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加速設(shè)計規(guī)則檢查的方法及裝置的制作方法

文檔序號:6437746閱讀:182來源:國知局
專利名稱:加速設(shè)計規(guī)則檢查的方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及集成電路設(shè)計自動化領(lǐng)域,更具體地說,涉及一種加速集成電路版圖設(shè)計規(guī)則檢查的方法及裝置。
背景技術(shù)
集成電路版圖的設(shè)計規(guī)則檢查(DRC,Design Rule Check)是集成電路設(shè)計中一個重要的環(huán)節(jié),其是在版圖設(shè)計完成之后,檢查設(shè)計好的版圖是否符合設(shè)計規(guī)則的步驟,通常地,設(shè)計規(guī)則例如最小間距規(guī)則、最小包含覆蓋重疊尺寸規(guī)則等等。隨著集成電路制造工藝進(jìn)入65-45nm工藝節(jié)點之后,由于曝光所用的光波長遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于物理版圖設(shè)計的理想圖形的尺寸和圖形之間的間距,光波的干涉和衍射效應(yīng)使得實際光刻產(chǎn)生的為物理圖形和物理版圖設(shè)計的理想圖形之間存在很大的差異,實際圖形的形狀和間距發(fā)生很大的變化,甚至影響電路的性能。為了確保電路的設(shè)計性能和集成電路制造的成品率,需要對設(shè)計的物理版形作更復(fù)雜的設(shè)計規(guī)則檢查,除了最小間距規(guī)則、最小包含覆蓋重疊尺寸規(guī)則等設(shè)計規(guī)則外, 還包括了復(fù)雜的基于圖形的設(shè)計規(guī)則檢查計算和基于復(fù)雜方程的設(shè)計規(guī)則檢查計算等,這樣的計算比較耗時間,隨著集成電路特征尺寸的縮小,設(shè)計規(guī)則變得更為復(fù)雜,集成電路版圖的設(shè)計規(guī)則檢查的需要的時間也會變長,影響了整個集成電路設(shè)計周期。此外,目前的集成電路設(shè)計在規(guī)模上呈現(xiàn)系統(tǒng)級芯片(SOC)和網(wǎng)絡(luò)級芯片(NOC) 趨勢,芯片上器件數(shù)達(dá)到億級、十億級、甚至百億量級,金屬互聯(lián)線的數(shù)量更在器件數(shù)量的幾倍以上,其對應(yīng)的物理版圖數(shù)據(jù)達(dá)到幾十個( (IO9比特),甚至幾百( ,在如此規(guī)模的物理版圖上進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查是一個很費(fèi)時間的任務(wù),在物理版圖設(shè)計-設(shè)計規(guī)則檢查-修正-再檢查-再修正這樣一個迭代過程中,設(shè)計規(guī)則檢查的速度是影響集成電路設(shè)計周期的重要因素之一。在設(shè)計規(guī)則日益復(fù)雜以及集成電路規(guī)模日益龐大的情形下,進(jìn)行全版圖的設(shè)計規(guī)則檢查是非常耗時的,因此,有必要提出一種集成電路設(shè)計版圖的設(shè)計規(guī)則檢查的方法和系統(tǒng),以有效提高集成電路設(shè)計版圖的設(shè)計規(guī)則檢查的效率,縮短集成電路設(shè)計的周期。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例提供一種加速設(shè)計規(guī)則檢查的方法及裝置,通過合并設(shè)計規(guī)則檢查任務(wù),減少集成電路版圖中設(shè)計規(guī)則檢查的數(shù)量,提高設(shè)計規(guī)則檢查的效率。為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明實施例提供了如下技術(shù)方案一種加速設(shè)計規(guī)則檢查的方法,包括將集成電路設(shè)計的版圖劃分為多個子區(qū)域;將幾何同構(gòu)的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中;對每個同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查;根據(jù)同構(gòu)列表中子區(qū)域間的幾何關(guān)系和已得到的子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果??蛇x地,所述將集成電路設(shè)計的版圖劃分為多個子區(qū)域的步驟包括將所述集成電路版圖劃分為M行XN列個矩形的內(nèi)區(qū)域;將所述內(nèi)區(qū)域的邊框向與其相鄰的內(nèi)區(qū)域延伸一部分形成外邊框區(qū)域,所述內(nèi)區(qū)域與外邊框區(qū)域構(gòu)成一個子區(qū)域。