在開(kāi)發(fā)新的技術(shù)，以降低成本，提升競(jìng)爭(zhēng)力；目前電容式觸摸屏成熟解決的方案有G+G(玻璃對(duì)玻璃結(jié)構(gòu))，G+F(玻璃對(duì)膜結(jié)構(gòu))。為了實(shí)現(xiàn)更低成本，更輕便，穿透率更好，目前各家TP商開(kāi)始投入OGS(One glass solution— 一片玻璃解決方案)研發(fā)，將感應(yīng)功能層做在Cover LENS (玻璃蓋板)上,可以節(jié)省一次玻璃對(duì)玻璃的貼合，同時(shí)少使用一塊玻璃,成本大幅下降，良率也明顯提高。目前做法是大片制成，即先通過(guò)黃光和鍍膜工藝制作成大片TP (觸摸屏)，然后切割成小片，CNC (精雕機(jī))處理后經(jīng)過(guò)二次強(qiáng)化，之后絲印銀漿logo (標(biāo)志)。而銀漿成本昂貴， 還需要開(kāi)磨具網(wǎng)版，本發(fā)明可以少一次絲印工序，成本大幅度降低，良率會(huì)減少幾個(gè)點(diǎn)的損失。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種單層玻璃電容式觸摸屏上金屬logo (標(biāo)志)的制作方法，單層玻璃觸摸屏絲印logo (標(biāo)志)采用鍍金屬膜的方式一次完成，不再需要絲印銀漿。本發(fā)明采用鍍膜方式制作logo (標(biāo)志)，同樣具有金屬質(zhì)感，鍍制金屬膜與絲印銀漿有同樣的效果，而且磁控濺射鍍金屬膜是必不可少的工序，該工序的特點(diǎn)是鍍膜后經(jīng)過(guò)黃光及蝕刻工藝一次完成觸摸屏邊框金屬走線(xiàn)，金屬橋
以及金屬logo(標(biāo)志)。這樣少一次絲印工序，良率會(huì)提高，成本會(huì)降低。而且采用真空濺射鍍膜的方法制作logo (標(biāo)志)比較絲印方法有更好的附著性能。本發(fā)明采取的技術(shù)方案是一種單層玻璃電容式觸摸屏上金屬logo (標(biāo)志)的制作方法，其特征在于包括以下設(shè)計(jì)步驟
a)清洗干凈已做好ITO(氧化銦錫)圖形的觸摸屏半成品；
b)采用真空濺射連續(xù)鍍金屬M(fèi)0ALM0(鑰鋁鑰)薄膜，第一層MO (鑰)膜厚20nm±3nm，第二層AL (鋁)膜厚180nm±5nm，第三層MO (鑰)膜厚20nm±3nm ；
c)在黃光段涂布感光膠并烘烤堅(jiān)膜，涂布正性感光膠膜厚I.2um, 120°C烘烤IOmin ；
d)用曝光機(jī)曝光,曝光量60mj/cm2,時(shí)間2s,照度30mw/ cm2;
e)用堿液顯影；濃度為0.8%Na0H顯影時(shí)間80s ；
f)蝕刻出金屬圖形；
g)剝離感光膠；
h)形成的金屬圖形區(qū)域包括金屬邊框走線(xiàn)，金屬搭橋區(qū)域及l(fā)ogo(標(biāo)志)位置。本發(fā)明有益效果是0GS觸摸屏絲印logo (標(biāo)志)采用鍍金屬膜的方式一次完成，不需再絲印銀漿，采用鍍膜方式制作logo (標(biāo)志)，同樣具有金屬質(zhì)感，少一次絲印銀漿工序，良率會(huì)提高，成本會(huì)降低，具有很高的推廣價(jià)值。