可選地,根據(jù)同構(gòu)列表中子區(qū)域間的幾何關(guān)系和已得到的子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果的步驟為根據(jù)同構(gòu)列表中子區(qū)域間的幾何關(guān)系和已得到的子區(qū)域中的內(nèi)區(qū)域部分的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域中的內(nèi)區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果??蛇x地,所述將幾何同構(gòu)的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中的步驟包括根據(jù)子區(qū)域內(nèi)的圖形的幾何數(shù)據(jù)之間是否存在幾何同構(gòu)關(guān)系,判斷各個子區(qū)域內(nèi)的圖形是否幾何同構(gòu),將幾何同構(gòu)關(guān)系的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中,所述幾何同構(gòu)關(guān)系包括相同、角度旋轉(zhuǎn)或鏡像??蛇x地,根據(jù)子區(qū)域內(nèi)的圖形的幾何數(shù)據(jù)之間是否存在幾何同構(gòu)關(guān)系,判斷各個子區(qū)域內(nèi)的圖形是否幾何同構(gòu),將幾何同構(gòu)關(guān)系的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中的步驟包括確定各子區(qū)域的原點;確定各子區(qū)域內(nèi)的圖形相對于原點的相對坐標(biāo);將各子區(qū)域內(nèi)的相對坐標(biāo)順序排列,以形成子區(qū)域內(nèi)圖形的幾何數(shù)據(jù);判斷各子區(qū)域間的幾何數(shù)據(jù)是否存在相同、角度旋轉(zhuǎn)、鏡像或平移的幾何同構(gòu)關(guān)系,若是幾何同構(gòu)關(guān)系,將幾何同構(gòu)的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中??蛇x地,將各子區(qū)域內(nèi)的相對坐標(biāo)順序排列,以形成子區(qū)域內(nèi)圖形的幾何數(shù)據(jù)的步驟包括按照掩膜層號將子區(qū)域劃分為具有不同掩膜層號的圖形子集合;逐一將各圖形子集合內(nèi)的相對坐標(biāo)順序排列,以形成子區(qū)域內(nèi)圖形的幾何數(shù)據(jù)??蛇x地,在對每個同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查之后,計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果之前,還包括步驟所述子區(qū)域內(nèi)沒有違反設(shè)計規(guī)則的幾何圖形,標(biāo)記所述子區(qū)域所在的同構(gòu)列表設(shè)計規(guī)則檢查為通過??蛇x地,以并行方式同時對每個同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查。可選地,對每個同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查,其中進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查的步驟包括檢查子區(qū)域內(nèi)各圖形本身是否符合設(shè)計規(guī)則;檢查子區(qū)域內(nèi)各圖形之間是否符合設(shè)計規(guī)則。此外,本發(fā)明還提供了一種加速設(shè)計規(guī)則檢查的裝置,包括版圖區(qū)域劃分單元,用于將集成電路設(shè)計的版圖劃分為多個子區(qū)域;區(qū)域同構(gòu)單元,用于將幾何同構(gòu)的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中;子區(qū)域設(shè)計規(guī)則檢查單元,用于對同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查;
設(shè)計規(guī)則結(jié)果復(fù)用單元,根據(jù)同構(gòu)列表中子區(qū)域間的幾何關(guān)系和已得到的子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果。與現(xiàn)有技術(shù)相比,上述技術(shù)方案具有以下優(yōu)點本發(fā)明實施例的設(shè)計規(guī)則檢查的方法,將設(shè)計版圖劃分為多個子區(qū)域后,對幾何同構(gòu)的子區(qū)域僅進(jìn)行一次設(shè)計規(guī)則檢查,其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查通過復(fù)用該子區(qū)域的檢查結(jié)果得到,而不用對整個版圖區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查,通過復(fù)用設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果, 減少了集成電路版圖中設(shè)計規(guī)則檢查的數(shù)量,進(jìn)而提高設(shè)計規(guī)則檢查的效率,縮短集成電路設(shè)計的周期。