圖I是本發(fā)明步驟a的示意 圖2是本發(fā)明步驟b的示意 圖3是本發(fā)明步驟c的示意 圖4是本發(fā)明步驟d的示意圖； 圖5是本發(fā)明步驟e的示意 圖6是本發(fā)明步驟f的示意 圖7是本發(fā)明步驟g的示意 圖8是本發(fā)明步驟h的示意圖。圖中001.金屬邊框走線(xiàn)，002.金屬搭橋，003. logo (標(biāo)志)位置；
具體實(shí)施例方式為了更清楚的理解本發(fā)明，結(jié)合附圖和實(shí)例詳細(xì)描述本發(fā)明
如圖I至圖8所示，單層玻璃電容式觸摸屏上金屬logo的方法，包括以下設(shè)計(jì)步驟
a)用平板清洗機(jī)刷洗干凈做好ITO(氧化銦錫)圖形的半成品；如圖I所示；
b)裝入連續(xù)式真空鍍膜機(jī)濺射鍍M0ALM0(鑰鋁鑰)薄膜；如圖2所示；
c)利用黃光段涂布設(shè)備涂好感光膠并120°C烘烤堅(jiān)膜；如圖3所示；
d)裝入光學(xué)MASK(掩膜版)曝光機(jī)曝光；如圖4所示；
e)用濃度為8%K0H堿液顯影；如圖5所示；
f)用配好的酸液蝕刻出金屬圖形,如圖6所示；
g)剝膜槽剝離感光膠；如圖7所示；
h)金屬圖形區(qū)域包括金屬邊框走線(xiàn)001，金屬搭橋002及l(fā)ogo(標(biāo)志)位置003;如圖8所示。根據(jù)上述說(shuō)明，結(jié)合本領(lǐng)域技術(shù)可實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的方案。
權(quán)利要求
1. 一種單層玻璃電容式觸摸屏上金屬I(mǎi)og0的制作方法，其特征在于包括以下設(shè)計(jì)步驟 a )清洗干凈已做好ITO圖形的觸摸屏半成品； b )采用真空濺射連續(xù)鍍金屬M(fèi)OALMO薄膜，第一層MO膜厚20nm±3nm，第二層AL膜厚180nm±5nm,第三層 MO 膜厚 20nm±3nm ； c )在黃光段涂布感光膠并烘烤堅(jiān)膜，涂布正性感光膠膜厚I. 2um, 120°C烘烤IOmin ； d )用曝光機(jī)曝光,曝光量60mj/cm2 ,時(shí)間2s,照度30mw/ cm2; e)用堿液顯影；濃度為O.8%Na0H顯影時(shí)間80s ； f))蝕刻出金屬圖形； g)剝離感光膠； h)形成的金屬圖形區(qū)域包括金屬邊框走線(xiàn)，金屬搭橋區(qū)域及l(fā)ogo位置。
全文摘要
本發(fā)明涉一種單層玻璃電容式觸摸屏上金屬logo的制作方法，包括以下設(shè)計(jì)步驟清洗干凈已做好ITO圖形的觸摸屏半成品、采用真空濺射連續(xù)鍍金屬M(fèi)OALMO薄膜、在黃光段涂布感光膠并烘烤堅(jiān)膜、用曝光機(jī)曝光、用堿液顯影、蝕刻出金屬圖形、剝離感光膠、形成的金屬圖形區(qū)域包括金屬邊框走線(xiàn)，金屬搭橋區(qū)域及l(fā)ogo(標(biāo)志)位置，有益效果是OGS觸摸屏絲印logo采用鍍金屬膜的方式一次完成，不需再絲印銀漿，同樣具有金屬質(zhì)感，少一次絲印銀漿工序，良率會(huì)提高，成本會(huì)降低，具有很高的推廣價(jià)值。
文檔編號(hào)G06F3/041GK102945096SQ20121046767
公開(kāi)日2013年2月27日 申請(qǐng)日期2012年11月19日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月19日
發(fā)明者郭元元, 李冬, 彭鈺 申請(qǐng)人:天津市中環(huán)高科技有限公司