通過附圖所示,本發(fā)明的上述及其它目的、特征和優(yōu)勢將更加清晰。在全部附圖中相同的附圖標(biāo)記指示相同的部分。并未刻意按實際尺寸等比例縮放繪制附圖,重點在于示出本發(fā)明的主旨。圖1為本發(fā)明的加速設(shè)計規(guī)則檢查的方法的流程圖;圖2為根據(jù)本發(fā)明實施例的子區(qū)域劃分方法的流程圖;圖3a_4為根據(jù)本發(fā)明實施例的子區(qū)域劃分的結(jié)構(gòu)示意圖;圖5根據(jù)本發(fā)明實施例的判斷幾何同構(gòu)的流程圖。
具體實施例方式為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂,下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
做詳細(xì)的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明,但是本發(fā)明還可以采用其他不同于在此描述的其它方式來實施,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似推廣,因此本發(fā)明不受下面公開的具體實施例的限制。正如背景技術(shù)中的描述,隨著工藝節(jié)點的進(jìn)入納米時代,設(shè)計規(guī)則越來越復(fù)雜,而且集成電路設(shè)計的規(guī)模越來越大,進(jìn)行全版圖的設(shè)計規(guī)則檢查變得非常耗時的,而設(shè)計規(guī)則檢查的速度是影響集成電路設(shè)計周期的重要因素之一,制約了設(shè)計效率的提高。而在集成電路物理設(shè)計版圖中,局部區(qū)域之間設(shè)計圖形有很大的相同性,這種相同性決定了局部區(qū)域之間的設(shè)計規(guī)則檢查的過程和結(jié)果的相同性,設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果的復(fù)用可以有效地減少復(fù)雜的仿真計算任務(wù),在不犧牲仿真精度的條件下提高芯片整體設(shè)計規(guī)則檢查速度。基于上述思想,為了提高設(shè)計規(guī)則檢查的速度,進(jìn)而縮短集成電路設(shè)計的周期,本發(fā)明提出了一種加速設(shè)計規(guī)則檢查的方法,所述方法包括將集成電路設(shè)計的版圖劃分為多個子區(qū)域;將幾何同構(gòu)的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中;對每個同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查;根據(jù)同構(gòu)列表中子區(qū)域間的幾何關(guān)系和已得到的子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果, 計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果。更優(yōu)地,可以以并行的方式同時對各同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查,以提高同構(gòu)列表間各子區(qū)域設(shè)計規(guī)則檢查的速度,更進(jìn)一步地提高設(shè)計規(guī)則檢查的速度。在本發(fā)明中,將集成電路設(shè)計的版圖劃分為多個子區(qū)域,對幾何同構(gòu)的子區(qū)域僅進(jìn)行一次設(shè)計規(guī)則檢查,其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查通過復(fù)用該子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果得到,從而減少了集成電路版圖中設(shè)計規(guī)則檢查的數(shù)量,進(jìn)而提高設(shè)計規(guī)則檢查的效率,縮短集成電路設(shè)計的周期。以上對本發(fā)明的技術(shù)方案和效果進(jìn)行了描述,為了更好地理解本發(fā)明,以下將結(jié)合本發(fā)明的方法的流程圖對具體的實施例進(jìn)行詳細(xì)的描述。如圖1所示,為本發(fā)明的加速設(shè)計規(guī)則檢查的方法流程圖。在步驟S101,將集成電路設(shè)計的版圖劃分為多個子區(qū)域。所述集成電路設(shè)計的版圖可以為多層金屬層的設(shè)計版圖的集合或其他多層設(shè)計版圖,也可以為單層金屬層的設(shè)計版圖。對于多層金屬層的設(shè)計版圖,每層的金屬層通常都具有相應(yīng)的掩膜層號,每個子區(qū)域內(nèi)包括多個金屬層的設(shè)計版圖。對于單層金屬層的設(shè)計版圖,每個子區(qū)域內(nèi)僅包括一個金屬層的設(shè)計版圖,即一個掩膜層號的設(shè)計版圖。在本實施例中,如圖2所示,將該所述子區(qū)域的劃分包括以下步驟首先,在步驟S10101,將所述集成電路版圖劃分為M行XN列個矩形的內(nèi)區(qū)域。通常地,集成電路版圖設(shè)計為一個矩形或方形的區(qū)域,在本實施例中,將該集成電路版圖的區(qū)域用矩形方框框起來之后,參考圖3a所示,將該方框進(jìn)行行、列劃分,這些行和列將該版圖區(qū)域劃分為M行XN列個矩形的內(nèi)區(qū)域A(m,n),l彡m彡M,l彡n彡N,參考圖 3b所示。而后,在步驟S10102,將所述內(nèi)區(qū)域的邊框向與其相鄰的內(nèi)區(qū)域延伸一部分形成外邊框區(qū)域,所述內(nèi)區(qū)域與外邊框區(qū)域構(gòu)成一個子區(qū)域。參考圖4所示,以其中一個內(nèi)區(qū)域A(m,n)為例,在上述內(nèi)區(qū)域劃分的基礎(chǔ)上,將內(nèi)區(qū)域A(m,n)的邊框向與該內(nèi)邊框相鄰的內(nèi)區(qū)域六(111-1,11)、六(111+1,11)、六(111,11-1)、六(111,11+1) 延伸一部分,形成該內(nèi)區(qū)域A(m,η)的外邊框區(qū)域B(m,n),從而形成了由內(nèi)區(qū)域A(m,η)和外邊框區(qū)域B(m,n)構(gòu)成的子區(qū)域C(m,n)。此處僅以中心的內(nèi)區(qū)域為例進(jìn)行說明本實施例子區(qū)域的劃分方法,應(yīng)當(dāng)知道的是,對于其他周邊的內(nèi)區(qū)域部分,僅向相鄰的內(nèi)區(qū)域延伸, 而不會超出版圖的區(qū)域。由于子區(qū)域具有該外邊框區(qū)域,在進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查時,可以針對整個子區(qū)域。在步驟S102,將幾何同構(gòu)的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中??梢愿鶕?jù)子區(qū)域內(nèi)的圖形的幾何數(shù)據(jù)之間是否存在幾何同構(gòu)關(guān)系,來判斷各個子區(qū)域內(nèi)的圖形是否幾何同構(gòu),幾何同構(gòu)關(guān)系例如幾何數(shù)據(jù)為相同或存在角度旋轉(zhuǎn)或鏡像寸。在本發(fā)明中,幾何同構(gòu)是指同一個子區(qū)域內(nèi)的幾何圖形相比,另一個子區(qū)域內(nèi)的幾何圖形與其完全吻合,或者是另一個子區(qū)域內(nèi)的幾何圖形通過角度旋轉(zhuǎn)或鏡像變換后, 與其完全吻合。在本實施例中,如圖5所示,通過以下步驟來判斷各個子區(qū)域內(nèi)的圖形是否幾何同構(gòu)首先,在步驟S10201,確定各子區(qū)域的原點。
在設(shè)計版圖中,每個圖形都有在版圖中的坐標(biāo),后續(xù)稱作版圖坐標(biāo),在本實施例中,通過遍歷子區(qū)域內(nèi)的圖形,找到圖形版圖坐標(biāo)最小的X坐標(biāo)值Xmin和最小Y坐標(biāo)值 Ymin,以(Xmin,Ymin)作為該子區(qū)域的原點。而后,在步驟S10202,確定各子區(qū)域內(nèi)的圖形相對于原點的相對坐標(biāo)。也就是將子區(qū)域的圖形的版圖坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為相對于所述原點的子區(qū)域坐標(biāo),若圖形的版圖坐標(biāo)為(Xold,Yold),則相對于所述原點的子區(qū)域的相對為(Xnew = Xold-Xmin, Ynew = Yold-Ymin)。確定每一個子區(qū)域的原點,以及每一個子區(qū)域內(nèi)的圖形相對于該子區(qū)域原點的坐標(biāo),這樣,就得到了每一個子區(qū)域內(nèi)圖形的相對坐標(biāo)。而后,在步驟S10203,按照一定規(guī)則將各子區(qū)域內(nèi)的相對坐標(biāo)順序排列,以形成子區(qū)域內(nèi)圖形的幾何數(shù)據(jù)。在本實施例中,對于多層金屬層的設(shè)計版圖,首先,分別處理各個子區(qū)域,對子區(qū)域內(nèi)的幾何圖形,按照幾何圖形所在的掩模層號對幾何圖形進(jìn)行分類,即,將具有相同掩膜層號的圖形的相對坐標(biāo)置于同一個圖形子集合中,從而將子區(qū)域分成若干具有不同掩膜層號的圖形子集合,并對這些圖形子集合按照掩模層號進(jìn)行排序。而后,分別處理各個子區(qū)域內(nèi)的圖形子集合,對子區(qū)域內(nèi)的幾何圖形,按照幾何圖形所在的掩模層號,逐一對圖形子集合內(nèi)的幾何圖形進(jìn)行排序,具體做法是,以圖形子集合內(nèi)的圖形的相對坐標(biāo)對這些圖形進(jìn)行排序,得到圖形子集合的排序后的圖形序列,從而形成子區(qū)域內(nèi)圖形的幾何數(shù)據(jù)。更具體地,對于同一掩膜層號的圖形子集合的排序的方法可以為根據(jù)子區(qū)域內(nèi)各圖形子集合內(nèi)圖形的相對坐標(biāo)值,對每一圖形子集合內(nèi)圖形的最小X坐標(biāo)值從小到大順序排序,對最小X值相同的圖形按照最小Y坐標(biāo)值從小到大的順序排序,對最小χ坐標(biāo)值和最小Y坐標(biāo)值均相同的圖形按照次最小X坐標(biāo)值從小到大順序排序,對最小X坐標(biāo)值、最小 Y坐標(biāo)值和次最小X坐標(biāo)值均相同的圖形按照次最小Y坐標(biāo)值從小到大順序排序,以此類推,直至子區(qū)域內(nèi)的全部圖形子集合的圖形的順序完全確定,從而在每個子區(qū)域內(nèi)圖形的坐標(biāo)按照相同規(guī)則排序后,子區(qū)域內(nèi)圖形的坐標(biāo)成為可以比較的幾何數(shù)據(jù)。對于單層金屬層的設(shè)計版圖,可以僅通過該圖形子集合的排序的方法進(jìn)行子區(qū)域的排序,以形成子區(qū)域內(nèi)圖形的幾何數(shù)據(jù)。而后,在步驟S10204,判斷各子區(qū)域間的幾何數(shù)據(jù)是否存在相同、角度旋轉(zhuǎn)或鏡像的幾何同構(gòu)關(guān)系,若是幾何同構(gòu)關(guān)系,將幾何同構(gòu)的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中。將上述子區(qū)域的圖形的幾何數(shù)據(jù)進(jìn)行對應(yīng)匹配,可以首先判斷每兩個子區(qū)域間對應(yīng)點的坐標(biāo)值相同,則這兩個子區(qū)域為相同的圖形,在幾何上是相同幾何關(guān)系的直接同構(gòu), 若不相同,繼續(xù)判斷是否存在其他的幾何同構(gòu)關(guān)系。在一個實施例中,具體地,兩個子區(qū)域進(jìn)行是否存在相同的幾何關(guān)系判斷時,可以將一個子區(qū)域的圖形的幾何數(shù)據(jù)進(jìn)行幾何變換,如不同角度的旋轉(zhuǎn)、相對于某個軸的鏡像等,在一個具體的實施例中,對該子區(qū)域進(jìn)行幾何變換為(MNR90,麗R180,MNR270, MXRO, MXR90, MXR180, MXR270, MYRO,MYR90, MYR180, MYR270),其中 MN 表示無鏡像,MX 表示 X 軸鏡像,MY表示Y軸鏡像,RO表示逆時針旋轉(zhuǎn)0度,R90表示逆時針旋轉(zhuǎn)90度,R180表示逆時針旋轉(zhuǎn)180度,R270表示逆時針旋轉(zhuǎn)270度,對幾何變換后的數(shù)據(jù)執(zhí)行上述步驟S10201-S10203后,與另一個子區(qū)域的圖形的幾何數(shù)據(jù)進(jìn)行對應(yīng)匹配,判斷變換后的子區(qū)域與另一個子區(qū)域是否直接同構(gòu),若是,則這兩個子區(qū)域是間接幾何同構(gòu)的,同時記錄下相對應(yīng)的幾何關(guān)系,對所有子區(qū)域之間進(jìn)行上述是否幾何同構(gòu)的判斷,并將具有幾何同構(gòu)關(guān)系的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中。這樣,就構(gòu)造出了多個同構(gòu)列表,每個同構(gòu)列表中包含了多個具有幾何同構(gòu)關(guān)系的子區(qū)域,并記錄有子區(qū)域間的幾何同構(gòu)關(guān)系。在步驟S103,對每個同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查。在本發(fā)明中,僅從同構(gòu)列表中選取個別的子區(qū)域作為設(shè)計規(guī)則檢查操作的對象進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查,若該區(qū)域設(shè)計規(guī)則檢查后,沒有發(fā)現(xiàn)違反設(shè)計規(guī)則的幾何圖形及其位置, 則結(jié)束對該同構(gòu)列表中其他區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查,直接標(biāo)識同構(gòu)列表中其他區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查通過,否則,對其他未進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查的子區(qū)域,可以根據(jù)該同構(gòu)列表中子區(qū)域間的幾何關(guān)系,對已得到的子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查結(jié)果,即該子區(qū)域內(nèi)違反設(shè)計規(guī)則的幾何圖形及其位置,進(jìn)行幾何運(yùn)算后得到本區(qū)域內(nèi)違反設(shè)計規(guī)則的幾何圖形及其位置,這樣,相對于現(xiàn)有技術(shù)中,對整個版圖都進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查操作相比,大大減小了計算量,提高了設(shè)計規(guī)則檢查的效率。更優(yōu)選地,在從每個同構(gòu)列表中選出一個子區(qū)域作為該同構(gòu)列表的設(shè)計規(guī)則檢查的對象,并且可以通過并行的方式,利用更多的計算資源,同時對各個檢查對象的子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查,更進(jìn)一步地提高設(shè)計規(guī)則檢查的效率。在本發(fā)明中,可以利用現(xiàn)有的設(shè)計規(guī)則的檢查方法對每個同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查。在本實施例中,對每個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查時,可以通過檢查子區(qū)域內(nèi)各圖形本身是否符合設(shè)計規(guī)則和檢查子區(qū)域內(nèi)各圖形之間是否符合設(shè)計規(guī)則來實現(xiàn)。具體地,首先,可以檢查子區(qū)域內(nèi)的各圖形自身是否符合設(shè)計規(guī)則。設(shè)計規(guī)則例如,最小尺寸設(shè)計規(guī)則、固定圖形尺寸規(guī)則等等,也就是要檢查圖形的尺寸是否大于指定的最小尺寸設(shè)計規(guī)則、是否等于指定的固定圖形尺寸等等。而后,可以檢查子區(qū)域內(nèi)各圖形之間是否符合設(shè)計規(guī)則。首先根據(jù)子區(qū)域內(nèi)圖形之間的位置鄰近關(guān)系確定需要檢查的圖形組,然后根據(jù)圖形組中圖形所在的層次確定需要檢查的設(shè)計規(guī)則,再根據(jù)需要檢查的設(shè)計規(guī)則對圖形組內(nèi)的圖形之間進(jìn)行對應(yīng)設(shè)計規(guī)則的檢查,設(shè)計規(guī)則例如,最小間距設(shè)計規(guī)則、最小包含覆蓋重疊尺寸規(guī)則等等。對于以上檢查,將記錄子區(qū)域內(nèi)違反設(shè)計規(guī)則的圖形,也即該子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,該設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果作為后續(xù)步驟中其他子區(qū)域設(shè)計規(guī)則檢查結(jié)果的計算基礎(chǔ),也是后續(xù)設(shè)計人員進(jìn)行版圖修正的依據(jù)。對于區(qū)域內(nèi)具體的設(shè)計規(guī)則檢查算法,可以采用現(xiàn)有技術(shù)中的任何方法進(jìn)行,本發(fā)明不做任何限制,通常地,其基本思想是點到幾何線段的最小距離計算、幾何線段之間的最小距離計算、圖形對點的包含關(guān)系計算等;為了加速設(shè)計規(guī)則檢查的計算,可以在點的選擇、線段的選擇、線段退化成幾個典型點等問題上進(jìn)行技巧性的變化。以上設(shè)計規(guī)則的內(nèi)容及設(shè)計規(guī)則的檢查步驟僅為示例,本發(fā)明對此不做限制,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以采用任何設(shè)計規(guī)則和設(shè)計規(guī)則的檢查方法來實現(xiàn)子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查。此外,本實施例中,在進(jìn)行子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查時,是對整個子區(qū)域進(jìn)行的,也就是說對內(nèi)區(qū)域和外區(qū)域進(jìn)行的設(shè)計規(guī)則檢查,充分考慮了外邊框區(qū)域的圖形(相鄰內(nèi)區(qū)域部分)對內(nèi)區(qū)域邊緣區(qū)的影響。在步驟S104,根據(jù)同構(gòu)列表中子區(qū)域間的幾何關(guān)系和已得到的子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果。對于同構(gòu)序列中其他還沒有進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查的子區(qū)域,可以通過復(fù)用已得到的子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果進(jìn)行計算得到,在本實施例中,僅復(fù)用已得到的子區(qū)域中的內(nèi)區(qū)域部分的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,具體地,根據(jù)已經(jīng)得到的該同構(gòu)序列中子區(qū)域中內(nèi)區(qū)域部分的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,以及記錄的與已進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查的子區(qū)域的幾何關(guān)系, 計算得到同構(gòu)序列中其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果。通過復(fù)用同構(gòu)列表中個別子區(qū)域的檢查結(jié)果得到整個版圖的設(shè)計規(guī)則檢查結(jié)果, 而不用對整個版圖區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查,通過復(fù)用設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,減少了集成電路版圖中設(shè)計規(guī)則檢查的數(shù)量,進(jìn)而提高設(shè)計規(guī)則檢查的效率。至此,得到了所有子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,而后,若無違反設(shè)計規(guī)則的圖形,則可以根據(jù)需要進(jìn)行后續(xù)的仿真步驟,否則需要,根據(jù)設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果進(jìn)行版圖修正等操作。此外,本發(fā)明還提供了實現(xiàn)上述設(shè)計規(guī)則檢查的裝置,包括版圖區(qū)域劃分單元,用于將集成電路設(shè)計的版圖劃分為多個子區(qū)域;區(qū)域同構(gòu)單元,用于將幾何同構(gòu)的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中;子區(qū)域設(shè)計規(guī)則檢查單元,用于對同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查;設(shè)計規(guī)則結(jié)果復(fù)用單元,根據(jù)同構(gòu)列表中子區(qū)域間的幾何關(guān)系和已得到的子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果。以上所述,僅是本發(fā)明的較佳實施例而已,并非對本發(fā)明作任何形式上的限制。雖然本發(fā)明已以較佳實施例披露如上,然而并非用以限定本發(fā)明。任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下,都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對本發(fā)明技術(shù)方案作出許多可能的變動和修飾,或修改為等同變化的等效實施例。因此, 凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾,均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種加速設(shè)計規(guī)則檢查的方法,其特征在于,包括將集成電路設(shè)計的版圖劃分為多個子區(qū)域;將幾何同構(gòu)的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中;對每個同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查;根據(jù)同構(gòu)列表中子區(qū)域間的幾何關(guān)系和已得到的子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述將集成電路設(shè)計的版圖劃分為多個子區(qū)域的步驟包括將所述集成電路版圖劃分為M行XN列個矩形的內(nèi)區(qū)域;將所述內(nèi)區(qū)域的邊框向與其相鄰的內(nèi)區(qū)域延伸一部分形成外邊框區(qū)域,所述內(nèi)區(qū)域與外邊框區(qū)域構(gòu)成一個子區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,根據(jù)同構(gòu)列表中子區(qū)域間的幾何關(guān)系和已得到的子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果的步驟為根據(jù)同構(gòu)列表中子區(qū)域間的幾何關(guān)系和已得到的子區(qū)域中的內(nèi)區(qū)域部分的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域中的內(nèi)區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述將幾何同構(gòu)的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中的步驟包括根據(jù)子區(qū)域內(nèi)的圖形的幾何數(shù)據(jù)之間是否存在幾何同構(gòu)關(guān)系,判斷各個子區(qū)域內(nèi)的圖形是否幾何同構(gòu),將幾何同構(gòu)關(guān)系的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中,所述幾何同構(gòu)關(guān)系包括相同、角度旋轉(zhuǎn)或鏡像。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,根據(jù)子區(qū)域內(nèi)的圖形的幾何數(shù)據(jù)之間是否存在幾何同構(gòu)關(guān)系,判斷各個子區(qū)域內(nèi)的圖形是否幾何同構(gòu),將幾何同構(gòu)關(guān)系的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中的步驟包括確定各子區(qū)域的原點;確定各子區(qū)域內(nèi)的圖形相對于原點的相對坐標(biāo);將各子區(qū)域內(nèi)的相對坐標(biāo)順序排列,以形成子區(qū)域內(nèi)圖形的幾何數(shù)據(jù);判斷各子區(qū)域間的幾何數(shù)據(jù)是否存在相同、角度旋轉(zhuǎn)、鏡像或平移的幾何同構(gòu)關(guān)系,若是幾何同構(gòu)關(guān)系,將幾何同構(gòu)的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,將各子區(qū)域內(nèi)的相對坐標(biāo)順序排列,以形成子區(qū)域內(nèi)圖形的幾何數(shù)據(jù)的步驟包括按照掩膜層號將子區(qū)域劃分為具有不同掩膜層號的圖形子集合;逐一將各圖形子集合內(nèi)的相對坐標(biāo)順序排列,以形成子區(qū)域內(nèi)圖形的幾何數(shù)據(jù)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在對每個同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查之后,計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果之前,還包括步驟所述子區(qū)域內(nèi)沒有違反設(shè)計規(guī)則的幾何圖形,標(biāo)記所述子區(qū)域所在的同構(gòu)列表設(shè)計規(guī)則檢查為通過。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項所述的方法,其特征在于,以并行方式同時對每個同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項所述的方法,其特征在于,對每個同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查,其中進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查的步驟包括 檢查子區(qū)域內(nèi)各圖形本身是否符合設(shè)計規(guī)則; 檢查子區(qū)域內(nèi)各圖形之間是否符合設(shè)計規(guī)則。
10. 一種加速設(shè)計規(guī)則檢查的裝置,其特征在于,包括 版圖區(qū)域劃分單元,用于將集成電路設(shè)計的版圖劃分為多個子區(qū)域; 區(qū)域同構(gòu)單元,用于將幾何同構(gòu)的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中; 子區(qū)域設(shè)計規(guī)則檢查單元,用于對同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查; 設(shè)計規(guī)則結(jié)果復(fù)用單元,根據(jù)同構(gòu)列表中子區(qū)域間的幾何關(guān)系和已得到的子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種加速設(shè)計規(guī)則檢查的方法,包括將集成電路設(shè)計的版圖劃分為多個子區(qū)域;將幾何同構(gòu)的子區(qū)域置于同一個同構(gòu)列表中;對每個同構(gòu)列表中的至少一個子區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查;根據(jù)同構(gòu)列表中子區(qū)域間的幾何關(guān)系和已得到的子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,計算得到同構(gòu)列表中其他子區(qū)域的設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果。通過復(fù)用設(shè)計規(guī)則檢查的結(jié)果,不用對整個版圖區(qū)域進(jìn)行設(shè)計規(guī)則檢查,減少了集成電路版圖中設(shè)計規(guī)則檢查的數(shù)量,進(jìn)而提高設(shè)計規(guī)則檢查的速度,縮短集成電路設(shè)計的周期。
文檔編號G06F17/50GK102346800SQ201110351640
公開日2012年2月8日 申請日期2011年11月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月8日
發(fā)明者葉甜春, 吳玉平, 陳嵐 申請人:中國科學(xué)院微電子研究所
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